| 1 |
1
플라즈마 진단 장비를 이용하여 일정한 시간간격으로 순차적으로 측정된 n개의 로우 데이터들(Raw data)을 수집하는 제1 단계; 상기 로우 데이터들을 정규화(normalization)하여 n개의 분석대상 데이터들을 생성하는 제2 단계; 및유클리드 공간에서 모든 경우의 수에 따라 상기 n개의 분석대상 데이터들을 2개의 군집(cluster)으로 분류하고, 각 경우에 대해 분석대상 데이터들 사이의 유클리드 거리에 기초하여 군집 유효도 값들(cluster validity factors)을 산출한 후 산출된 군집 유효도 값들 중 최소값인 최소 군집 유효도 값을 파악하는 제3 단계를 포함하고, 상기 n개의 로우 데이터들 중 최초 측정된 데이터를 제외하고 신규 측정된 로우 데이터를 추가하여 n개의 로우 데이터를 유지한 상태에서 상기 제1 내지 제3 단계를 수행하는 과정을 상기 일정한 시간간격으로 반복적으로 수행하여 상기 최소 군집 유효도 값의 시간에 따른 변화를 파악하며,상기 최소 군집 유효도 값의 시간에 따른 변화율을 기초로 식각 종료점을 진단하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 군집 유효도 값들은 하기 수식 1을 이용하여 산출되는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단 방법:[수식 1]상기 수식 1에서, V, n, xi, 및 는 ‘군집 유효도 값’, ‘분석대상 데이터의 수’, ‘i번째 분석대상 데이터의 값’, ‘상기 n개의 분석대상 데이터의 평균값’및 ‘j번째 군집에 속한 분석대상 데이터들의 평균값’을 각각 나타내고, aij는 i번째 분석대상 데이터가 j번째 군집에 속할 때는 1이며 i번째 분석대상 데이터가 j번째 군집에 속하지 않을 때에는 0이다
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 플라즈마 진단 장비는 빛 방출 분석장치(OES), 자체 빛 방출 분석장치(SPOES) 또는 플라즈마 임피던스 모니터링 장치(VI probe)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단 방법
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 플라즈마 진단 장비가 플라즈마로부터 발생되는 M개의 파장들에 대한 각각의 강도를 측정하는 빛 방출 분석장치(OES) 또는 자체 빛 방출 분석장치(SPOES)를 포함하는 경우, 상기 로우 데이터는 상기 M개의 파장들 중 2개 이상의 파장들의 각각의 강도 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단 방법
|
| 5 |
5
제3항에 있어서, 상기 플라즈마 진단 장비가 플라즈마 임피던스 모니터링 장치(VI probe)가 사용되는 경우, 상기 로우 데이터 각각은 각각의 측정 시간에서의 전압, 전류 및 임피던스 및 그 고조파들 각각의 크기 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단 방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 로우 데이터들은 표준 편차를 기초로 정규화되는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단 방법
|
| 7 |
7
삭제
|
