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신규한 디아자 헤테로고리 유도체 및 그의 고체상 제조방법

  • 기술번호 : KST2015159325
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 신규한 디아자 헤테로고리 유도체 및 그의 고체상 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 브로모아세탈 수지 고체상을 출발물질로 하여 아미노산과 다양한 유도체를 반응시킨 후 산성 조건에서 픽텟-스펭글러(Pictet-Spengler) 메커니즘을 이용하여 일용기반응(one-pot reaction)에서 고체상에서의 탈착과 목적 화합물을 얻는 것을 특징으로 한다.
Int. CL C07D 487/08 (2006.01) C07D 487/18 (2006.01)
CPC C07D 487/18(2013.01) C07D 487/18(2013.01) C07D 487/18(2013.01)
출원번호/일자 1020060032908 (2006.04.11)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0712667-0000 (2007.04.23)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070502) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.04.11)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박승범 대한민국 서울 관악구
2 이승찬 대한민국 경기 수원시 권선구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한양특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 한양빌딩 (도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주)스파크바이오파마 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.04.11 수리 (Accepted) 1-1-2006-0251339-92
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.12.27 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2007-0005808-33
4 등록결정서
Decision to grant		 2007.01.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0040881-15
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 디아자 헤테로고리 유도체
2 2
제 1항에 있어서, 상기 화학식 1에서R1은 수소;메톡시, 테트라히드로퓨란, 페닐, 및 F, Cl, Br, CF3 또는 메톡시로 치환된 페닐로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C1~C8의 직쇄 또는 측쇄 알킬;메톡시, 테트라히드로퓨란, 페닐, 및 F, Cl, Br, CF3 또는 메톡시로 치환된 페닐로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C2~C8의 알케닐; 또는메톡시, 테트라히드로퓨란, 페닐, 및 F, Cl, Br, CF3 또는 메톡시로 치환된 페닐로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C2~C8의 알키닐이며,X는 CO, SO2 또는 CH2 이고,R3는 C1~C8의 직쇄 또는 측쇄 알킬; C5~C20의 시클로헤테로고리; F, Cl 또는 Br로 치환된 페닐; 페닐, 나프틸, 및 F, Cl 또는 Br로 치환된 페닐로 이루어진 군으로부터 선택된 기로 치환된 C1~C8의 직쇄 또는 측쇄 알킬; 페닐, 나프틸, 및 F, Cl 또는 Br로 치환된 페닐로 이루어진 군으로부터 선택된 기로 치환된 C2~C8의 알케닐; 페닐, 나프틸, 및 F, Cl 또는 Br로 치환된 페닐로 이루어진 군으로부터 선택된 기로 치환된 C2~C8의 알키닐; 또는 NA1A2이며,여기서, A1 또는 A2는 서로 독립적으로 동일하거나 상이하며, 수소; 페닐로 치환 또는 비치환된 C1~C8의 직쇄 또는 측쇄 알킬; C2~C8의 알케닐; 또는 F, Cl, Br, C1~C4의 알킬 또는 C1~C4의 알콕시로 치환된 페닐이고,Ar은 인돌 또는 디히드록시 페닐인 디아자 헤테로고리 유도체
3 3
1) 브로모 아세탈 레진(2)을 일차 아민 화합물과 반응시켜 이차 아민 화합물(3)을 제조하는 단계,2) 상기 이차 아민 화합물(3)을 보호기가 있는 아미노산 유도체와 축합반응시켜 화합물(4)를 제조하는 단계,3) 상기 2)단계에서 제조한 화합물(4)를 피페리딘과 반응시켜 보호기를 제거하고, R2 화합물과 반응시켜 화합물(5)를 제조하는 단계, 및4) 상기 화합물(5)를 포름산과 반응시켜 분자 내 고리화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 하기 반응식 1로 표시되는 디아자 헤테로고리 유도체의 고체상 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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1 WO2007117053 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2007117053 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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