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선택적 박막 결정화 방법

  • 기술번호 : KST2015166774
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 선택적 박막 결정화 방법은 기판 스테이지에 기판을 준비하는 단계; 상기 기판에 박막을 형성하는 단계; 상기 박막의 결정화 영역이 전자빔에 의해 조사되도록 상기 기판 스테이지 또는 전자빔 발생장치를 이동시키는 단계; 및 상기 전자빔 발생장치로부터 전자빔을 상기 박막의 결정화 영역에 선택적으로 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G02F 1/13 (2006.01) H01L 29/786 (2006.01) G02F 1/136 (2006.01) G02F 1/1333 (2006.01)
CPC H01L 21/02689(2013.01) H01L 21/02689(2013.01)
출원번호/일자 1020110023851 (2011.03.17)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0106030 (2012.09.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.03.17)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박규창 대한민국 서울 광진구
2 장 진 대한민국 서울 서초구
3 이은혜 대한민국 서울특별시 강동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세중 대한민국 서울시 강남구 테헤란로 ***, **** (역삼동. 성지하이츠 Ⅱ)(해오름국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.03.17 수리 (Accepted) 1-1-2011-0195390-70
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2011-0674644-29
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.06.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0330871-90
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.08.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0630331-69
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0724698-25
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.10.08 수리 (Accepted) 1-1-2012-0812871-15
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.11.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0914190-01
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0914189-54
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.01.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0035651-00
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 스테이지에 기판을 준비하는 단계;상기 기판에 박막을 형성하는 단계;상기 박막의 결정화 영역이 전자빔에 의해 조사되도록 상기 기판 스테이지 또는 전자빔 발생장치를 이동시키는 단계; 및상기 전자빔 발생장치로부터 전자빔을 상기 박막의 결정화 영역에 선택적으로 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 결정화 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 박막의 결정화되는 영역을 미리 설정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 결정화 방법
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 전자빔의 세기 또는 전자빔이 조사되는 시간을 조절하여 결정화되는 박막의 깊이를 조절하는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 결정화 방법
4 4
제3항에 있어서,상기 전자빔의 세기는 상기 전자빔 발생장치에 제공되는 전류 또는 전압의 세기를 조절하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 결정화 방법
5 5
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 기판의 크기 또는 기판의 표면 형태와 상관없이 전자빔을 이용하여 박막을 선택적으로 조사하는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 결정화 방법
6 6
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 박막의 결정화 영역의 설정은 상기 기판 스테이지가 위치하는 진공 챔버의 중심을 기준으로 X축 좌표 및 Y축 좌표의 설정을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 결정화 방법
7 7
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 박막의 결정화 영역의 설정은 상기 전자빔 발생장치가 위치하는 진공 챔버의 중심을 기준으로 X축 좌표 및 Y축 좌표의 설정을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 결정화 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 서울시 경희대학교산학협력단 서울시 기술기반 구축 사업 나노 기반 차세대 방사선 진단기 연구단
2 지식경제부 경희대학교산학협력단 산업원천기술개발사업 나노소재기반 멀티엑스선원 및 단층합성영상 시스템