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탄소나노재료 패턴구현 제조방법
- 기술번호 : KST2015124943
- 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
- 전화번호 : 02-6124-6930
| 요약 | 본 발명은 탄소나노재료 패턴구현 제조방법에 관한 것으로서, 그 단계는, (a) 첨가제가 함유된 용매에 촉매를 투입하여 분산도를 일정하게 유지하는 콜로이드 용액을 제조하는 단계와, (b) 상기 콜로이드 용액을 기판 위에 미세 패턴으로 형성하는 단계와, (c) 상기 기판에 탄소 소스를 공급하는 단계를 포함하며, 상기의 공정에 따르면, 공정이 매우 신속하게 이루어지고, 상압에서 구현이 가능하며, 패턴구현 및 제조공정을 연속적으로 수행할 수 있어 생산성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 공정의 전자동화가 가능하므로 시스템을 콤팩트하게 구성할 수 있는 효과가 있다.탄소나노재료, 미세 패턴, 탄소 소스, 촉매, 콜로이드 용액, 에어로졸 |
|---|---|
| Int. CL | B82Y 40/00 (2011.01) C01B 31/02 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01) |
| CPC | B82B 3/0009(2013.01) B82B 3/0009(2013.01) B82B 3/0009(2013.01) B82B 3/0009(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020070017269 (2007.02.21) |
| 출원인 | 연세대학교 산학협력단 |
| 등록번호/일자 | 10-0841093-0000 (2008.06.18) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20080625) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2007.02.21) |
| 심사청구항수 | 16 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 변정훈 | 대한민국 | 충남 천안시 |
| 2 | 박재홍 | 대한민국 | 서울 용산구 |
| 3 | 윤기영 | 대한민국 | 서울 강남구 |
| 4 | 황정호 | 대한민국 | 서울 용산구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 장한특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 서초대로 ***, **층 (서초동, 서초지웰타워) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허출원서 Patent Application |
2007.02.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0152235-32 |
| 2 | 서지사항보정서 Amendment to Bibliographic items |
2007.02.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0158110-74 |
| 3 | 서지사항보정서 Amendment to Bibliographic items |
2007.03.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0179117-29 |
| 4 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2007.08.13 | 반려 (Return) | 1-1-2007-0584117-18 |
| 5 | 일부반려안내문 Notification of Partial Return |
2007.08.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2007-0118063-82 |
| 6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2008.02.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0103173-43 |
| 7 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2008.03.07 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0169892-30 |
| 8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.03.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0169893-86 |
| 9 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.05.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0301990-17 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 (a) 첨가제가 함유된 용매에 촉매를 투입하여 분산도를 일정하게 유지하는 콜로이드 용액을 제조하는 단계;(b) 상기 콜로이드 용액을 기판 위에 패턴으로 형성하는 단계; 및(c) 상기 기판에 탄소 소스를 공급하는 단계;를 포함하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 2 |
2 제 1항에 있어서,상기 (b)단계에서, 전압을 인가한 전도성의 제트 노즐을 사용하여 상기 제트 노즐을 특정한 패턴대로 이동시켜 분사하는 방식으로 상기 콜로이드 용액을 상기 기판 위에 패턴으로 형성하는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 3 |
3 제 1항에 있어서,상기 (b)단계에서, 열판에 열을 가하여 상기 콜로이드 용액을 팽창시켜 분사하는 열전사 잉크젯(Thermal inkjet) 방식으로 상기 콜로이드 용액을 상기 기판 위에 패턴으로 형성하는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 4 |
4 제 1항에 있어서,상기 (b)단계에서, 압전소자의 진동을 이용하여 분사하는 피에조(Piezo) 방식으로 상기 콜로이드 용액을 상기 기판 위에 패턴으로 형성하는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 5 |
5 제 1항에 있어서,상기 (b)단계에서, 원자현미경(AFM)을 이용해 원자나 분자 크기의 패턴을 형성하는 딥 펜 나노리소그라피(DPN) 방식으로 상기 콜로이드 용액을 상기 기판 위에 패턴으로 형성하는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 6 |
6 제 1항에 있어서,상기 (b)단계에서, 상기 콜로이드 용액을 마이크로나 나노 패턴이 형성된 스탬프에 묻혀 상기 기판 위에 찍어내는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 7 |
