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양자 광원을 입력 및 출력하는 양자 광원부;상기 양자 광원을 빔-분리(beam-splitting)하는 제1 광학 모듈;상기 양자 광원의 진폭, 위상, 및 진행 방향을 제어하는 공간 광 변조부;큐빗 제어 게이트를 수행하는 제2 광학 모듈; 및단일 광자를 검출하는 광자 검출부를 포함하고,상기 제1 광학 모듈, 상기 공간 광 변조부, 및 상기 제2 광학 모듈은 필름형 구조를 가지고,상기 양자 광원부, 상기 제1 광학 모듈, 상기 공간 광 변조부, 상기 제2 광학 모듈, 및 상기 광자 검출부는 3차원으로 적층된 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서,상기 양자 광원부 및 상기 광자 검출부 사이에는 N(N은 자연수)개의 모듈 블록이 반복적으로 배치되고,상기 모듈 블록은,상기 제1 광학 모듈, 상기 제2 광학 모듈, 상기 공간 광 변조부, 및 상기 제2 광학 모듈이 순차적으로 적층된 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서,상기 제1 광학 모듈은 광원 빔 분리부 및 광 반사부를 포함하고,상기 제1 광학 모듈에서, 상기 광원 빔 분리부 및 광 반사부는 순차적으로 반복하여 배열되는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서,상기 제1 광학 모듈은 편광 빔 분리부를 포함하고,상기 제1 광학 모듈에서, 상기 편광 빔 분리부는 반복하여 배열되는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서,상기 제1 광학 모듈은 상기 양자 광원을 제1 빔 및 제2 빔으로 빔-분리(beam-splitting)하고,상기 제1 빔 및 상기 제2 빔 사이의 거리는 10μm 내지 100μm 이고,상기 제1 빔 및 상기 제2 빔 사이의 상기 거리는 상기 공간 광 변조부의 공간적 특성과 일치하도록 조정되는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서, 상기 제2 광학 모듈은,상기 양자 광원부, 상기 제1 광학 모듈, 상기 공간 광 변조부, 및 상기 광자 검출부 중 어느 하나 및 어느 다른 하나 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서, 상기 제2 광학 모듈은,HWP(Half Wave Plate), QWP(Quarter Wave Plate), Polarizer, Phase Shifter, NLO(Nonlinear Optics), ENZ(Epsilon-Near-Zero), Plasmonic Mat, 2D Mat 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서,상기 공간 광 변조부는,반사모드 및 투과모드 중 적어도 하나로 동작하는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서,상기 공간 광 변조부는,편광 비의존적 공간 광 변조부(PI-SLM), 편광 의존적 공간 광 변조부(PS-SLM), 디지털 멀티미러 장치(DMD) 중 적어도 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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제1항에 있어서,상기 광자 검출부는,CMOS 이미지 센서 기반의 GIS 검출기, 및 CMOS 이미지 센서 기반의 GISOI 검출기 중 적어도 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터
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양자 광원을 입력 및 출력하는 양자 광원부를 형성하는 단계;상기 양자 광원을 빔-분리(beam-splitting)하는 제1 광학 모듈을 형성하는 단계;상기 양자 광원의 진폭, 위상, 및 진행 방향을 제어하는 공간 광 변조부를 형성하는 단계;큐빗 제어 게이트를 수행하는 제2 광학 모듈을 형성하는 단계; 및단일 광자를 검출하는 광자 검출부를 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1 광학 모듈, 상기 공간 광 변조부, 및 상기 제2 광학 모듈은 필름형 구조를 가지고,상기 양자 광원부, 상기 제1 광학 모듈, 상기 공간 광 변조부, 상기 제2 광학 모듈, 및 상기 광자 검출부는 3차원으로 적층되고,상기 제2 광학 모듈은 상기 양자 광원부, 상기 제1 광학 모듈, 상기 공간 광 변조부, 및 상기 광자 검출부 중 어느 하나 및 어느 다른 하나 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는,광양자컴퓨터의 제조 방법
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