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탄소 소스를 포함하는 반응 가스 및 열을 제공하여 반응시킴으로써 형성된, 복수개의 그래핀층; 및상기 복수개의 그래핀층에 있어서 각각의 그래핀 층 사이에 형성되는 복수개의 고분자층을 포함하는, 그래핀/고분자 복합 보호막
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제 1 항에 있어서,상기 그래핀/고분자 복합 보호막은 기체 차단용, 수분 차단용, 또는 기체 및 수분 차단용인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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제 1 항에 있어서,상기 그래핀층은 금속층 상에 탄소 소스를 포함하는 반응 가스 및 열을 제공하여 반응시킴으로써 형성된 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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제 3 항에 있어서,상기 금속층은 Ni, Co, Fe, Pt, Au, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Zr, 황동(brass), 청동(bronze), 백동(white brass), 스테인레스 스틸(stainless steel) 및 Ge 로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 금속 또는 합금을 포함하는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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제 3 항에 있어서,상기 금속층의 두께는 1 nm 내지 1,000 nm인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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제 1 항에 있어서,상기 복수개의 그래핀층 각각은 100 nm 이하의 두께를 가지는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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7
제 1 항에 있어서, 상기 복수개의 고분자층의 각각의 두께는 1 nm 내지 1,000 nm인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자층은 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에틸렌테러프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리카보네이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자층은 롤투롤 코팅, 바코팅, 와이어 바 코팅, 스핀 코팅, 딥코팅, 캐스팅, 마이크로 그라비아 코팅, 그라비아 코팅, 롤 코팅, 침지 코팅, 분무 코팅, 스크린 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 인쇄법 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 방법에 의해 형성되는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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10
제 1 항에 있어서, 상기 그래핀/고분자 복합 보호막은 투명, 플렉서블, 또는 투명 및 플렉서블한 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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11
제 1 항에 있어서, 상기 그래핀/고분자 복합 보호막은 기재 상에 형성되어 있는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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12
제 1 항에 있어서, 상기 복수개의 그래핀층은 1 층 내지 100 층의 그래핀층을 포함하는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막
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13
제 1 금속층 상에 화학기상증착법에 의해 제 1 그래핀층을 형성하고;상기 그래핀층의 일 측면 상에 제 1 고분자 전구체층을 형성한 후, 상기 제 1 고분자 전구체층을 경화시켜 제 1 고분자층을 형성하고;상기 제 1 금속층을 제거하여, 제 1 그래핀층/제 1 고분자층을 포함하는 제 1 복합막을 형성하고;상기 제 1 복합막에, 제 2 그래핀층/제 2 고분자층을 포함하는 제 2 복합막을 형성하는 것을 포함하는, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 13 항에 있어서, 상기 제 2 복합막을 형성하는 것은,상기 제 1 금속층이 제거된 상기 제 1 그래핀층의 타 측면 상에 제 2 고분자 전구체층을 형성하고, 상기 제 2 고분자 전구체층 상에 상기 제 2 그래핀층을 형성한 후 상기 제 2 고분자 전구체층을 경화시키는 것을 포함하는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 2 복합막을 형성하는 것은 복수회 반복하여 수행되는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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16
제 13 항에 있어서, 상기 제 2 복합막은 제 2 금속층 상에 형성된 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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17
