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연마 입자 및 유체를 포함하는 용액을 준비하는 단계;상기 용액이 다공성 멤브레인 필터 영역을 통과하는 단계; 및상기 영역을 통과한 용액에서 유체를 제거하여 연마용 슬러리를 제조하는 단계; 를 포함하고,상기 용액이 상기 영역을 통과하는 단계에서, 십자 흐름 여과 방식(Tangential Flow Filtration)에 의해 상기 연마 입자 중 평균 입자 크기(mean particle size)가 100 nm 이하인 것이 제거되는 것인, 연마용 슬러리의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 연마 입자 중 상기 다공성 멤브레인 필터를 통과한 유체에 포함된 연마 입자의 속력 VF(t) 는 하기 수학식 1 을 따라 정해지는 것인, 연마용 슬러리의 제조 방법:[수학식 1](상기 수학식 1 에서,ΔP 는 상기 다공성 멤브레인 필터 내외부의 압력 차이이고, η 은 상기 용액의 점성이고, RM 은 상기 다공성 멤브레인 필터의 고유 저항(m-1)이고, RL(t) 는 상기 용액이 상기 다공성 멤브레인 필터를 통과하면서 발생한 필터 케이크 레이어의 저항(m-1)이며, t 는 시간임)
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제 1 항에 있어서,상기 연마용 슬러리는 상기 연마 입자 중 평균 입자 크기(mean particle size)가 100 nm 이상인 것을 포함하는 것인, 연마용 슬러리의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 용액이 상기 영역을 통과하는 단계에서, 십자 흐름 여과 방식에 의해 상기 연마 입자 중 평균 입자 크기가 60 nm 이하인 것이 제거되는 것인, 연마용 슬러리의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 연마 입자의 평균 입자 크기(mean particle size) 는 1 nm 내지 200 nm 인, 연마용 슬러리의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 십자 흐름 여과 방식에 의해 제거된 연마 입자의 평균 입자 크기는, 상기 연마용 슬러리의 평균 입자 크기보다 작은 것인, 연마용 슬러리의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 다공성 멤브레인 필터의 기공은 30 nm 내지 200 nm 인, 연마용 슬러리의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 연마 입자는 세리아(Ceria, CeO2), 알루미나(Al2O3), 실리콘 카바이드(SiC), 다이아몬드, 지르코니아(ZrO2), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 연마용 슬러리의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 유체는 에탄올, 증류수(deionized water), 메탄올, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 연마용 슬러리의 제조 방법,
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제 1 항에 있어서,상기 다공성 멤브레인 필터는 PES(polyethersulfone), PVDF(polyvinylidene fluoride), PTFE(polytetrafluorethylene), polysulfone, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 연마용 슬러리의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 것인, 연마용 슬러리
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제 11 항에 따른 연마용 슬러리를 이용하여 연마대상 물질을 연마하는 단계; 및상기 연마된 연마 대상 물질을 세척하는 단계;를 포함하는,연마 방법
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제 12 항에 있어서,상기 연마 대상 물질은 SiO2, Si, SiC, Al2O3, SiN, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는, 연마 방법
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