7 제 1항에 있어서,상기 (c)단계에서, 상기 기판을 300℃ 내지 1000℃의 탄소 소스가 공급되는 챔버 내로 이동시키는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 8 |
8 제 1항에 있어서,상기 (b)단계에서,상기 콜로이드 용액 내에 액체 탄소 소스를 포함시켜 공급하고,상기 (c)단계에서, 상기 기판의 하면에 300℃ 내지 1000℃의 온도를 유지하는 히터가 마련되는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 9 |
9 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 첨가제는 분산조절제와 점도조절제로 구성되는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 10 |
10 제 1항에 있어서,상기 (c)단계 이후 상기 촉매를 제거하는 (d)단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 11 |
11 (a) 촉매를 공기 중에 부유하는 입자형태인 에어로졸(Aerosol) 형태로 제조하는 단계;(b) 상기 에어로졸 형태의 촉매를 기판 위에 패턴으로 형성하는 단계; 및(c) 상기 기판에 탄소 소스를 공급하는 단계;를 포함하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 12 |
12 제 11항에 있어서,상기 (b) 단계에서,상기 촉매를 전기적으로 대전하고, 상기 기판에 패턴 형상으로 전기장을 걸어주어 전기장이 형성된 기판의 부분에만 상기 촉매가 부착되도록 하는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 13 |
13 제 11항에 있어서,상기 (b) 단계에서,상기 기판 위에는 패턴 형상으로 홀이 형성된 덮개가 마련되어 있으며,상기 에어로졸 형태의 촉매를 상기 기판 위에 분사하면, 상기 촉매가 상기 홀을 통과하여 상기 기판 위에 분사되는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 14 |
14 제 11항에 있어서,상기 (c)단계에서, 상기 기판을 300℃ 내지 1000℃의 탄소 소스가 공급되는 챔버 내로 이동시키는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 15 |
15 제 11항에 있어서,상기 (c)단계에서, 상기 기판의 하면에 300℃ 내지 1000℃의 온도를 유지하는 히터가 마련되고, 상기 기판의 주위로 탄소 소스가 공급되는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 16 |
16 제 11항에 있어서,상기 (c)단계 이후 상기 촉매를 제거하는 (d)단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
| 공개전문 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-0841093-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20070221 출원 번호 : 1020070017269 공고 연월일 : 20080625 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080531 청구범위의 항수 : 16 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 탄소나노재료 패턴구현 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20130619 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 393,000 원 | 2008년 06월 19일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2011년 05월 12일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2012년 04월 16일 | 납입 |
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허출원서 | 2007.02.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0152235-32 |
| 2 | 서지사항보정서 | 2007.02.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0158110-74 |
| 3 | 서지사항보정서 | 2007.03.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0179117-29 |
| 4 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2007.08.13 | 반려 (Return) | 1-1-2007-0584117-18 |
| 5 | 일부반려안내문 | 2007.08.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2007-0118063-82 |
| 6 | 의견제출통지서 | 2008.02.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0103173-43 |
| 7 | [명세서등 보정]보정서 | 2008.03.07 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0169892-30 |
| 8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.03.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0169893-86 |
| 9 | 등록결정서 | 2008.05.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0301990-17 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345071048 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 과C6A1805 |
| 연구과제명 | 나노,마이크로 응용기계기술 인력양성사업단 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
| 연구주관기관명 | 연세대학교 |
| 성과제출연도 | 2008 |
| 연구기간 | 200603~201302 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1340013829 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 과C6A1805 |
| 연구과제명 | 나노마이크로응용기계기술인력양성사업단 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
| 연구주관기관명 | 연세대학교 |
| 성과제출연도 | 2006 |
| 연구기간 | 200603~201202 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | 기타 |
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