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기판의 적어도 일면 상에 시트 형상의 그라펜을 형성하는 단계;상기 그라펜 상에 나노패턴을 갖는 플라즈마 마스크를 형성하는 단계; 및상기 플라즈마 마스크가 형성된 적층체를 플라즈마 처리하여 그라펜에 나노패턴을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 나노패턴을 갖는 플라즈마 마스크를 형성하는 공정이, 상기 그라펜 상에 비정질 카본을 적층하는 단계; 및상기 비정질 카본 상에 광을 조사하여 비정질 카본에 나노패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 마스크가 그라펜에 나노패턴이 형성된 후 제거된 후 제거되는 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 플라즈마 마스크 제거 공정이 400 내지 1,200℃에서 O2, H2, CH4, C2H4, 및 C2H2를 단독 또는 2종 이상 사용하여 10분 내지 5시간 동안 열처리에 의해 수행되는 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 그라펜이 1층 내지 10층의 두께를 갖는 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 그라펜이 1층 또는 2층의 두께를 갖는 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 광조사가 레이져 광조사인 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기판이 Si 기판, 글래스 기판, GaN 기판, 실리카 기판 등의 무기질 기판; Ni, Co, Fe, Pt, Pd, Au, Al, Cr, Cu, Mn, Mo, Rh, Ir, Ta, Ti, W, U, V 및 Zr 중 선택된 금속 기판; 중 어느 하나 이상으로 이루어지는 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 그라펜이 1cm2 이상의 면적을 갖는 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 그라펜이 단위 면적 1000㎛2당 10개 이하의 주름을 갖는 그라펜 나노리본의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 그라펜이 단위 면적 1mm2당 99% 이상의 범위로 존재하는 것인 그라펜 나노리본의 제조방법
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