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하기 화학식 1로 표시되는 화합물:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1은 수소 또는 C1-6알킬,R2a 내지 R2b는 각각 독립적으로 C1-6알킬,n1은 0 내지 40에서 선택되는 정수,n2는 0 내지 40에서 선택되는 정수,L은, 또는Y는 ,상기 m은 1 내지 3에서 선택되는 정수
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제1항에 있어서,상기 화합물은 광반응성 핵산 합성 또는 핵산 분리 용도로 사용되는 것인 화합물
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제1항에 있어서,상기 화합물은 하기 화학식 2, 화학식 3, 또는 화학식 4로 표시되는 것인 화합물:[화학식 2][화학식 3][화학식 4]상기 화학식 2 내지 화학식 4 에서,R1은 수소 또는 C1-6알킬,R2a 내지 R2b는 각각 독립적으로 C1-6알킬,n은 0 내지 40에서 선택되는 정수,m은 1 내지 3에서 선택되는 정수
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4
하기 화학식 1의 화합물을 포함하는 광반응성 핵산 합성용 조성물:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1은 수소 또는 C1-6알킬,R2a 내지 R2b는 각각 독립적으로 C1-6알킬,n1은 0 내지 40에서 선택되는 정수,n2는 0 내지 40에서 선택되는 정수,L은, 또는Y는 ,상기 m은 1 내지 3에서 선택되는 정수
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5 |
5
제4항에 있어서,상기 조성물은 화학식 1의 화합물에 포함된 비닐기를 통해 고분자와 결합하는 것인, 핵산 합성용 조성물
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6 |
6
제4항에 있어서,상기 조성물은 화학식 1의 화합물에 포함된 포스포르아미다이트 모이어티를 통해 핵산과 접합되는 것인, 핵산 합성용 조성물
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7 |
7
제4항에 있어서,상기 조성물은 적외선 조사시 화학식 1의 화합물에 포함된 쿠마린에 의해 이광자 흡수를 통해 합성된 핵산을 분리하는 것인, 핵산 합성용 조성물
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8 |
8
하기 화학식 1로 표기되는 화합물과 제1핵산을 반응시켜 화학식1의 포스포르아미다이트 모이어티에 제1핵산이 결합된 제1복합체를 제조하는 제1단계; 및상기 제1복합체를 제2핵산과 접촉시켜 상보적인 서열의 핵산 이중가닥을 형성하는 제2복합체를 제조하는 제2단계;를 포함하는 것인, 핵산 제조방법:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1은 수소 또는 C1-6알킬,R2a 내지 R2b는 각각 독립적으로 C1-6알킬,n1은 0 내지 40에서 선택되는 정수,n2는 0 내지 40에서 선택되는 정수,L은, 또는Y는 , 상기 m은 1 내지 3에서 선택되는 정수
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제8항에 있어서,상기 제2핵산은 제1핵산의 일부 또는 전부와 상보적인 서열을 갖는 단일가닥 핵산 또는 A, G, C 및 T 핵산 단량체의 혼합물인 것인, 핵산 제조방법
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10 |
10
제8항에 있어서,상기 제2단계 이전 또는 이후에 화학식1의 비닐기에 고분자 네트워크겔을 결합시켜 제3복합체를 형성하는 제3단계를 추가로 포함하는 것인, 핵산 제조방법
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11 |
11
제10항에 있어서,상기 제3 단계 이후 상기 상기 화합물에 광을 조사하여 핵산을 분리하는 단계를 더 포함하는 것인, 핵산 제조방법
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12
제11항에 있어서,상기 광은 자외선, 가시광선 또는 적외선인 것인, 핵산 제조방법
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