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홀로그래픽 시료에 광원을 조사하는 광원부;상기 조사된 광원이 홀로그래픽 시료를 투과 또는 반사하고, 상기 투과 또는 반사된 광원의 진행 각도에 따라 푸리에 평면의 서로 다른 위치에서 결상되도록 하는 현미경 렌즈;상기 홀로그래픽 시료의 스펙트럼 정보 또는 회절 각도 정보를 제공하기 위해 상기 현미경 렌즈에 의한 푸리에 평면에서 결상된 상을 이미징하는 이미징 렌즈;상기 이미징 렌즈를 통해 이미징되는 홀로그램 상의 결상 각도에 따라 스펙트럼을 측정하는 스펙트럼 측정기; 및상기 현미경 렌즈와 이미징 렌즈 사이에 설치되고, 상기 현미경 렌즈를 투과한 광원의 기설정된 비율에 따라 투과 및 반사시키는 제1 빔스플리터;를 더 포함하고,상기 이미징 렌즈는,상기 제1 빔스플리터를 통해 반사된 광원을 복원하여 상기 홀로그래픽 시료의 스펙트럼 정보 또는 회절 각도 정보를 상기 스펙트럼 측정기에 제공하기 위해 상기 현미경 렌즈에 의한 푸리에 평면에서 결상된 상을 이미징하는 제1 이미징 렌즈; 및상기 제1 빔스플리터를 통해 투과된 광원을 복원하여 홀로그램 상으로 이미징하는 제2 이미징 렌즈를 포함하는 것를 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 이미징 렌즈를 통해 이미징되는 홀로그램 상을 실시간 확인하기 위한 카메라를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 제2 이미징 렌즈를 투과한 광원의 기설정된 비율에 따라 투과 및 반사시키는 제2 빔스플리터; 및 상기 제2 빔스플리터를 통해 투과된 홀로그램 상을 실시간 촬영하는 카메라를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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제5항에 있어서,기설정된 초점거리에 따라 상기 현미경 렌즈, 제1 빔스플리터, 제1 이미징 렌즈, 제2 이미징 렌즈 및 제2 빔 스플리터가 설치되도록 내부가 통공되고, 각 현미경 렌즈, 제1 이미징 렌즈, 제2 이미징 렌즈, 제1 빔스플리터 및 제2 빔스플리터에서 투과 또는 반사되는 광원의 광가이드 역할을 수행하는 케이스를 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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제6항에 있어서,기 케이스의 일측면에 설치되고, 상기 홀로그래픽 시료가 반사형일 경우에 외부 광원이 상기 현미경 렌즈를 통해 상기 홀로그래픽 시료에 조사되도록 하는 마운트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 광원부는,단색의 광원을 조사하는 LED; 및 상기 조사된 광원을 평행하게 집중시키는 조준렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 광원부, 현미경 렌즈, 이미징 렌즈 및 스펙트럼 측정기가 설치되는 고정 스테이지;상기 홀로그래픽 시료가 장착 또는 탈거되는 시료 거치대;상기 고정 스테이지 상에 설치되고, 상기 시료 거치대를 지지하며, 상기 시료 거치대의 위치를 조정하는 위치 조정수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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제9항에 있어서, 상기 고정 스테이지 상에 상기 스펙트럼 측정기의 측정 위치를 미세 조정하는 구동수단이 설치되는 것을 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 이미징 렌즈는 상기 현미경 렌즈에 의한 푸리에 평면의 위치 지점과 상기 이미징 렌즈까지의 거리(2f), 상기 이미징 렌즈에 의한 푸리에 평면의 상이 결상되는 위치 지점과 상기 이미징 렌즈까지의 거리(2f')가 동일한 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 현미경을 이용한 국소 면적의 스펙트럼 측정 시스템
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