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커버층;상기 커버층 하부에 배치되는 디스플레이 패널;상기 디스플레이 패널의 하부에 배치되는 절연층;상기 절연층의 하부에 배치되어 객체에 의해 가해지는 터치 압력을 검출하기 위한 압력 센서; 및상기 압력 센서의 하부에 배치되는 그레이팅(grating) 기판;을 포함하고,상기 그레이팅 기판의 상면은 돌출부와 함몰부로 구성되며,상기 함몰부의 폭은 상기 돌출부의 폭보다 좁은,터치 입력 장치
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제 1항에 있어서,상기 터치 압력에 따라 상기 커버층, 상기 디스플레이 패널 및 상기 절연층 중 적어도 하나는 아래로 수직 하강하거나 휘어지는,터치 입력 장치
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제 1항에 있어서,상기 절연층은 상기 절연층의 유전율을 향상시키기 위한 소정의 나노 파티클을 포함하고, 상기 절연층의 유전율 변화에 따른 상기 압력 센서의 정전용량 변화량을 기초로 상기 터치 압력을 검출하는,터치 입력 장치
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제 1항에 있어서,상기 압력 센서는 구동 센서 및 수신 센서를 포함하고,상기 구동 센서와 상기 수신 센서 사이의 정전용량 변화량에 기초하여 상기 터치 압력을 검출하는,터치 입력 장치
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제 1항에 있어서,또한, 터치 입력 장치
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제 1항에 있어서,상기 그레이팅 기판은 플렉서블한,터치 입력 장치
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터치 입력 장치 제조 방법에 있어서,상면이 볼록부와 오목부를 포함하는 요철 형상인 베이스 기판을 준비하는 단계;상기 베이스 기판에 대한 산화와 식각(etching) 과정을 수행하여 상기 볼록부의 폭을 줄이는 단계;상기 베이스 기판 상에 인캡슐레이션 물질을 주입하는 단계;상기 베이스 기판으로부터 상기 인캡슐레이션 물질을 분리하여 상기 볼록부에 대응하여 형성된 함몰부의 폭이 상기 오목부에 대응하여 형성된 돌출부의 폭보다 좁은 그레이팅(grating) 기판을 준비하는 단계;상기 그레이팅 기판 상에 압력 센서를 형성하는 단계; 및상기 압력 센서 상에 절연층을 형성하는 단계;를 포함하는,터치 입력 장치 제조 방법
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제 7항에 있어서,상기 터치 입력 장치는 커버층, 상기 커버층 하부에 배치되는 디스플레이 패널, 상기 디스플레이 패널의 하부에 배치되는 상기 절연층, 및 상기 절연층의 하부에 배치되어 객체에 의해 가해지는 터치 압력을 검출하기 위한 상기 압력 센서를 포함하고,상기 그레이팅 기판은 상기 압력 센서의 하부에 배치되는,터치 입력 장치 제조 방법
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제 8항에 있어서, 상기 터치 압력에 따라 상기 커버층, 상기 디스플레이 패널 및 상기 절연층 중 적어도 하나는 아래로 수직 하강하거나 휘어지는,터치 입력 장치 제조 방법
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10
제 7항에 있어서,상기 절연층은 상기 절연층의 유전율을 향상시키기 위한 소정의 나노 파티클을 포함하고, 상기 절연층의 유전율 변화에 따른 상기 압력 센서의 정전용량 변화량을 기초로 상기 터치 압력을 검출하는,터치 입력 장치 제조 방법
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제 7항에 있어서,상기 압력 센서는 구동 센서 및 수신 센서를 포함하고,상기 구동 센서와 상기 수신 센서 사이의 정전용량 변화량에 기초하여 상기 터치 압력을 검출하는,터치 입력 장치 제조 방법
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제 8항에 있어서,상기 터치 압력이 가해질 때 상기 객체에 의한 전기장 손실을 차단하기 위한 그라운드층을 더 포함하는,터치 입력 장치 제조 방법
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제 7항에 있어서,상기 그레이팅 기판은 플렉서블한,터치 입력 장치 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 함몰부의 폭은 30 nm 이상 내지 350 nm 이하인,터치 입력 장치
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제 7항에 있어서,상기 함몰부의 폭은 30 nm 이상 내지 350 nm 이하인,터치 입력 장치 제조 방법
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