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증류수가 수용되는 하우징(100); 및생두가 수용되는 바스켓(101)을 선택에 따라 상기 하우징(100)의 내외로 이동시키는 이동부(300)를 포함하고,상기 하우징(100)은 초음파 진동자(110)를 포함하는 생두 세척 장치에 의해 세척된 생두를 공급받는 호퍼(410);상기 호퍼(410)에서 공급된 생두가 수용되는 챔버(400);상기 챔버(400)를 진공상태로 만드는 진공펌프(420); 및진공상태의 상기 챔버(400)에 플라즈마를 공급하는 플라즈마 생성장치(430)를 포함하고,상기 챔버(400)는, 상기 진공 펌프(420) 및 상기 플라즈마 생성장치(430)와 연결되어 플라즈마 전위가 인가된 아르곤 가스가 공급되면서 진공상태로 유지되며, 그 내측에 수용된 생두를 플라즈마 처리함으로써 표면을 개질시키는,로스팅 머신
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제 1 항에 있어서, 상기 하우징(100) 내로 피톤치드를 공급하는 피톤치드 공급부(120)를 더 포함하는,로스팅 머신
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제 2 항에 있어서, 상기 하우징(100) 내에 마이크로 버블을 공급하는 마이크로 버블 생성부(130)를 더 포함하는,로스팅 머신
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제 3 항에 있어서, 상기 하우징(100) 내에 적외선을 공급하는 적외선 공급부(140)를 더 포함하는,로스팅 머신
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제 1 항에 있어서, 상기 증류수는 염도 3% 이상 10% 이하의 증류수인,로스팅 머신
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제 4 항에 있어서,상기 이동부(300)는,상기 바스켓(101)이 안착되는 안착부(311);상기 안착부(311)를 회전시키는 회전 가이드레일(310); 및상기 회전 가이드레일(310)을 승강시키는 승강운동 가이드레일(320)을 포함하는,로스팅 머신
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제 6 항에 있어서, 상기 안착부(311)에 안착된 상기 바스켓(101)이 상기 승강운동 가이드레일(320)에 의해 하강되어 상기 하우징(100)의 내측에 위치할 경우, 상기 바스켓(101) 내의 생두는 상기 하우징(100) 내의 증류수에 수용되고,상기 증류수에 수용된 생두는 상기 바스켓(101)이 상기 회전운동 가이드레일(310)에 의해 회전됨으로써 초음파에 의해 표면이 세척되고, 상기 피톤치드에 의해 산화가 방지되는,로스팅 머신
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제 6 항에 있어서, 상기 초음파 진동자(110), 상기 피톤치드 공급부(120), 상기 마이크로 버블 생성부(130) 및 상기 적외선 공급부(140)의 작동을 제어하는 로스팅머신 제어부(260)를 더 포함하는,로스팅 머신
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(a) 바스켓(101)에 생두가 공급되는 단계 (S100);(b) 바스켓(101)이 수직 가이드레일(320)에 의해 하강하여, 바스켓(101)에 위치하는 생두가 하우징(100) 내부의 증류수에 수용되는 단계 (S200);(c) 로스팅머신 제어부(260)에 의해 하우징(100) 내로 초음파, 마이크로 버블, 피톤치드 및 적외선 중 어느 하나 이상이 공급되는 단계 (S300);(d) 회전 가이드레일(310)에 의해 바스켓(101)이 회전되며 바스켓(101) 내부의 생두가 세척되는 단계 (S400);(e) 호퍼(410)에 세척된 생두가 공급되는 단계 (S500); (f) 생두가 상기 호퍼(410)에 의해 챔버(400)에 공급되는 단계 (S600); (g) 진공펌프(420)에 의해 상기 챔버(400)가 진공 상태로 이루어지는 단계(S700); 및(h) 교반기(440)에 의해 상기 챔버(400)에 공급된 생두가 교반됨과 동시에, 플라즈마 생성장치(430)에 의해 상기 챔버(400)에 아르곤 가스가 주입됨으로써 상기 챔버(400)에 공급된 생두가 플라즈마 처리되는 단계 (S800)를 포함하는, 생두 처리 방법
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제 11 항에 있어서, 상기 (h) 단계 이후, (i) 가열부(450)에 의해 상기 챔버(400)가 가열됨으로써 상기 플라즈마 처리된 생두가 로스팅되는 단계(S900);를 더 포함하는, 생두 처리 방법
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