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전자방출 소스유닛 및 이를 구비하는 디지털 엑스레이 소스

  • 기술번호 : KST2018013143
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 개시된 본 발명에 의한 디지털 엑스레이 소스는, 내부에 공간을 가지는 중공의 몸체유닛, 몸체유닛의 내부에서 전자를 방출하는 전자방출 소스유닛 및, 전자방출 소스유닛으로부터 방출된 전자와의 충돌에 의해 광을 발생시켜 몸체유닛의 외부로 안내하는 애노드유닛을 포함하며, 전자방출 소스유닛은 복수의 패터닝 메쉬홀을 가지고 전자를 방출하는 에미터부의 상부에 적층되어 에미터부로부터 성장되는 탄소나노튜브를 패터닝시킨다. 이러한 구성에 의하면, 성장되는 탄소나노튜브의 패터닝이 용이하여 선량 품질 향상에 기여할 수 있게 된다.
Int. CL H01J 1/304 (2006.01.01) H01J 3/02 (2006.01.01) H01J 35/06 (2006.01.01) B82Y 10/00 (2017.01.01)
CPC H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01)
출원번호/일자 1020170034382 (2017.03.20)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1986413-0000 (2019.05.30)
공개번호/일자 10-2018-0106291 (2018.10.01) 문서열기
공고번호/일자 (20190930) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.03.20)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안정선 대한민국 서울특별시 동대문구
2 류제황 대한민국 서울특별시 동대문구
3 여승준 대한민국 서울특별시 서초구
4 박헌국 대한민국 서울특별시 동대문구
5 박상준 대한민국 경기도 군포시 산본천로 **, *
6 정재익 대한민국 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0270517-93
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.07.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.09.07 수리 (Accepted) 9-1-2017-0029291-25
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.02.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0116552-94
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.04.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0382247-43
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.04.18 수리 (Accepted) 1-1-2018-0382244-17
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2018.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0563489-77
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.10.22 보정각하 (Rejection of amendment) 1-1-2018-1040490-23
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2018-1040471-66
10 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment
2019.02.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0134452-83
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.02.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0134453-28
12 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
2019.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2019-0311627-82
13 법정기간연장승인서
2019.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0052587-83
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-0433537-09
15 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2019.04.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-0433540-36
16 등록결정서
Decision to Grant Registration
2019.05.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0379352-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
18 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2019.08.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5025666-15
