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1
하기 화학식 1로 표시되는 다치환 테트라-하이드로퓨란 화합물:
[화학식 1]
R1 및 R2는 C1 내지 C20의 알킬, C6 내지 C9의 알릴 또는 C6 내지 C9의 아르알킬이다
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2
제 1항에 있어서,
상기 R1 은 PhCH2CH2, n-C5H11, Me, Me2CH 및 Ph로 이루어진 군에서 선택되고, 상기 R2는 PhCH2CH2, Me, ClCH2, 및 Me2CH로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 다치환 테트라-하이드로퓨란 화합물
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3
제 1항에 있어서,
상기 화학식 1의 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물로부터 제조되는 것을 특징으로 하는 다치환 테트라-하이드로퓨란 화합물:
[화학식 2]
여기서, R1은 상기 화학식 1에서 정의된 바와 같다
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4
제 1항에 따른 화학식 1의 화합물로부터 유도되는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 3 내지 화학시 5로 표시되는 다치환 테트라-하이드로퓨란 화합물:
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
상기 화학식 3 내지 5에서 R1 및 R2는 상기 화학식 1에서 정의된 바와 같다
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| 5 |
5
(a) 화학식 2로 표시되는 출발물질을 용매에 혼합하여 용해하는 단계, (b) 하기 화학식 6으로 표시되는 촉매 및 화학식 7로 표시되는 화합물을 반응기에 투입하여 중간체를 형성하는 단계, 및 (c) 하기 화학식 8 및 9로 표시되는 화합물을 반응기에 투입하여 반응을 완성시키는 단계를 포함하는 다치환 테트라- 하이드로퓨란 화합물의 제조방법:
[화학식 6]
[화학식 7]
[화학식 8]
여기서, R2는 상기 화학식 1에서 정의된 바와 같다
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| 6 |
6
제 5항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 사용되는 용매는 테트라하이드로퓨란인 것을 특징으로 하는 다치환 테트라-하이드로퓨란 화합물의 제조방법
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| 7 |
7
제 5항에 있어서,
상기 (b) 단계는 -10 ~ 10 ℃에서 2 ~ 4 시간 동안 반응시키는 것을 특징으로 하는 다치환 테트라- 하이드로퓨란 화합물의 제조방법
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8
제 5항에 있어서,
상기 화학식 7로 표시되는 화합물의 첨가량은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물에 대하여 0
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| 9 |
9
제 5항에 있어서,
상기 (c) 단계는 -90 ~ -60 ℃에서 3 ~ 5 시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 다치환 테트라- 하이드로퓨란 화합물의 제조방법
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10
제 5항에 있어서,
상기 화학식 9로 표시되는 화합물의 첨가량은 화학식 2로 표시되는 화합물에 대하여 1 ~ 2 당량인 것을 특징으로 하는 다치환 테트라- 하이드로퓨란 화합물의 제조방법
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| 11 |
11
제1항에 따른 화합물을 CH2Cl2하에 NIS (N-Iodosuccinimide)와 혼합하여 온도를 변화시키면서 반응을 진행하는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 제조방법:
[화학식 3]
여기서, R1 및 R2는 상기 화학식 1에서 정의된 바와 같다
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12
제 11항에 있어서,
상기 반응은 (1) -85 ~ -70 ℃에서 진행시키는 단계, (2) -45 ~ -35 ℃에서 진행시키는 단계, 및 (3) 상온에서 진행시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 제조방법:
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13
제 11항에 따라 제조된 화학식 3으로 표시되는 화합물을 팔라듐촉매 하에 카보닐화 반응시키는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법:
[화학식 4]
여기서, R1 및 R2는 상기 화학식 1에서 정의된 바와 같다
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14
제 13항에 따라 제조된 화학식 4로 표시되는 화합물을 강염기 NaHMDS (Sodium hexamethyldisilazide) 조건에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 5로 표시되는 화합물의 제조방법:
[화학식 5]
여기서, R1 및 R2는 상기 화학식 1에서 정의된 바와 같다
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