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Ｏｆｆ-ａｘｉｓ 방식의 디지털 홀로그래피를 이용한 복굴절 측정 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015179052
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피를 이용한 복굴절 측정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 복굴절 측정 장치는 수직 편광 및 수평 편광 방향 각각에 대하여 45°기울어진 편광 방향을 갖는 선형 편광 빔을 생성하는 광원부와; 상기 광원부로부터의 상기 선형 편광 빔을 측정 빔 경로와 기준 빔 경로로 분할하여 출력하는 제1 빔 스플리터와; Off-axis 방식이 적용 가능하도록 상기 기준 빔 경로에 대해 기울어져 배치된 기준 미러와; 상기 제1 광 분할부로부터 출광된 상기 선형 편광 빔이 상기 기준 미러에 의해 반사되도록 상기 제1 광 분할부로부터 출광된 상기 선형 편광 빔을 상기 기준 미러 방향으로 향하게 하는 제2 빔 스플리터와; 상기 제1 빔 스플리터로부터 출광된 상기 선형 편광 빔이 상기 측정 대상물을 투과하도록 상기 제1 빔 스플리터로부터 출광된 상기 선형 편광 빔을 상기 측정 대상물 방향으로 반사시키는 반사 미러와; 상기 선형 편광 빔이 상기 기준 미러로부터 반사되어 형성된 기준빔 및 상기 선형 편광 빔이 상기 측정 대상물을 투과하여 형성된 측정빔을 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부 방향으로 분할하여 출력하기 위한 제3 빔 스플리터와; 상기 제1 촬상부와 상기 제3 빔 스플리터 사이에 배치되어 상기 측정빔 및 상기 기준빔 간의 간섭에 의해 형성된 간섭광 중 수직 편광 성분을 통과시켜 상기 제1 촬상부로 출력하는 수직 편광판과; 상기 제1 촬상부와 상기 제3 빔 스플리터 사이에 배치되어 상기 간섭광 중 수평 편광 성분을 통과시켜 상기 제2 촬상부로 출력하는 수평방향 선편광판; 상기 제1 촬상부에 의해 촬상된 상기 수직 편광 성분과 상기 제2 촬상부에 의해 촬상된 상기 수평 편광 성분 각각에 대해 Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피 해석 방식이 적용되어 상기 수직 편광 성분에 대한 수직 편광 위상 정보와 상기 수평 편광 성분에 대한 수평 편광 위상 정보가 추출하고, 상기 수직 편광 위상 정보 및 상기 수평 편광 위상 정보에 기초하여 상기 측정 대상물에 대한 복굴절의 크기를 산출하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G01N 21/23 (2006.01.01) G01J 4/00 (2006.01.01) G01B 11/25 (2006.01.01) G02B 27/10 (2006.01.01) G01N 21/41 (2006.01.01) G03H 1/22 (2006.01.01) G01N 15/02 (2006.01.01)
CPC G01N 21/23(2013.01) G01N 21/23(2013.01) G01N 21/23(2013.01) G01N 21/23(2013.01) G01N 21/23(2013.01) G01N 21/23(2013.01) G01N 21/23(2013.01)
출원번호/일자 1020090006775 (2009.01.29)
출원인 (주)펨트론, 전북대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1005161-0000 (2010.12.23)
공개번호/일자 10-2010-0087791 (2010.08.06) 문서열기
공고번호/일자 (20110104) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.01.29)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 (주)펨트론 대한민국 서울특별시 금천구
2 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김대석 대한민국 전북 전주시 덕진구
2 유영웅 대한민국 서울 동작구
3 최영진 대한민국 서울 금천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인남촌 대한민국 서울특별시 종로구 새문안로*길 **, 도렴빌딩 ***호 (도렴동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주)펨트론 대한민국 서울특별시 금천구
2 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0055781-10
2 보정요구서
Request for Amendment		 2009.02.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0008438-77
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2009.02.24 수리 (Accepted) 1-1-2009-0113617-91
