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2차원 맥세인 박막의 제조방법, 이를 이용한 전자 소자의 제조 방법, 2차원 맥세인 박막을 포함하는 전자 소자(METHOD OF MANUFACTURING A 2-DIMENSIONAL MXene THIN LAYER, METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTRIC ELEMENT, AND ELECTRIC ELEMENT)

  • 기술번호 : KST2017014593
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 2차원 맥세인 박막의 제조방법, 이를 이용한 전자 소자의 제조 방법, 2차원 맥세인 박막을 포함하는 전자 소자에서, 2차원 맥세인 박막의 제조방법은 M2AlC 맥스상 벌크(M은 전이금속을 나타낸다)를 불산 처리하여 M2C(OH)xFy 맥세인 벌크(0003c#x≤2, 0003c#y≤2, 0003c#x+y≤2)를 형성하는 단계와, M2C(OH)xFy 맥세인 벌크를 이용하여 어닐링 공정을 수행하여 M2COx 맥세인 박막을 형성하는 단계를 포함한다.
Int. CL H01L 21/285 (2016.04.05) H01L 21/02 (2016.04.05) H01L 21/324 (2016.04.05)
CPC H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01)
출원번호/일자 1020160025330 (2016.03.02)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0102768 (2017.09.12) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.03.02)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이성주 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 라이센 중국 경기도 수원시 장안구
3 전재호 대한민국 경기도 부천시 소사구
4 장성규 대한민국 경기도 부천시 원미구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 박종수 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
3 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2016-0205138-44
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.12.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.05.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0071717-75
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0350522-12
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.07.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0662718-02
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2017-0662693-48
8 등록결정서
Decision to grant
2017.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0833666-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
M2AlC 맥스상 벌크(M은 전이금속을 나타낸다)를 불산 처리하여 M2C(OH)xFy 맥세인 벌크(0003c#x≤2, 0003c#y≤2, 0003c#x+y≤2)를 형성하는 단계; 및M2C(OH)xFy 맥세인 벌크를 이용하여 수소 가스(H2) 공급 조건에서 900℃ 이상의 온도에서 어닐링 공정을 수행하여 불소원자의 함량이 전체의 2 원자% 미만이고 반도체 특성을 갖는 M2COx 맥세인 박막을 형성하는 단계를 포함하는,2차원 맥세인 박막의 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 M2COx 맥세인 박막을 형성하는 단계는M2C(OH)xFy 맥세인 벌크를 박리하여 M2C(OH)xFy 맥세인 전구 박막을 형성하는 단계; 및M2C(OH)xFy 맥세인 전구 박막에 대해서 어닐링 공정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,2차원 맥세인 박막의 제조방법
3 3
제1항에 있어서,상기 M2COx 맥세인 박막을 형성하는 단계는M2C(OH)xFy 맥세인 벌크에 대해서 어닐링 공정을 수행하여 M2COx 맥세인 벌크를 형성하는 단계; 및M2COx 맥세인 벌크를 박리하여 M2COx 맥세인 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,2차원 맥세인 박막의 제조방법
4 4
제1항에 있어서,상기 어닐링 공정은 1,100℃에서 수행되고, M2COx 맥세인 박막은 불소를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는,2차원 맥세인 박막의 제조 방법
5 5
제1항에 있어서,M2COx 맥세인 박막은 밴드갭 에너지를 갖는 것을 특징으로 하는,2차원 맥세인 박막의 제조 방법
6 6
M2AlC 맥스상 벌크(M은 전이금속을 나타낸다)를 불산 처리하여 M2C(OH)xFy 맥세인 벌크(0003c#x≤2, 0003c#y≤2, 0003c#x+y≤2)를 형성하는 단계;M2C(OH)xFy 맥세인 벌크를 이용하여 수소 가스(H2) 공급 조건에서 900℃ 이상의 온도에서 어닐링 공정을 수행하여 M2COx 맥세인 박막을 포함하는 채널층을 형성하는 단계; 및2개의 전극들과 상기 채널층이 콘택하면서, 2개의 전극들은 서로 이격되도록 배치시키는 단계를 포함하는,전자 소자의 제조 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 채널층을 형성하는 단계는M2C(OH)xFy 맥세인 벌크에 대해서 어닐링 공정을 수행하여 M2COx 맥세인 벌크를 형성하는 단계;M2COx 맥세인 벌크를 박리하는 단계; 및베이스 기판 상에 박리된 M2COx 맥세인 박막을 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,전자 소자의 제조 방법
8 8
제6항에 있어서,상기 채널층을 형성하는 단계는M2C(OH)xFy 맥세인 벌크를 박리하는 단계;베이스 기판 상에 박리된 M2C(OH)xFy 맥세인 전구 박막을 전사하는 단계; 및M2C(OH)xFy 맥세인 전구 박막이 형성된 베이스 기판을 어닐링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,전자 소자의 제조 방법
9 9
소스 전극;상기 소스 전극과 이격된 드레인 전극; 및상기 소스 전극과 상기 드레인 전극 각각과 접촉하고 이들 사이에 개재되며, 채널층으로서 청구항 1의 방법에 따라 제조된 M2COx 맥세인 박막(1≤x≤2)을 포함하는 것을 특징으로 하는,전자 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 성균관대학교 선행공정·플랫폼기술연구개발사업 M3D 집적 초절전 아키텍처 구현을 위한 저온공정 및 원자스위치 소자 개발
2 미래창조과학부 성균관대학교 창의소재디스커버리사업 다중 에너지 준위 유·무기 초분자구조체 소재를 활용한 소재/소자 통합형 동시설계 기반 다치로직 소자기술
3 미래창조과학부 광주과학기술원 글로벌프론티어연구개발사업(하이브리드 인터페이스 기반 미래소재연구) 인공 두뇌급 고성능 소자 구현을 위한 3D 집적 반도체소재 원천기술 개발
4 미래창조과학부 세종대학교 미래유망융합기술파이오니어사업 유해감성의 선택적 미세제어를 위한 나노공정 기반 생체삽입형 집적소자 개발