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기능성 입자층 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015144231
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 차세대 유연 고체조명을 위한 기능성 입자층 및 상기 기능성 입자층의 제조 방법에 관한 것이다.
Int. CL H01L 51/52 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01)
CPC H01L 51/5268(2013.01) H01L 51/5268(2013.01) H01L 51/5268(2013.01)
출원번호/일자 1020150014611 (2015.01.29)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0090866 (2015.08.06) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020140011104   |   2014.01.29
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.01.29)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정호균 대한민국 경기도 용인시 수지구
2 조덕수 대한민국 경기도 수원시 장안구
3 김대경 대한민국 서울특별시 강동구
4 조성민 대한민국 경기도 군포시 산본로***번길 **, **
5 채희엽 대한민국 서울특별시 서초구
6 윤대호 대한민국 경기도 수원시 권선구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인엠에이피에스 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2015-0101593-54
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.07.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.08.07 수리 (Accepted) 9-1-2015-0052597-51
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0722015-87
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-1251368-40
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.12.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-1251415-09
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2016.04.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0249063-85
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.05.09 수리 (Accepted) 1-1-2016-0441160-18
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2016.05.09 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0441207-76
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.06.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0401428-79
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.08.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0748943-17
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.08.01 수리 (Accepted) 1-1-2016-0748894-78
13 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0630861-30
14 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2016.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2016-1060828-51
15 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2016.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-1175313-13
16 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2017.01.02 수리 (Accepted) 1-1-2017-0004065-30
17 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2017-0101378-13
18 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.01.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0101408-06
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
20 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2017.06.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0387776-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
점착 또는 접착 특징을 갖는 점착성 고분자 층에 형성된 입자층을 포함하며,상기 입자층은 형광체 입자를 포함하는 형광체층과 비발광성 입자를 포함하는 비발광성 입자층, 또는 상기 형광체 입자와 상기 비발광성 입자의 혼합물을 포함하는 입자층을 포함하는 것이고, 상기 입자층은 균일하고 조밀하게 배열된 다층의 입자층을 포함하는 것이고, 및,상기 점착성 고분자 층의 두께는 상기 입자 크기의 30% 내지 300%인 것이며,상기 형광체 입자와 상기 비발광성 입자의 혼합물을 포함하는 입자층은 상기 형광체 입자와 상기 비발광성 입자의 혼합 비율에 따라 미세한 백색광의 색온도 조절이 가능하고,상기 입자층은 상기 비발광성 입자를 포함함으로써 광학적인 산란입자로 작용하여 광산란 및 광추출 효율을 증가시키는 것이며,상기 입자층은 상기 입자층의 입자의 100 중량부에 대하여 상기 비발광성 입자를 10 중량부 내지 90 중량부 포함하는 것인,기능성 입자층
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,상기 입자의 크기가 1 ㎛ 내지 30 ㎛인 것인, 기능성 입자층
4 4
제 1 항에 있어서,상기 입자의 굴절율은 1
5 5
제 1 항에 있어서,상기 점착성 고분자는 PMMA, 실리콘(silicone)계 고분자, 에폭시계 고분자, 아크릴계 고분자, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 기능성 입자층
6 6
제 1 항에 있어서,상기 점착성 고분자 층의 굴절율은 1
7 7
제 1 항에 있어서,상기 점착성 고분자 층의 투과도는 85% 이상인 것인, 기능성 입자층
8 8
삭제
9 9
점착 또는 접착 특징을 갖는 점착성 고분자 물질을 기재에 도포하여 점착성 고분자 층을 형성하고; 및상기 점착성 고분자 층에 입자를 배열시켜 입자층을 형성하는 것을 포함하며,상기 입자층은 형광체 입자를 포함하는 형광체층과 비발광성 입자를 포함하는 비발광성 입자층, 또는 상기 형광체 입자와 상기 비발광성 입자의 혼합물을 포함하는 입자층을 포함하는 것이고,상기 입자층은 균일하고 조밀하게 배열된 다층의 입자층을 포함하는 것이고, 및,상기 고분자 유기 물질 접착층은 상기 형광체 입자 크기의 30% 내지 300%인 것이며,상기 형광체 입자와 상기 비발광성 입자의 혼합물을 포함하는 입자층은 상기 형광체 입자와 상기 비발광성 입자의 혼합 비율에 따라 미세한 백색광의 색온도 조절이 가능하고,상기 입자층은 상기 비발광성 입자를 포함함으로써 광학적인 산란입자로 작용하여 광산란 및 광추출 효율을 증가시키는 것이며,상기 입자층은 상기 입자층의 입자의 100 중량부에 대하여 상기 비발광성 입자를 10 중량부 내지 90 중량부 포함하는 것인,기능성 입자층의 제조 방법
10 10
제 9 항에 있어서,상기 점착성 고분자는 실리콘(silicone)계 고분자, 에폭시계 고분자, 아크릴계 고분자, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 기능성 입자층의 제조 방법
11 11
제 9 항에 있어서,상기 입자의 크기가 1 ㎛ 내지 30 ㎛인 것인, 기능성 입자층의 제조 방법
12 12
제 9 항에 있어서,상기 점착성 고분자 층의 굴절율은 1
13 13
제 9 항에 있어서,상기 점착성 고분자 층의 투과도는 85% 이상인 것인, 기능성 입자층의 제조 방법
14 14
삭제
15 15
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 성균관대학교 산학협력단 2012 대학IT연구센터 육성지원사업 차세대 AMOLED 핵심원천기술개발 및 연구 인력양성