| 1 |
1
태양전지의 표면에 텍스쳐링 공정을 수행하는 플라즈마 식각 장치에 있어서,공정 가스가 채워지고, 식각 공정을 수행하는 공정 챔버;상기 공정 챔버 내부의 일측에 배치되는 제1 전극;상기 제1 전극이 배치된 일측과 대향되는 상기 공정 챔버 내부의 타측에 배치되는 제2 전극;기판을 안착시키기 위해 상기 제2 전극 정면에 설치되는 척; 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되고, 상기 제2 전극으로부터 사전에 설정된 거리만큼 떨어져 배치되고, 다수 개의 미세한 홀이 형성되어 있어 제1 전극 및 제2 전극을 통해 형성된 플라즈마가 상기 미세한 홀을 통과하면서 회절 및 산란되어 상기 척으로 입사되도록 하는 메시 구조물;제2 전극의 가장자리에 배치되는 가이드 지그; 및상기 가이드 지그의 정면에 배치되고, 사전에 설정된 길이로 형성되어 있어 상기 메시 구조물을 제2 전극으로부터 사전에 설정된 거리만큼 떨어져 배치되도록 고정시키는 지지부재;을 구비하고, 상기 플라즈마 식각 장치는 플라즈마 형성 영역과 식각 영역이 구분되는 리모트 플라즈마(remote plasma)를 이용하되, 상기 플라즈마 형성 영역과 식각 영역을 구분하는 쉬쓰 바운더리(sheath boundary)와 제2 전극 사이에 상기 메시 구조물을 배치하여 상기 척에 안착된 기판의 표면을 피라미드 구조로 텍스쳐링(texturing)하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서, 상기 메시 구조물의 다수 개의 홀은원형 또는 다각형 모양으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서, 상기 메시 구조물은금속 재질, 유리 재질, 세라믹 재질 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서, 상기 가이드 지그는퀄츠(quartz) 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치
|
| 6 |
6
제 1항에 있어서, 상기 공정 가스는SF6 가스 및 CF4 가스 중 어느 하나에 O2 가스가 첨가되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치
|
| 7 |
7
제 6항에 있어서, 상기 공정가스는Ar 가스 및 Cl 가스 중 어느 하나를 더 첨가하여 사용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치
|
| 8 |
8
태양전지의 텍스쳐링 방법에 있어서,(a) 플라즈마 식각 장치의 공정 챔버 내의 척에 태양 전지용 기판을 배치하는 단계;(b) 상기 태양 전지용 기판의 전면에 메시구조물을 배치하는 단계;(c) 상기 플라즈마 식각 장치에 전원을 인가하여 기판의 표면을 식각하는 단계;를 포함하고,상기 플라즈마 식각 장치는, 공정 챔버 내부의 일측에 배치되는 제1 전극; 상기 제1 전극이 배치된 일측과 대향되는 상기 공정 챔버 내부의 타측에 배치되는 제2 전극;기판을 안착시키기 위해 상기 제2 전극 정면에 설치되는 척; 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되고, 상기 제2 전극으로부터 사전에 설정된 거리만큼 떨어져 배치되고, 다수 개의 미세한 홀이 형성되어 있어 제1 전극 및 제2 전극을 통해 형성된 플라즈마가 상기 미세한 홀을 통과하면서 회절 및 산란되어 상기 척으로 입사되도록 하는 메시 구조물;제2 전극의 가장자리에 배치되는 가이드 지그; 및상기 가이드 지그의 정면에 배치되고, 사전에 설정된 길이로 형성되어 있어 상기 메시 구조물을 제2 전극으로부터 사전에 설정된 거리만큼 떨어져 배치되도록 고정시키는 지지부재;를 구비하여, 플라즈마 형성 영역과 식각 영역이 구분되는 리모트 플라즈마(remote plasma)를 이용하여 상기 척에 안착된 기판의 표면을 피라미드 구조로 텍스쳐링(texturing)하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치를 이용한 태양전지의 텍스쳐링 방법
|
| 9 |
9
제 8항에 있어서, 상기 메시 구조물은 다수 개의 미세한 홀이 형성되어 있어 상기 플라즈마 형성 영역에서 식각 영역으로 이동하는 플라즈마가 상기 미세한 홀을 통과하면서 회절 및 산란되어 상기 척에 안착된 기판의 표면으로 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치를 이용한 태양전지의 텍스쳐링 방법
|
| 10 |
10
제 9항에 있어서, 상기 메시 구조물의 다수 개의 홀은원형 또는 다각형 모양으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치를 이용한 태양전지의 텍스쳐링 방법
|
| 11 |
11
제 8항에 있어서, 상기 메시 구조물은금속 재질, 유리 재질, 세라믹 재질 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치를 이용한 태양전지의 텍스쳐링 방법
|
