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폴리아스팔트아미드 공중합체를 이용한 표면 개질

  • 기술번호 : KST2014035930
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 반복단위를 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체 및 상기 공중합체를 이용한 표면 개질 방법에 관한 것이다. 003c#화학식 1003e#003c#화학식 2003e#
Int. CL C08G 69/02 (2006.01) C08G 69/04 (2006.01) C08J 7/04 (2006.01) C08J 3/24 (2006.01)
CPC C08G 69/02(2013.01) C08G 69/02(2013.01) C08G 69/02(2013.01) C08G 69/02(2013.01) C08G 69/02(2013.01) C08G 69/02(2013.01)
출원번호/일자 1020100098394 (2010.10.08)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1157520-0000 (2012.06.12)
공개번호/일자 10-2012-0036623 (2012.04.18) 문서열기
공고번호/일자 (20120622) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.08)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김지흥 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 안중현 대한민국 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0652100-65
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.07.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2011-0066899-68
4 등록결정서
Decision to grant
2012.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0191054-32
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090770-53
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.20 수리 (Accepted) 4-1-2012-5131828-19
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2012-5137236-29
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 반복단위를 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체:003c#화학식 1003e#003c#화학식 2003e#상기 식 중 R1은 을 나타내고,여기서 R4는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌을 나타내며, R5 및 R6은 각각 독립적으로 하이드록시기를 나타내고,상기 식 중 R2는 R7-NH2를 나타내며, 여기서 R7은 탄소수 1 내지 6의 알킬렌을 나타낸다
2 2
제 1 항에 있어서, R1은 인 폴리아스팔트아미드 공중합체
3 3
제 1 항에 있어서, R4 및 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬렌인 폴리아스팔트아미드 공중합체
4 4
화학식 1, 화학식 2 및 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체:003c#화학식 1003e#003c#화학식 2003e#003c#화학식 3003e#상기 식 중 R1은 을 나타내고,여기서 R4는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌을 나타내며, R5 및 R6는 각각 독립적으로 하이드록시기를 나타내고,상기 식 중 R2는 R7-NH2를 나타내며, 여기서 R7은 탄소수 1 내지 6의 알킬렌을 나타내고
5 5
제 4 항에 있어서, R1은 인 폴리아스팔트아미드 공중합체
6 6
제 4 항에 있어서, R4 및 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬렌인 폴리아스팔트아미드 공중합체
7 7
제 4 항에 있어서, R8은 탄소수 1 내지 4의 알킬렌인 폴리아스팔트아미드 공중합체
8 8
화학식 4로 표시되는 폴리아스팔트아미드 가교 중합체:003c#화학식 4003e#상기 식 중 X는 을 나타내고여기서 R11은 탄소수 1 내지 6의 알킬렌을 나타내며,R12 및 R13은 각각 독립적으로 하이드록시기를 나타내고,R14는 -NH-R15-를 나타내며, R15는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌을 나타낸다
9 9
제 8 항에 있어서,X는 인 폴리아스팔트아미드 가교 중합체
10 10
제 8 항에 있어서,R11 및 R15는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬렌인 폴리아스팔트아미드 가교 중합체
11 11
폴리숙신이미드(PSI)를 화학식 5로 표시되는 화합물과 반응시키는 단계; 및상기 단계에서 제조된 반응물을 화학식 6으로 표시되는 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체의 제조 방법
12 12
제 11 항에 있어서,아스팔트 산을 용매의 존재하에 중합시켜 폴리숙신이미드(PSI)를 제조하는 단계를 추가로 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체의 제조 방법
13 13
제 11 항에 있어서, 화학식 6으로 표시되는 화합물과의 반응은 0 내지 30℃에서 4 내지 8 시간 동안 수행되는 폴리아스팔트아미드 공중합체의 제조 방법
14 14
제 11 항에 있어서,제조된 폴리아스팔트아미드 공중합체를 석출 및 세척하는 단계를 추가로 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체의 제조 방법
15 15
제 11 항에 있어서,제조된 폴리아스팔트아미드 공중합체를 pH 4 이하로 적정하는 단계를 추가로 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체의 제조 방법
16 16
폴리숙신이미드(PSI)를 화학식 5로 표시되는 화합물과 반응시키는 단계;상기 단계에서 제조된 반응물을 화학식 6으로 표시되는 화합물과 반응시키는 단계; 및상기 단계에서 제조된 반응물을 화학식 7로 표시되는 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체의 제조 방법
17 17
제 1 항 또는 제 4 항에 따른 폴리아스팔트아미드 공중합체를 pH 8 내지 pH 9에서 산화시키는 단계; 및 상기 산화된 폴리아스팔트아미드 공중합체를 가교시키는 단계를 포함하는 폴리아스팔트아미드 공중합체를 가교시키는 방법
18 18
기재; 및상기 기재의 일면 또는 양면에 형성되고, 제 8 항에 따른 폴리아스팔트아미드 가교 중합체를 함유하는 코팅층을 포함하는 표면처리 기판
19 19
제 18 항에 있어서, 기재는 금속, 금속 산화물, 합성 폴리머 또는 세라믹인 표면처리 기판
20 20
제 18 항에 있어서, 코팅층의 접촉각은 10 내지 40도인 표면처리 기판
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.