제 16 항에 있어서, 상기 제 2 금속층을 제거하는 공정을 추가 포함하는, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 16 항에 있어서,상기 제 1 금속층 및 상기 제 2 금속층 각각은 독립적으로 Ni, Co, Fe, Pt, Au, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Zr, 황동(brass), 청동(bronze), 백동(white brass), 스테인레스 스틸(stainless steel) 및 Ge 로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 금속 또는 합금을 포함하는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 18 항에 있어서, 상기 제 1 금속층 및 상기 제 2 금속층의 두께는 각각 1 nm 내지 1,000 nm인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 그래핀층 및 상기 제 2 그래핀층은 각각 독립적으로 100 nm 이하의 두께를 가지는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 13 항에 있어서, 상기 제 1 고분자층 및 상기 제 2 고분자층의 두께는 각각 독립적으로 1 nm 내지 1,000 nm 인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 13 항에 있어서, 상기 제 1 고분자층 및 상기 제 2 고분자층은 각각 독립적으로 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에틸렌테러프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리카보네이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 제 1 고분자 전구체층 및 상기 제 2 고분자 전구체 층 각각은 독립적으로 롤투롤 코팅, 바코팅, 와이어 바 코팅, 스핀 코팅, 딥코팅, 캐스팅, 마이크로 그라비아 코팅, 그라비아 코팅, 롤 코팅, 침지 코팅, 분무 코팅, 스크린 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 인쇄법 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 방법에 의해 형성되는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 13 항에 있어서, 상기 그래핀/고분자 복합 보호막은 기체 차단용, 수분 차단용, 또는 기체 및 수분 차단용인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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금속층 상에 화학기상증착법에 의해 제 1 그래핀층을 형성하고;상기 제 1 그래핀층 상에 제 1 고분자 전구체층을 형성하고;상기 제 1 고분자 전구체층을 경화시켜 제 1 고분자층을 형성하는 것을 포함하는, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 25 항에 있어서, 상기 제 1 그래핀층은 상기 금속층의 양 측면에 모두 형성된 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 25 항에 있어서,상기 제 1 고분자 전구체층을 경화시키기 전에, 상기 제 1 고분자 전구체층 상에 제 2 그래핀층을 형성하고, 상기 제 2 그래핀층 상에 제 2 고분자 전구체층을 형성하는 것을 추가 포함하는, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 27 항에 있어서, 상기 제 2 그래핀층 및 상기 제 2 고분자 전구체층을 형성하는 것은 복수회 반복하여 수행되는 것인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 25 항에 있어서, 상기 금속층은 Ni, Co, Fe, Pt, Au, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Zr, 황동(brass), 청동(bronze), 백동(white brass), 스테인레스 스틸(stainless steel) 및 Ge 로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 금속 또는 합금을 포함하는 것인, 기체 및 수분 차단용 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 25 항에 있어서, 상기 금속층의 두께는 1 nm 내지 1,000 nm인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 27 항에 있어서,상기 제 1 그래핀층 및 상기 제 2 그래핀층은 각각 독립적으로 100 nm 이하의 두께를 가지는 것인, 기체 및 수분 차단용 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 27 항에 있어서, 상기 제 1 고분자 전구체층 및 상기 제 2 고분자 전구체층의 두께는 각각 독립적으로 1 nm 내지 1,000 nm인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 27 항에 있어서, 상기 제 1 고분자 전구체층 및 상기 제 2 고분자 전구체층 각각은 독립적으로 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에틸렌테러프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리카보네이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 기체 및 수분 차단용 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 27 항에 있어서, 상기 제 1 고분자 전구체층 및 상기 제 2 고분자 전구체층은 각각 독립적으로 롤투롤 코팅, 바코팅, 와이어 바 코팅, 스핀 코팅, 딥코팅, 캐스팅, 마이크로 그라비아 코팅, 그라비아 코팅, 롤 코팅, 침지 코팅, 분무 코팅, 스크린 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 인쇄법 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 방법에 의해 형성되는 것인, 기체 및 수분 차단용 그래핀/고분자 복합 보호막
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제 25 항에 있어서, 상기 그래핀/고분자 복합 보호막은 기체 차단용, 수분 차단용, 또는 기체 및 수분 차단용인, 그래핀/고분자 복합 보호막의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항의 그래핀/고분자 복합 보호막을 포함하는, 물품
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제 36 항에 있어서, 상기 물품은 전자 장치, 광전자 장치, 광학 장치, 발광 장치, OLED(유기 발광 디바이스), 유기 반도체 장치, LCD 디스플레이, 태양광 장치, 박막 센서, 또는 식음료 용기인, 물품
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제 13 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항의 제조 방법에 의해 형성된 그래핀/고분자 복합 보호막을 포함하는, 물품
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제 38 항에 있어서, 상기 물품은 전자 장치, 광전자 장치, 광학 장치, 발광 장치, OLED(유기 발광 디바이스), 유기 반도체 장치, LCD 디스플레이, 태양광 장치, 박막 센서, 또는 식음료 용기인, 물품
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