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레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물 세정 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2015112469
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물의 세정 장치 및 방법에 관한 것으로, 레이저 발생 장치, 호모지나이저를 포함하는 레이저 조사 장치, 광투과성 기판을 이송 및 고정시키는 이송/고정 장치, 광투과성 기판의 세정하고자 하는 오염물이 위치하는 일면이 노출되는 세정 챔버, 및 광투과성 기판에서 분리된 세정 챔버 내의 오염 물질을 흡입하는 흡입 장치를 포함하고 레이저 조사 장치로부터의 레이저는 광투과성 기판의 타면에서 조사되는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물의 세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법을 제공한다.광투과성 기판, 오염물, 세정, 레이저, 유리, 석영, ITO
Int. CL H01L 21/304 (2006.01)
CPC H01L 21/67028(2013.01) H01L 21/67028(2013.01) H01L 21/67028(2013.01) H01L 21/67028(2013.01)
출원번호/일자 1020060014036 (2006.02.14)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0778389-0000 (2007.11.15)
공개번호/일자 10-2007-0081838 (2007.08.20) 문서열기
공고번호/일자 (20071121) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.02.14)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진호 대한민국 대전 유성구
2 김상수 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.02.14 수리 (Accepted) 1-1-2006-0106842-89
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.09.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.10.16 수리 (Accepted) 9-1-2006-0065699-03
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0174833-87
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.05.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0397014-83
6 의견서
Written Opinion
2007.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2007-0396850-57
7 등록결정서
Decision to grant
2007.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0525983-50
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
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레이저를 이용하여 광투과성 기판의 오염물을 세정하는 장치로서, 상기 장치는:레이저 발생 장치, 호모지나이저를 포함하는 레이저 조사 장치;상기 광투과성 기판을 이송 및 고정시키는 이송/고정 장치;상기 광투과성 기판의 세정하고자 하는 상기 오염물이 위치하는 일면이 노출되는 세정 챔버; 및상기 광투과성 기판에서 분리된 상기 세정 챔버 내의 오염물을 흡입하는 흡입 장치;를 포함하고,상기 레이저 조사 장치로부터의 레이저는 상기 광투과성 기판의 타면에서 조사되고,상기 흡입 장치로부터 흡입된 상기 오염 물질의 농도를 측정하는 모니터링 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물 세정 장치
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제 5 항에 있어서, 상기 레이저 조사 장치 및 상기 흡입 장치는 상기 모니터링 장치에서 측정된 상기 흡입된 오염 물질의 상기 농도가 소정의 값 이상일 경우에 작동하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물 세정 장치
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제 5 항에 있어서, 상기 모니터링 장치는 레이저 미립자 계수기(LPC), 광학 미립자 계수기(OPC), 응축 미립자 계수기(CPC), 응축핵 계수기(CNC), 미분형 이동 미립자 분석기(DMPS), 주사형 이동 미립자 분석기(SMPS), 공기역학적 미립자 분석기(APS) 또는 전기적 저압력 임팩터(ELPI)인 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물 세정 장치
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광투과성 기판의 오염물을 세정하고자 하는 일면이 세정 챔버 내부로 향하도록 상기 광투과성 기판을 상기 세정 챔버 내로 이송하는 단계;상기 광투과성 기판의 타면에 상기 세정 챔버 외부로부터 레이저를 조사하는 단계;상기 광투과성 기판에서 분리된 상기 세정 챔버 내의 오염물을 흡입하는 단계; 상기 레이저가 상기 광투과성 기판 전체 영역을 조사하도록 상기 광투과성 기판을 이동시키는 단계; 및상기 오염물이 분리된 상기 광투과성 기판을 상기 세정 챔버 외부로 이송하는 단계;상기 흡입된 챔버의 오염물의 농도를 측정하는 모니터링 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물 세정 방법
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제 12 항에 있어서, 상기 모니터링 단계에서, 상기 측정된 오염물의 농도가 소정의 값 이상일 경우 상기 레이저 조사 단계 및 상기 세정 챔버 내의 오염물을 흡입하는 단계가 실행되고, 상기 측정된 오염물의 농도가 소정의 값 이하일 경우 상기 레이저가 상기 광투과성 기판 전체 영역을 조사하였는지를 판단하여, 상기 레이저가 상기 광투과성 기판 전체 영역을 조사하지 않은 경우 상기 광투과성 기판을 이동시키는 단계, 상기 레이저 조사 단계 및 상기 세정 챔버 내의 오염물을 흡입하는 단계가 실행되고, 상기 레이저가 상기 광투과성 기판 전체 영역을 조사한 경우 상기 광투과성 기판을 상기 챔버 외부로 이송하는 단계가 실행되는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물 세정 방법
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제 12 항에 있어서, 상기 모니터링 단계는 레이저 미립자 계수기(LPC), 광학 미립자 계수기(OPC), 응축 미립자 계수기(CPC), 응축핵 계수기(CNC), 미분형 이동 미립자 분석기(DMPS), 주사형 이동 미립자 분석기(SMPS), 공기역학적 미립자 분석기(APS) 또는 전기적 저압력 임팩터(ELPI)에 의하여 실행되는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 광투과성 기판 오염물 세정 방법
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