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.03.30 수리 (Accepted) 4-1-2009-5058607-96
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.07.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.08.16 수리 (Accepted) 9-1-2010-0051117-19
7 등록결정서
Decision to grant		 2010.11.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0524691-48
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2010-5245806-20
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.11.24 수리 (Accepted) 4-1-2011-5235507-39
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5206243-46
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2016-5013206-34
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.04.06 수리 (Accepted) 4-1-2018-5062117-86
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
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번호 청구항
1 1
Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피를 이용한 복굴절 측정 장치에 있어서, 제1 촬상부 및 제2 촬상부와; 수직 편광 및 수평 편광 방향 각각에 대하여 45°기울어진 편광 방향을 갖는 선형 편광 빔을 생성하는 광원부와; 상기 광원부로부터의 상기 선형 편광 빔을 측정 빔 경로와 기준 빔 경로로 분할하여 출력하는 제1 빔 스플리터와; Off-axis 방식이 적용 가능하도록 상기 기준 빔 경로에 대해 기울어져 배치된 기준 미러와; 상기 제1 광 분할부로부터 출광된 상기 선형 편광 빔이 상기 기준 미러에 의해 반사되도록 상기 제1 광 분할부로부터 출광된 상기 선형 편광 빔을 상기 기준 미러 방향으로 향하게 하는 제2 빔 스플리터와; 상기 제1 빔 스플리터로부터 출광된 상기 선형 편광 빔이 상기 측정 대상물을 투과하도록 상기 제1 빔 스플리터로부터 출광된 상기 선형 편광 빔을 상기 측정 대상물 방향으로 반사시키는 반사 미러와; 상기 선형 편광 빔이 상기 기준 미러로부터 반사되어 형성된 기준빔 및 상기 선형 편광 빔이 상기 측정 대상물을 투과하여 형성된 측정빔을 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부 방향으로 분할하여 출력하기 위한 제3 빔 스플리터와; 상기 제1 촬상부와 상기 제3 빔 스플리터 사이에 배치되어 상기 측정빔 및 상기 기준빔 간의 간섭에 의해 형성된 간섭광 중 수직 편광 성분을 통과시켜 상기 제1 촬상부로 출력하는 수직방향 선편광판과; 상기 제1 촬상부와 상기 제3 빔 스플리터 사이에 배치되어 상기 간섭광 중 수평 편광 성분을 통과시켜 상기 제2 촬상부로 출력하는 수평방향 선편광판; 상기 제1 촬상부에 의해 촬상된 상기 수직 편광 성분과 상기 제2 촬상부에 의해 촬상된 상기 수평 편광 성분 각각에 대해 Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피 해석 방식이 적용되어 상기 수직 편광 성분에 대한 수직 편광 위상 정보와 상기 수평 편광 성분에 대한 수평 편광 위상 정보가 추출하고, 상기 수직 편광 위상 정보 및 상기 수평 편광 위상 정보에 기초하여 상기 측정 대상물에 대한 복굴절의 크기를 산출하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 복굴절 측정 장치
2 2
Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피를 이용한 복굴절 측정 장치에 있어서, 제1 촬상부 및 제2 촬상부와; 수직 편광 및 수평 편광 방향 각각에 대하여 45°기울어진 편광 방향을 갖는 선형 편광 빔을 생성하는 광원부와; 상기 광원부로부터의 상기 선형 편광 빔을 측정 빔 경로와 기준 빔 경로로 분할하여 출력하는 제1 빔 스플리터와; Off-axis 방식이 적용 가능하도록 상기 기준 빔 경로에 대해 기울어져 배치된 기준 미러와; 상기 제1 광 분할부로부터 출광된 상기 선형 편광 빔이 상기 기준 미러에 의해 반사되도록 상기 제1 광 분할부로부터 출광된 상기 선형 편광 빔을 상기 기준 미러 방향으로 향하게 하는 제2 빔 스플리터와; 상기 제1 빔 스플리터로부터 출광된 상기 선형 편광 빔이 상기 측정 대상물을 투과하도록 상기 제1 빔 