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무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스 및 그의제조방법

  • 기술번호 : KST2015178556
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 실리콘 웨이퍼 상에 1층 또는 2층 이상의 무기산화물 박막이 형성되어 있는 복합 매트릭스 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 고분자 용액에 무기산화물을 첨가하여 이들을 혼합 또는 합성시켜 제조한 방사용 졸(Zol) 용액을 실리콘 웨이퍼의 표면상에 전기방사한 다음, 이를 소결처리 하여 상기 복합 매트릭스를 제조한다.상기 무기산화물 박막이 2층 이상인 경우에는 서로 인접하는 무기산화물 박막의 종류는 서로 상이하다.본 발명에 따른 복합 매트릭스는 화학적인 에칭공정 없이도 실리콘 웨이퍼의 표면이 개질되어 세포 배양 재료, 각종 임플랜트 재료, 센서 재료, 건축 재료, 자동차 재료 등으로 유용하다.전기방사, 나노섬유, 무기산화물, 복합 매트릭스, 실리콘 웨이퍼, 나노섬유, 나노입자.
Int. CL B32B 18/00 (2006.01.01) B05D 7/00 (2006.01.01) B05D 1/38 (2006.01.01) B05D 3/02 (2006.01.01) C09D 1/00 (2006.01.01)
CPC B32B 18/00(2013.01) B32B 18/00(2013.01) B32B 18/00(2013.01) B32B 18/00(2013.01) B32B 18/00(2013.01) B32B 18/00(2013.01) B32B 18/00(2013.01)
출원번호/일자 1020070090501 (2007.09.06)
출원인 전북대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2009-0025557 (2009.03.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.09.06)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김학용 대한민국 전북 전주시 덕진구
2 아리알 산토쉬 네팔 전라북도 전주시 덕진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조활래 대한민국 서울특별시 서초구 논현로 **, B동 ****호(양재동, 삼호물산빌딩)(조활래특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.09.06 수리 (Accepted) 1-1-2007-0648685-19
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.08.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.09.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0056679-58
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.12.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0641128-73
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0005334-19
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2009.06.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0261882-02
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2010-5245806-20
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5206243-46
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2016-5013206-34
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
고분자 용액에 무기산화물을 첨가하여 이들을 혼합 또는 합성시켜 제조한 방사용 졸(Zol) 용액을 실리콘 웨이퍼의 표면상에 전기방사한 다음, 이를 소결처리 하는 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 무기산화물 박막을 구성하는 무기산화물은 직경이 1,000㎚ 이하인 입자 및 섬유 중에서 선택된 1종의 형태인 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 실리콘 웨이퍼의 표면상에 방사용 졸(Zol) 용액을 1차 전기방사후 이를 소결처리하여 상기 웨이퍼 상에 무기산화물 박막을 형성한 다음, 다시 실리콘 웨이퍼 상에 형성된 상기의 무기산화물 박막 위에 1차 전기방사시 사용된 방사용 졸(Zol) 용액과 종류가 상이한 방사용 졸(Zol) 용액을 2차 전기방사후 이를 소결처리하는 공정을 1회 이상 반복 실시하는 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 실리콘 웨이퍼의 표면상에 서로 다른 종류의 방사용 졸(Zol) 용액을 교호로 2회 이상 전기방사한 다음, 이들을 동시에 소결처리 하는 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스의 제조방법
5 5
제1항, 제3항 또는 제4항에 있어서, 고분자는 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세테이트 및 폴리비닐프로리돈 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 무기산화물이 하이드록시 아파타이트(Hydroxy apatite : 수산화 인회석)인 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스의 제조방법
7 7
제6항에 있어서, 고분자 용액 내에 칼슘글리세롤 인산과 칼슘아세테이트를 첨가하여 하이드록시 아파타이트(HA)를 형성하는 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스의 제조방법
8 8
제1항의 방법으로 제조되어 실리콘 웨이퍼의 표면상에 무기산화물 박막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스
9 9
제8항에 있어서, 무기산화물 박막을 구성하는 무기산화물은 직경이 1,000㎚ 이하인 입자 및 섬유중에서 선택된 1종의 형태인 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스
10 10
제8항에 있어서, 무기산화물 박막이 2층 이상인 것을 특징으로 하는 무기산화물 박막을 포함하는 복합 매트릭스
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.