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이방성 확산 장치에 의한 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 방법에 있어서,
노이즈가 포함된 영상에서 에지의 방향을 결정하기 위한 방향성 패턴 마스크 처리를 수행하는 단계;
상기 방향성 패턴 마스크 처리를 통해 얻은 값들의 회선 처리를 적용하여 에지의 강도를 계산하는 단계; 및
계산된 에지의 강도값에 따라 상기 영상의 에지를 보존하면서 상기 영상에서 노이즈를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 방법
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제1항에 있어서, 상기 에지의 방향을 결정하기 위한 방향성 패턴 마스크 처리를 수행하는 단계는,
상기 영상의 현재 픽셀에서 가로 방향 마스크를 적용하여 가로선 에지 검출을 위한 가로선 값들을 산출하는 단계;
상기 영상의 현재 픽셀에서 세로 방향 마스크를 적용하여 세로선 에지 검출을 위한 세로선 값들을 산출하는 단계;
상기 영상의 현재 픽셀에서 좌측상향에서 우측하향을 향하는 대각선 방향 마스크를 적용하여 대각선 에지 검출을 위한 제1 대각선 값들을 산출하는 단계; 및
상기 영상의 현재 픽셀에서 우측상향에서 좌측하향을 향하는 대각선 방향 마스크를 적용하여 대각선 에지 검출을 위한 제2 대각선 값들을 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 방법
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제1항에 있어서,
상기 에지의 강도를 계산하는 단계는, 가로선(HM), 세로선(VM), 우측상향에서 좌측하향을 향하는 대각선(DML) 및 좌측상향에서 우측하향을 향하는 대각선(DMR) 방향 마스크에 대한 각각의 방향성 패턴 마스크 처리를 통해 얻은 각 값들(HM_1, HM_2, VM_1, VM_2, DML_1, DML_2, DMR_1, DMR_2)을 각각 회선(Convolution) 처리하여 하기 수학식 4와 같이, 각각의 에지의 강도(MoH, MoV, MoD_L, MoD_R)를 계산함을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 방법
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제1항에 있어서, 상기 계산된 에지의 강도값에 따라 상기 영상의 에지를 보존하면서 상기 영상에서 노이즈를 제거하는 단계는,
상기 계산된 에지의 강도값과 미리 설정된 임계값을 비교하는 단계;
상기 강도값이 상기 임계값 이상이면 상기 영상의 현재 픽셀을 에지로 결정하고, 결정된 에지를 보존하는 단계; 및
상기 강도값이 상기 임계값 미만이면 상기 영상의 현재 픽셀을 에지가 아닌 영역으로 결정하고, 상기 영상의 노이즈 제거를 강화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 방법
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제4항에 있어서,
상기 결정된 에지를 보존하는 단계는, 해당 방향으로 에지 정지함수를 적용하여 상기 결정된 에지를 보존함을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 방법
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제4항에 있어서,
상기 영상의 노이즈 제거를 강화하는 단계는, 십자형 커널을 확장하여 대각선 방향의 픽셀 정보까지 포함한 이방성 확산을 적용하여 상기 영상의 노이즈 제거를 강화함을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 방법
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노이즈가 포함된 영상에서 에지의 방향을 결정하기 위한 방향성 패턴 마스크 처리를 수행하는 마스크 처리부;
상기 방향성 패턴 마스크 처리를 통해 얻은 값들의 회선 처리를 적용하여 에지의 강도를 계산하는 강도 계산부;
상기 계산된 에지의 강도값과 미리 설정된 임계값을 비교하는 비교부;
상기 강도값이 상기 임계값 이상이면 상기 영상의 현재 픽셀을 에지로 결정하고, 결정된 에지를 보존하는 에지 보존부; 및
상기 강도값이 상기 임계값 미만이면 상기 영상의 현재 픽셀을 에지가 아닌 영역으로 결정하고, 상기 영상의 노이즈 제거를 강화하는 노이즈 제거부를 포함하는 것을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 장치
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제7항에 있어서,
상기 마스크 처리부는, 상기 영상의 현재 픽셀에서, 가로 방향 마스크를 적용하여 가로선 에지 검출을 위한 가로선 값들을 산출하고, 세로 방향 마스크를 적용하여 세로선 에지 검출을 위한 세로선 값들을 산출하고, 좌측상향에서 우측하향을 향하는 대각선 방향 마스크를 적용하여 대각선 에지 검출을 위한 제1 대각선 값들을 산출하고, 우측상향에서 좌측하향을 향하는 대각선 방향 마스크를 적용하여 대각선 에지 검출을 위한 제2 대각선 값들을 산출함을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 장치
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제7항에 있어서,
상기 강도 계산부는, 가로선(HM), 세로선(VM), 우측상향에서 좌측하향을 향하는 대각선(DML) 및 좌측상향에서 우측하향을 향하는 대각선(DMR) 방향 마스크에 대한 각각의 방향성 패턴 마스크 처리를 통해 얻은 각 값들(HM_1, HM_2, VM_1, VM_2, DML_1, DML_2, DMR_1, DMR_2)을 각각 회선(Convolution) 처리하여 하기 수학식 4와 같이, 각각의 에지의 강도(MoH, MoV, MoD_L, MoD_R)를 계산함을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 장치
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10
제7항에 있어서,
상기 에지 보전부는 해당 방향으로 에지 정지함수를 적용하여 상기 결정된 에지를 보존함을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 장치
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제7항에 있어서,
상기 노이즈 제거부는, 십자형 커널을 확장하여 대각선 방향의 픽셀 정보까지 포함한 이방성 확산을 적용하여 상기 영상의 노이즈 제거를 강화함을 특징으로 하는 에지의 방향성에 기반한 이방성 확산 장치
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