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리세스가 형성된 제1 기판의 일면에 제1 나노 박막을 균일한 두께로 형성하는 단계;상기 제1 나노 박막과 마주보도록 제2 나노 박막이 형성된 제2 기판을 위치시키는 단계 ;및상기 제1 나노 박막 및 상기 제2 나노 박막을 애노딕 본딩 공정을 통하여 상호 부착시켜 상기 리세스에 의해 정의되는 채널을 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1 나노 박막 및 상기 제2 나노 박막은 전사 공정을 통하여 상기 제1 기판 및 제2 기판에 각각 형성되고,상기 제1 나노 박막 및 상기 제2 나노 박막 각각은 이차원 형태의 물질로 이루어지며 단원자층 구조 또는 단원자층들이 적층된 적층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 나노 채널 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 나노 박막 및 상기 제2 나노 박막을 상기 제1 기판 및 제2 기판 각각에 전사하는 단계는 정전기력 또는 표면 장력을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 나노 채널 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 나노 박막 및 제2 나노 박막 각각은 그래핀, 그래핀 옥사이드, 환원된 그래핀 옥사이드 및 그라파이트를 포함하는 탄소층상구조물 중에서 선택된 적어도 하나를 이용하여 형성된 것을 특징으로 하는 나노 분리막 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 나노 박막 및 제2 나노 박막 각각에는 하이드록실기, 아민기 및 수산화기가 이루는 기능기 군에서 선택된 적어도 하나의 기능기를 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 채널 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 나노 박막 및 제2 나노 박막 각각은 MoSx, WSx 또는 h-BN 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노 채널 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 나노 박막 및 제2 나노 박막 각각에 플라즈마 또는 자외선을 이용하여 표면처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 채널 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 나노 박막 및 제2 나노 박막을 형성하기 전, 상기 제1 및 제2 기판 각각에 절연층을 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 나노 채널 구조물의 제조 방법
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