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유리/ITO 전극 기판 위에 금속 시드층을 형성하는 단계와; 상기 금속 시드층 위에 감광성 수지층을 도포하는 단계와; 상기 감광성 수지층을 노광 및 현상하여 패턴화하는 단계와; 상기 패턴화된 감광성 수지층 사이로 노출된 금속 시드층 위에 금속전극을 전기 도금하는 단계와; 상기 감광성 수지층을 제거하는 단계와; 상기 금속 시드층을 식각하는 단계를 포함하는 전기 도금법에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 버스 전극의 제조 방법에 있어서,상기 금속 시드층은 무전해 도금법에 의해 형성되며, 금속 시드층 형성 시 환원제로서 0
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제 1 항에 있어서,상기 도금액은 pH 6~12, 온도 70~90℃인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 금속 버스 전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 무전해 도금법은 4분~8분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 금속 버스 전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 시드층을 식각하는 단계는,5~10%의 황산과 3~5%의 과산화수소수와 0
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 시드층을 식각하는 단계는,5~10%의 황산과 3~5%의 과산화수소수와 0
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