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대상체 상에 박막을 형성하는 방법에 있어서,플라즈마를 이용한 화학기상증착 및 레이저를 이용하여 제1박막을 형성하는 제1 모드와;플라즈마를 이용한 화학기상증착으로 제2박막을 형성하는 제2모드를 포함하는 박막형성방법
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제1항에 있어서,상기 레이저는 상기 대상체의 상부에서 상기 대상체에 평행하게 조사되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제2항에 있어서,상기 레이저는 면상이며 상기 대상체의 상부에서 상기 대상체와 마주하며 상기 대상체에 평행하게 조사되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제2항에 있어서,상기 박막의 두께기준 형성속도는 상기 제2모드가 상기 제1모드보다 빠른 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제4항에 있어서,상기 제1모드와 상기 제2모드는 적어도 2회 이상 반복되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제4항에 있어서,상기 제1모드가 먼저 수행되고 상기 제2모드가 수행되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제4항에 있어서,상기 제1모드와 상기 제2모드의 1회 교대수행으로 상기 박막이 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2모드에 의해 두께기준으로 상기 박막의 적어도 40%가 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제7항에 있어서,상기 제2모드에 의해 두께기준으로 상기 박막의 적어도 60%가 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2모드의 공정온도는 상기 제1모드의 공정온도보다 높은 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 박막은 SiNx, SiOx 및 Al2O3 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 대상체는 OLED소자를 포함하며, 상기 박막은 상기 OLED소자를 봉지하는 것을 특징으로 하는 박막형성방법
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디스플레이 장치에 있어서,기판과;상기 기판 상에 형성되어 있는 표시소자와;상기 표시소자 상에 형성되어 있는 박막을 포함하며,상기 박막은 제1치밀도를 가지는 제1박막과 상기 제1치밀도보다 낮은 제2치밀도를 가지는 제2박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
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제13항에 있어서,상기 박막은 SiNx, SiOx 및 Al2O3 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
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제13항에 있어서,상기 제1박막과 상기 제2박막은 적어도 2회 이상 반복 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
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제13항에 있어서,상기 제1박막이 상기 디스플레이 소자에 인접하여 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
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제13항에 있어서,상기 박막은 제1박막 및 제2박막의 1회 형성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
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제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2박막은 두께 기준으로 상기 박막의 적어도 40% 이상인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
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제18항에 있어서,상기 제2박막은 의해 두께기준으로 상기 박막의 적어도 60% 이상인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
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