스플리터로부터 출광된 상기 선형 편광 빔을 상기 측정 대상물 방향으로 향하게 하는 대면적용 빔 스플리터와; 상기 측정 대상물을 투과하여 형성된 측정빔을 상기 대면적용 빔 스플리터 방향으로 반사하는 반사 미러와; 상기 선형 편광 빔이 상기 기준 미러로부터 반사되어 형성된 기준빔 및 상기 반사 미러에 의해 반사되어 상기 대면적용 빔 스플리터를 거친 상기 측정빔을 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부 방향으로 분할하여 출력하기 위한 제3 빔 스플리터와; 상기 제1 촬상부와 상기 제3 빔 스플리터 사이에 배치되어 상기 측정빔 및 상기 기준빔 간의 간섭에 의해 형성된 간섭광 중 수직 편광 성분을 통과시켜 상기 제1 촬상부로 출력하는 수직방향 선편광판과; 상기 제1 촬상부와 상기 제3 빔 스플리터 사이에 배치되어 상기 간섭광 중 수평 편광 성분을 통과시켜 상기 제2 촬상부로 출력하는 수평방향 선편광판; 상기 제1 촬상부에 의해 촬상된 상기 수직 편광 성분과 상기 제2 촬상부에 의해 촬상된 상기 수평 편광 성분 각각에 대해 Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피 해석 방식이 적용되어 상기 수직 편광 성분에 대한 수직 편광 위상 정보와 상기 수평 편광 성분에 대한 수평 편광 위상 정보가 추출하고, 상기 수직 편광 위상 정보 및 상기 수평 편광 위상 정보에 기초하여 상기 측정 대상물에 대한 복굴절의 크기를 산출하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 복굴절 측정 장치
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제어부는 상기 수직 편광 성분 및 상기 수평 편광 성분으로부터 각각 수직 편광 진폭 정보 및 수평 편광 진폭 정보를 추출하고, 상기 산출된 복굴절의 크기, 상기 수직 편광 진폭 정보 및 상기 수평 편광 진폭 정보에 기초하여 상기 측정 대상물에 대한 복굴절 방향에 대한 정보가 산출하는 것을 특징으로 하는 복굴절 측정 장치
4 4
제3항에 있어서, 상기 광원부는, 레이저 빔을 출력하는 레이저 광원과; 상기 레이저 광원으로부터 출력된 레이저 빔이 통과하여 45°기울어진 편광 상태를 갖는 상기 선형 편광 빔을 형성되도록 수직 편광 및 수평 편광 방향 각각에 대해 45°기울어진 편광 상태를 갖는 선형편광판을 포함하는 것을 특징으로 하는 복굴절 측정 장치
5 5
Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피를 이용한 복굴절 측정 방법에 있어서, (a) 수직 편광 및 수평 편광 방향 각각에 대하여 45°기울어진 편광 방향을 갖는 선형 편광 빔이 형성되는 단계와; (b) 상기 선형 편광 빔이 측정 빔 경로와 기준 빔 경로로 분할되어 진행되는 단계와; (c) 상기 선형 편광 빔이 상기 측정 빔 경로 상에 배치된 측정 대상물을 투과하여 측정빔이 형성되는 단계와; (d) 상기 선형 편광이 Off-axis 방식이 적용 가능하도록 상기 기준 빔 경로에 대해 기울어져 배치된 기준 미러로 부터 반사되어 기준빔이 형성되는 단계와; (e) 상기 측정빔과 상기 기준빔이 상호 간섭된 간섭광이 형성되는 단계와; (g) 상기 간섭광이 상호 편광 방향이 수직인 제1 편광판 및 제2 편광판 방향으로 분할되어 진행하는 단계와; (h) 상기 간섭광이 상기 제1 편광판을 통과하여 형성된 수직 편광 성분이 제1 촬상부에 의해 촬상되는 단계와; (i) 상기 간섭광이 상기 제2 편광판을 통과하여 형성된 수평 편광 성분이 제2 촬상부에 의해 촬상되는 단계와; (j) 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부로 입사된 상기 수직 편광 성분 및 상기 수평 편광 성분 각각에 대해 Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피 해석 방식이 적용되어, 상기 수직 편광 성분에 대한 수직 편광 위상 정보와 상기 수평 편광 성분에 대한 수평 편광 위상 정보가 추출되는 단계와; (k) 상기 수직 편광 위상 정보 및 상기 수평 편광 위상 정보에 기초하여 상기 측정 대상물에 대한 복굴절의 크기를 산출되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 복굴절 측정 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 (j) 단계는 상기 수직 편광 성분에 대한 수직 편광 진폭 정보와, 상기 수평 편광 성분에 대한 수평 편광 진폭 정보를 추출하는 단계를 더 포함하며; 상기 (k) 단계는 상기 산출된 복굴절의 크기, 상기 수직 편광 진폭 정보, 및 상기 수평 편광 진폭 정보에 기초하여 상기 측정 대상물에 대한 복굴절 방향에 대한 정보가 산출되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복굴절 측정 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.