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유기 다층 박막을 제조함에 있어서,용액공정 (soluble process)으로 인쇄법을 이용하여 기판 위에 정공수송층 (hole transfer layer)을 형성하는 단계;용액공정으로 발광층 (emissive layer) 형성용 유기 분자를 유기용매에 용해시켜 제조된 제 1 전기 분무 용액을 제조하고 전자수송층 (electron transfer layer) 형성용 유기 분자를 유기용매에 용해시켜 제 2 전기 분무 용액을 제조하는 단계 ;상기 제 1 전기 분무 용액을 고전압이 인가된 전기 분무의 노즐을 통해 상기 정공수송층 위에 분사하여, 상기 정공수송층 상에 건조되지 않은 상태의 발광층을 형성하는 단계;상기 발광층이 완전히 건조되기 전에, 상기 제 2 전기 분무 용액을 상기 발광층 위에 건조된 입자 상태로 분사하여 전자수송층을 형성하는 단계; 및상기 발광층과 상기 전자수송층이 형성된 다층 박막을 건조하는 단계를 포함하는, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 발광층 형성용 유기 분자는 별모양 (star-like shape) 또는 갈고리 모양 (hook-like shape)을 갖는, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 발광층 형성용 유기 분자는 저분자 (small molecule), 덴드리머 (dendrimer) 또는 고분자 (polymer) 화합물이고, 분자량이 400-1,100,000인, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 발광층 형성용 유기 분자는 폴리(N-비닐카바졸) (PVK), 아릴아민 치환체, 방향족 다환 치환체 및 헤테로방향족 치환체 및 금속착체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 전자수송층 형성용 유기 분자는 분자량 400 내지 1200의 저분자 또는 단분자 화합물인, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 전자수송층 형성용 유기 분자는 TPBi (1,3,5-트리스(N-페닐벤즈이미다졸-2-일)벤젠) 및 Alq3 (알루미늄 트리스(8-하이드록시 퀴놀린))로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 전기 분무 용액의 제조에 적용되는 유기용매는 클로로벤젠 (CB), 1,2-다이클로로벤젠 (DCB), 1,2-다이클로로에탄 (DCE), 및 다이클로로메탄 (DCM)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 ITO (indium tin oxide), 그라핀 (Graphene), 탄소나노튜브 (Carbon nanotube) 또는 실버나노와이어 (Silver nanowire)가 유리 또는 고분자 필름 위에 형성된 것인, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 전기 분무는 2 ~ 10 kV의 인가전압, 1 ~ 10 cm의 기판과 노즐 사이의 거리, 및 1 ~ 100 ㎕/분의 용액주입속도의 조건으로 수행되는, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 패터닝된 마스크를 포함하는, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 발광층과 전자수송층이 형성된 다층 박막을 건조하는 단계는 상기 유기 분자의 유리전이온도 부근에서 상기 다층 박막을 20분 이상 건조하는 조건으로 수행되는, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 정공수송층은 PEDOT:PSS 또는 PANI:PSS를 포함하는 단분자 및 고분자 물질인, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 인쇄법은 슬롯다이 코팅, 스프레이코팅 및 그라비아 코팅으로 이루어진 군에서 선택되는, 전기 분무법을 이용한 유기 다층 박막의 제조방법
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