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결정질 실리콘으로 이루어진 태양 전지 기판에 있어서, 태양 전지 기판의 일측 표면에 형성된 돌출부들; 및 상기 돌출부들의 표면에 형성된 미세 돌출부들; 을 구비하고, 상기 돌출부들 및 미세 돌출부들은 모서리가 라운딩 처리된 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판
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제1항에 있어서, 상기 돌출부들 및 미세 돌출부들은 피라미드 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판
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결정질 실리콘으로 이루어진 태양 전지 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법에 있어서, (a) 기판의 표면에 대한 절단 손상을 제거(Saw damage remove)하는 단계 (b) 기판을 1차 텍스처링하여 기판의 표면에 돌출부들을 형성하는 단계;(c) 상기 기판의 표면을 식각하여 상기 돌출부들의 모서리를 라운딩 처리하는 단계;(d) 상기 기판을 2차 텍스처링하여 상기 모서리가 둥근 돌출부들의 표면에 미세 돌출부들을 형성하는 단계; 를 구비하는 태양 전지 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법
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제3항에 있어서, (e) 상기 (d) 단계이후에 기판을 식각하여 상기 미세 돌출부들의 모서리를 라운딩 처리하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법
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제3항에 있어서, 상기 돌출부들과 미세 돌출부들은 피라미드 구조인 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법
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제3항에 있어서, 상기 (d) 단계는 리모트 플라즈마를 이용한 플라즈마 식각 공정을 통해 미세 돌출부들을 형성하는 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법
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제3항에 있어서, 상기 (c) 단계는 습식 식각 공정을 통해 돌출부의 모서리를 라운딩 처리하는 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법
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제4항에 있어서, 상기 (e) 단계는 습식 식각 공정을 통해 미세 돌출부들의 모서리를 라운딩 처리하는 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법
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제3항에 있어서, 상기 (a) 단계와 (b) 단계는 단일의 습식 식각 공정을 통해 동시에 진행되는 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법
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제3항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 태양 전기 기판의 표면 조직화 구조 형성 방법에 의하여 표면에 미세 돌출부들이 형성된 돌출부들로 이루어진 표면 조직화 구조가 형성된 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판
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제10항에 있어서, 상기 미세 돌출부 및 돌출부는 모서리가 둥근 피라미드 구조로 형성된 것을 특징으로 하는 태양 전지 기판
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