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실리콘 인곳의 잉여부분 또는 불량웨이퍼를 수거하여 원료를 준비하는 원료공정단계;
더미 웨이퍼의 소결을 위하여 상기 원료를 분쇄하는 분쇄공정단계;
분쇄된 상기 원료를 고온/고압하에서 소결하여 더미 웨이퍼를 제조하는 소결공정단계를 포함 하는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼 제조방법
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제 1항에 있어서,
상기 분쇄공정단계는 상기 원료를 0
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제 1항에 있어서,
상기 소결공정단계는 상기 원료를 1300℃에서 1450℃의 온도로 가열사여 상기 더미 웨이퍼를 소결하는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼 제조방법
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4 |
4
제 1항에 있어서,
상기 소결공정단계에서 Ge, GaAs로 이루어진 반도체 첨가제군에서 선택된 하나의 첨가제가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼 제조방법
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5
제 1항에 있어서,
상기 소결공정단계에서 TiSi₂, CoSi₂, Al, CU로 이루어진 도전체 첨가제군에서 선택된 하나의 첨가제가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼 제조방법
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6
제 1항에 있어서,
상기 소결공정단계에서 Al₂O, Ta₂O5, BST, PZT로 이루어진 세라믹 유전체 첨가제군에서 선택된 하나의 첨가제가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼 제조방법
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7 |
7
실리콘 인곳의 잉여부분 또는 불량웨이퍼의 분쇄를 통하여 얻어지는 더미 웨이퍼 원료를 고온/고압 소결을 통해 가공하여 제조되는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼
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8 |
8
제 7항에 있어서,
Ge, GaAs로 이루어진 반도체 첨가제군에서 선택된 하나의 첨가제가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼
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9
제 7항에 있어서,
TiSi₂, CoSi₂, Al, CU로 이루어진 도전체 첨가제군에서 선택된 하나의 첨가제가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼
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10 |
10
제 7항에 있어서,
Al₂O, Ta₂O5, BST, PZT로 이루어진 세라믹 유전체 첨가제군에서 선택된 하나의 첨가제가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 더미 웨이퍼
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