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미세 패턴 내에 증착된 리튬의 전착밀도 측정기술

  • 기술번호 : KST2020004681
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 패턴 내에 증착된 리튬의 전착밀도 측정기술에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 AFM(Atomic Force Microscopy) 영상화 시스템 준비 단계; 금속 전극에 전착된 리튬의 탄성계수를 맵핑하는 단계; 및 상기 맵핑을 통해 금속 전극에 전착된 리튬의 전착밀도를 계산하는 단계;를 포함하는, 리튬 전극 물성 측정방법에 관한 것이다.
Int. CL H01M 4/1395 (2010.01.01) H01M 4/04 (2006.01.01) G01N 21/84 (2006.01.01) G01Q 80/00 (2017.01.01) H01M 10/052 (2010.01.01) H01M 12/08 (2015.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020190043168 (2019.04.12)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0049461 (2020.05.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020180129905   |   2018.10.29
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.04.12)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍승범 대전광역시 유성구
2 박건 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.04.12 수리 (Accepted) 1-1-2019-0378556-31
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.06.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2019-0037724-16
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0666754-68
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.11.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-1291812-11
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2020-1291811-65
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번호 청구항
1 1
AFM(Atomic Force Microscopy) 영상화 시스템 준비 단계;금속 전극에 전착된 리튬의 탄성계수를 맵핑하는 단계; 및상기 맵핑을 통해 금속 전극에 전착된 리튬의 전착밀도를 계산하는 단계;를 포함하는,리튬 전극 물성 측정방법
2 2
제1항에 있어서,상기 금속 전극은 표면이 패턴화된 것이고,상기 금속 전극에 전착된 리튬의 탄성계수를 맵핑하는 단계는,상기 금속 전극의 패턴 내에 전착된 리튬의 탄성계수를 맵핑하는 것인,리튬 전극 물성 측정방법
3 3
제1항에 있어서,AFM(Atomic Force Microscopy) 영상화 시스템 준비 단계는,폐쇄 셀(closed cell)을 이용하여 글로브박스 안에서 금속 전극을 포함한 리튬셀을 조립해 완전히 밀봉 한 후, 밖으로 꺼내어 원자간력 현미경으로 영상화하는 것인,리튬 전극 물성 측정방법
4 4
제1항에 있어서,상기 금속 전극에 전착된 리튬의 탄성계수를 맵핑하는 단계는,상기 리튬의 각 위치에서 단일 힘(single force)을 이용해 힘-거리 곡선(force-distance curves)을 얻는 단계;상기 힘-거리 곡선(force-distance curves)의 로우 데이터(raw data)와 AFM 영상화 시스템에 적용된 팁의 용수철 상수(spring constant) 값을 이용해 힘-인덴테이션 곡선(force-indentation curves)으로 변환하는 단계; 및상기 힘-인덴테이션 곡선(force-indentation curves)의 기울기 값을 통해 탄성계수를 측정하고, 맵핑하는 단계;를 포함하는 것인,리튬 전극 물성 측정방법
5 5
제1항에 있어서,상기 맵핑을 통해 금속 전극에 전착된 리튬의 전착밀도를 계산하는 단계는,순수 리튬의 탄성계수 값과 상기 금속 전극에 전착된 리튬의 탄성계수 값의 차이를 통해 계산되는 것인,리튬 전극 물성 측정방법
6 6
제5항에 있어서,상기 순수 리튬의 탄성계수 값과 상기 금속 전극에 전착된 리튬의 탄성계수 값의 차이는, 덴드라이트 형성에 의한 밀도 감소에 의한 것인,리튬 전극 물성 측정방법
7 7
제1항에 있어서,전류 밀도, 온도 및 전압으로 이루어진 군으로부터 선택되는 충/방전 조건을 설정하는 단계; 및상기 충/방전 조건에 따라 달라지는 충전 및 방전 조건을 고려하여, 이에 따라 달라지는 전착된 리튬의 전착밀도를 측정하는 단계;를 더 포함하는리튬 전극 물성 측정방법
8 8
제1항에 있어서,상기 금속 전극에 전착된 리튬의 경도를 측정하는 단계;를 더 포함하는 것인,리튬 전극 물성 측정방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국전자통신연구원 에너지국제공동연구사업 덴드라이트 억제를 위한 이온분포제어형 전해질 및 미세패턴 전극기술 기반 리튬금속 이차전지 기술 개발(2017)
2 과학기술정보통신부 한국전자통신연구원 거대과학연구개발사업 나노고체전해질 계면과 내부 이온채널의 영상화 및 메커니즘 연구(2018)