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피라미드 구조의 미세패턴이 형성된 제 1 기판;상기 제 1 기판의 상기 미세패턴 상에 코팅된 제 1 전극층; 및 상기 제 1 전극층 상에 적층된 제 2 기판;상기 제 2 기판상에 적층된 제 2 전극층을 포함하며, 상기 제 2 기판과 제 1 기판의 가시광선 영역대에서의 광굴절율 차이는 10% 이내인 것을 특징으로 하는 투명 압전센서
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제 1항에 있어서, 상기 제 1 기판은 상기 제 2 기판보다 연성이 낮은 것을 특징으로 하는 투명 압전센서
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제 1항에 있어서, 상기 제 2 기판이 눌림에 따라 상기 제 1 기판은 피라미드 구조를 유지하면서 높이와 각도가 낮아지는 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 투명 압전센서
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제 1항에 있어서, 상기 제 2 기판은 상기 제 1 기판의 피라미드 구조의 상기 미세패턴을 채우는 것을 특징으로 하는 투명 압전센서
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제 2항에 있어서, 상기 투명 압전센서는, 상기 투명 압전센서에 압력이 가해짐에 따라 변형되는 피라미드 구조의 제 1 전극층의 유효면적 변화를 통하여 상기 가해지는 압력을 측정하는 것을 특징으로 하는 투명 압전센서
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제 1항에 있어서, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판은 폴리디메틸실록산인 것을 특징으로 하는 투명 압전센서
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제 6항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 전극층은 투명전극인 것을 특징으로 하는 투명 압전센서
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제 1항에 있어서, 상기 피라미드 구조의 높이와 상기 제 2 기판과 상기 피라미드 구조의 꼭지점 간 거리비는 0
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제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 투명 압전센서를 포함하는 전자기기
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제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 투명 압전센서의 제조방법으로, 피라미드 형태의 미세패턴이 형성된 제 1 기판 상에 상기 제 1 전극층을 코팅하는 단계; 상기 코팅하는 단계 후 상기 제 2 기판 물질을 상기 제 1 기판 상에 적층하는 단계를 포함하며, 상기 제 2 기판과 제 1 기판의 가시광선 영역대에서의 광굴절율 차이는 10% 이내인 것을 특징으로 하는 투명 압전센서의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 제 1 기판은 상기 제 2 기판보다 연성이 낮은 것을 특징으로 하는 투명 압전센서의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 제 2 기판은 상기 제 1 기판의 피라미드 구조의 상기 미세패턴을 채우는 것을 특징으로 하는 투명 압전센서의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판은 폴리디메틸실록산이고, 상기 제 1 전극층은 PEDOT:PSS 전도성 고분자인 것을 특징으로 하는 투명 압전센서의 제조방법
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