[KST2014029081][인하대학교] |
복층 구조를 가진 마이크로 렌즈 제조 방법 |
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[KST2022005044][인하대학교] |
레지스트 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법 |
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[KST2014003669][인하대학교] |
임프린팅 공정을 이용한 패턴된 사파이어 기판 제조 방법 |
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[KST2018004257][인하대학교] |
DMD를 이용한 노광시스템(System for exposure using DMD) |
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[KST2021010308][인하대학교] |
산출 리소그래피를 위한 E-Beam 클러스터 구성 방법 및 장치 |
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[KST2014035941][인하대학교] |
임프린팅 공정을 이용한 패턴된 사파이어 기판 제조 방법 (The Fabricating Method of Pattened Sapphire Substrate Using Imprinting) |
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[KST2015157410][인하대학교] |
특정 패턴 형성을 위한 리소그래피 공정 전산 모사 방법 |
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[KST2014013941][인하대학교] |
바이오 칩 상의 채널 형성방법 |
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[KST2014003671][인하대학교] |
임프린트와 포토 리소그래피 공정을 이용한 3차원 구조물제조방법 |
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[KST2023010714][인하대학교] |
주쇄 절단형 고불소화 고분자 포토레지스트 및 그 제조방법 |
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[KST2014023932][인하대학교] |
경사 입사 증착을 이용한 패턴 모사 방법 |
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[KST2023010715][인하대학교] |
포토리소그래피용 레지스트 화합물 및 언더레이어 화합물, 이를 이용하여 형성된 다층 구조 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법 |
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[KST2022018936][인하대학교] |
신규 화합물 및 이를 포함하는 극자외선용 포토레지스트 조성물 |
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[KST2018004216][인하대학교] |
노광 장치(APPARATUS FOR EXPOSURE) |
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[KST2018004237][인하대학교] |
복수의 프리즘을 구비하는 노광장치(APPARATUS FOR EXPOSURE HAVING PLURAL PRISM) |
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[KST2019022811][인하대학교] |
높은 유리전이온도를 가지고 고불소계 용제에 용해되는 고불소화 고분자 화합물 |
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[KST2018004346][인하대학교] |
감광성 수지 코팅 장치(Apparatus for photosensitive resin coating) |
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[KST2024000225][인하대학교] |
4개 이상의 불소 원자를 포함하는 리간드가 결합된 유기금속화합물, 이를 포함하는 레지스트 조성물 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
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[KST2016005310][인하대학교] |
듀얼헤드 노광시스템 및 이를 이용한 노광방법(Dual head exposure system and exposure method using the same) |
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[KST2020001057][인하대학교] |
고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 단분자 포토레지스트 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
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[KST2015158298][인하대학교] |
광 리소그래피를 위한 레지스트 플로우 모델링 방법 |
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[KST2019035880][인하대학교] |
고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 고분자를 포함하는 레지스트 재료 |
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[KST2023010635][인하대학교] |
포토리소그래피용 언더레이어 화합물, 이를 이용하여 형성된 다층 구조 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법 |
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[KST2018004211][인하대학교] |
복수의 DMD를 구비하는 노광장치(APPARATUS FOR EXPOSURE HAVING PLURAL DMD) |
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[KST2015158628][인하대학교] |
리소그래피 시뮬레이터 |
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[KST2014003670][인하대학교] |
마이크로 구조물 제작을 나노 임프린트 리소그래피 공정기법의 몰드 구조 형성 방법 |
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[KST2020011361][인하대학교] |
레지스트 화합물, 이를 사용한 패턴 형성 방법, 및 이를 사용한 반도체 소자 제조 방법 |
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[KST2019004517][인하대학교] |
습식에칭과 레이저를 이용한 금속 박판 홀 가공방법 |
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[KST2019022764][인하대학교] |
노광 방법 |
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[KST2021002874][인하대학교] |
레지스트 화합물, 이를 사용한 패턴 형성 방법, 및 이를 사용한 반도체 소자 제조 방법 |
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