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
음극의 전극을 인가시키는 음극부;상기 음극부에 적층되도록 마련되어 전자를 방출하는 적어도 하나 이상의 에미터가 상호 적층되어 마련되는 에미터부;상기 에미터부로부터 성장하는 탄소나노튜브를 패터닝시키는 패터닝부;상기 에미터부로부터 방출된 상기 전자를 추출하는 게이트부; 및상기 게이트부에서 추출된 상기 전자를 포커싱하여 외부로 방출시키는 포커싱부;를 포함하되,상기 패터닝부는,상기 에미터부를 수평 방향으로 정렬시키는 정렬 가이더; 및상기 에미터부와 마주하는 복수의 패터닝 메쉬홀이 관통 형성되는 금속성 재질의 박판 형상을 가지고 상기 에미터부에 대해 면방향으로 밀착되도록 적층되며, 상기 에미터부의 탄소나노튜브를 가압하는 패터닝 메쉬;와상기 패터닝부의 테두리 인근에 상기 페터닝 메쉬가 형성되지 않아 상기 에미터부의 테두리를 가압하고,상기 게이트부는,상기 패터닝부에 적층되며 금속성 재질로 형성되는 게이트 전극; 및상기 패터닝 메쉬와 마주하도록 상기 게이트 전극에 마련되되, 복수의 게이트 메쉬홀이 관통 형성되는 게이트 메쉬;를 포함하고,상기 패터닝 메쉬홀의 크기가 게이트 메쉬홀보다 상대적으로 크게 형성되어 상기 탄소나노튜브로부터 발생하는 전자가 충돌없이 상기 게이트 메쉬홀을 통과하여 추출할 수 있도록 하며,상기 정렬 가이더는 상기 적어도 하나 이상의 에미터의 직경과 대응되는 내경과 상기 적어도 하나 이상의 에미터의 적층 높이에 대응되는 높이를 가지고 상기 에미터부가 내부에 삽입 가능한 가이더홀을 구비하고, 상기 가이더홀의 내경과 높이에 의해 수직 및 수평방향으로 자가 정렬되는 전자방출 소스유닛
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 패터닝 메쉬홀 및 게이트 메쉬홀은 원형, 사격형 또는 벌집 형상을 가지고 상기 전자를 추출하는 전자방출 소스유닛
5 5
제1항에 있어서, 상기 에미터부는 상호 적층 가능한 적어도 하나의 에미터를 포함하는 전자방출 소스유닛
6 6
제1항에 있어서, 상기 음극부와 상기 게이트부 사이를 상호 절연시키는 제1절연부재 및 상기 게이트부와 상기 포커싱부 사이를 상호 절연시키는 제2절연부재를 포함하는 절연부; 를 포함하는 전자방출 소스유닛
7 7
제6항에 있어서, 상기 제1절연부재는 상기 패터닝부와 상기 게이트부 사이에 적층되는 박판 형상을 가지며, 상기 제2절연부재는 상기 게이트부와 상기 포커싱부 사이에 적층되는 박판 형상을 가지는 전자방출 소스유닛
8 8
제1항에 있어서, 상기 포커싱부는, 상기 전자를 포커싱시키는 포커싱홀을 가지는 포커싱 전극; 및상기 포커싱 전극으로부터 연장되어 외부 전원과 연결되는 전원 연결부;를 포함하는 전자방출 소스유닛
9 9
제8항에 있어서, 상기 전원 연결부는, 상기 포커싱 전극으로부터 수직 하방향으로 연장되는 전원 보호부재; 및상기 전원 보호부재의 내부를 통해 연장되어 외부의 전원과 연결되는 전원 라인; 을 포함하며, 상기 전원 보호부는 상기 게이트부, 패터닝부, 에미터부 및 음극부를 순차적으로 관통하여 상기 외부의 전원과 연결되는 전자방출 소스유닛
10 10
내부에 공간을 가지는 중공의 몸체유닛; 상기 몸체유닛의 내부에서 전자를 방출하는 상기 제1항, 제4항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 전자방출 소스유닛; 상기 전자방출 소스유닛으로부터 방출된 상기 전자와의 충돌에 의해 광을 발생시켜 상기 몸체유닛의 외부로 안내하는 애노드유닛; 을 포함하는 디지털 엑스레이 소스
11 11
내부에 공간을 가지는 중공의 몸체유닛;상기 몸체유닛의 내부에서 전자를 방출하는 전자방출 소스유닛; 및상기 전자방출 소스유닛으로부터 방출된 상기 전자와의 충돌에 의해 광을 발생시켜 상기 몸체유닛의 외부로 안내하는 애노드유닛;을 포함하며,상기 전자방출 소스유닛은 복수의 패터닝 메쉬홀을 가지고 전자를 방출하는 적어도 하나 이상의 에미터가 상호 적층되어 마련되는 에미터부의 상부에 적층되어, 상기 에미터부로부터 성장되는 탄소나노튜브를 패터닝시키는 패터닝부를 포함하되,상기 패터닝부는,상기 에미터부를 수평 방향으로 정렬시키는 정렬 가이더; 및상기 에미터부와 마주하는 복수의 패터닝 메쉬홀이 관통 형성되는 금속성 재질의 박판 형상을 가지고 상기 에미터부에 대해 면방향으로 밀착되도록 적층되며, 상기 에미터부의 상기 탄소나노튜브를 가압하는 패터닝 메쉬;와상기 패터닝부의 테두리 인근에 상기 페터닝 메쉬가 형성되지 않아 상기 에미터부의 테두리를 가압하고,상기 전자방출 소스유닛은 상기 에미터부로부터 방출된 상기 전자를 추출하는 게이트부를 포함하며, 상기 게이트부는,상기 패터닝부에 적층되며 금속성 재질로 형성되는 게이트 전극; 및상기 패터닝 메쉬와 마주하도록 상기 게이트 전극에 마련되되, 복수의 게이트 메쉬홀이 관통 형성되는 게이트 메쉬;를 포함하고,상기 패터닝 메쉬홀의 크기가 상기 게이트 메쉬홀보다 상대적으로 크게 형성되어 상기 탄소나노튜브로부터 발생하는 전자가 충돌없이 상기 게이트 메쉬홀을 통과하여 추출할 수 있도록 하며,상기 정렬 가이더는 상기 적어도 하나 이상의 에미터의 직경과 대응되는 내경과 상기 적어도 하나 이상의 에미터의 적층 높이에 대응되는 높이를 가지고 상기 에미터부가 내부에 삽입 가능한 가이더홀을 구비하고, 상기 가이더홀의 내경과 높이에 의해 수직 및 수평방향으로 자가 정렬되는 디지털 엑스레이 소스
12 12
삭제
13 13
삭제
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제11항에 있어서, 상기 패터닝 메쉬홀 및 게이트 메쉬홀은 원형, 사격형 또는 벌집 형상을 가지고 상기 전자를 추출하는 디지털 엑스레이 소스
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.