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유전성 유체 조성물 및 이를 이용한 3차원 변형 시스템

  • 기술번호 : KST2022008288
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유전성 유체 조성물 및 이를 이용한 3차원 변형 시스템에 관한 것으로서, 유전성 유체; 및 상기 유전성 유체의 계면에 도입된 유전성 입자;를 포함하는 것이다. 본 발명에 따른 유전성 유체 조성물은, 전기장 등의 외부 힘이 작용할 때 발생하는 변형을 안정적으로 유지하면서 외부 힘의 변화에 따라 가역적이고 빠르게 변형될 수 있는 장점을 가진다.
Int. CL H01B 3/00 (2006.01.01) H01B 3/20 (2006.01.01) G01L 1/18 (2006.01.01) G01L 9/08 (2006.01.01) H01L 41/08 (2006.01.01)
CPC H01B 3/004(2013.01) H01B 3/20(2013.01) G01L 1/18(2013.01) G01L 9/08(2013.01) H01L 41/08(2013.01)
출원번호/일자 1020200170605 (2020.12.08)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0081104 (2022.06.15) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.12.08)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김호영 서울특별시 관악구
2 손경민 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2020-1330047-48
2 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2021.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2021-5205564-29
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.09.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2022.04.04 수리 (Accepted) 4-1-2022-5079741-71
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번호 청구항
1 1
유전성 유체; 및상기 유전성 유체의 계면에 도입된 유전성 입자;를 포함하는,유전성 유체 조성물
2 2
제1항에 있어서,상기 유전성 유체는, 피마자유, 스테아릴알코올 및 트리뷰티린으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,유전성 유체 조성물
3 3
제1항에 있어서,상기 유전성 유체는, 전기 전도도가 10-8 S/m 이하인 것인,유전성 유체 조성물
4 4
제1항에 있어서,상기 유전성 입자는, 밀도가 0
5 5
제1항에 있어서,상기 유전성 입자의 밀도와 상기 유전성 유체의 밀도의 차는 0
6 6
제1항에 있어서,상기 유전성 입자는, 운모, 석면, 유리, 고무, 합성수지 및 세라믹으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,유전성 유체 조성물
7 7
제1항에 있어서,상기 유전성 입자는, 중공형인 것인,유전성 유체 조성물
8 8
제1항에 있어서,상기 유전성 입자는, 상기 유전성 유체의 접촉각이 30° 이상인 것인,유전성 유체 조성물
9 9
유전성 유체 및 상기 유전성 유체의 계면에 도입된 유전성 입자를 포함하는 유전성 유체 조성물;상기 유전성 유체의 계면과 이격되어 배치되는 상부 전극; 및상기 유전성 유체의 기저면에 형성되거나 상기 유전성 유체의 기저면과 이격되어 배치되는 하부 전극;을 포함하고,상기 상부 전극 및 상기 하부 전극에 전압을 인가하여 형성된 전기장 하에서 상기 유전성 유체의 계면이 변형되는 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
10 10
제9항에 있어서,상기 상부 전극은, 복수 개로 배치되는 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
11 11
제10항에 있어서,상기 복수 개의 상부 전극은, 격자 형태로 배치되는 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
12 12
제10항에 있어서,상기 복수 개의 상부 전극은, 전압의 인가 여부를 개별적으로 결정할 수 있는 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
13 13
제9항에 있어서,상기 유전성 유체의 계면 및 상기 상부 전극 사이에 기체;가 더 도입되는 것이고,상기 기체는, 대기, SF6 또는 둘 다를 포함하는 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
14 14
제13항에 있어서,상기 기체는, 대기 및 SF6를 포함하는 것이고,상기 대기와 상기 SF6의 부피 조성비는, 80 : 20 내지 10 : 90인 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
15 15
제9항에 있어서,상기 인가되는 전압은, 5 kV 이상인 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
16 16
제9항에 있어서,상기 유전성 유체의 계면의 변형도는, 인가되는 전압에 비례하여 증가하는 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
17 17
제9항에 있어서,상기 유전성 유체 조성물은, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 유전성 유체 조성물인 것인,유전성 유체 조성물을 이용한 3차원 변형 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 서울대학교산학협력단 개인기초연구(과기정통부)(R&D) 메타모핑 기계시스템 연구단