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멀티레터레이션에 근거한 점회절 광원을 이용한 대영역형상 측정법 및 시스템

  • 기술번호 : KST2015111965
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 큰 영역의 임의 형상을 측정하는 방법과 그를 구현하는 측정시스템에 관한 것으로, 상세하게는 하나의 광프로브 내부에 두 개의 점광원을 가설하고 상기 점광원을 측정대상 물체에 조사한 후 상기 물체에 생성되는 간섭무늬를 획득하여 해석함으로써 임의 형상을 측정하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 상기 측정장치는 광프로브 내부에 가설된 두개의 점광원중 한 개의 점광원 광경로를 제어하기 위한 광경로 변경수단이 구비되며, 상기 광프로브는 적용되는 측정알고리즘에 따라 다수개가 배치되어 측정대상 물체의 임의형상을 측정한다. 측정대상물체, 광프로브, 점광원, 측정점, 중앙제어부, 연산부, 영상처리부, 광스위치 제어부, 위상전환제어부, 광원, 광스위치, 광분배기, 위상변환부, 광섬유, 검출수단, 검출수단 제어부
Int. CL G01B 11/24 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020020005062 (2002.01.29)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0462071-0000 (2004.12.07)
공개번호/일자 10-2003-0064966 (2003.08.06) 문서열기
공고번호/일자 (20041216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.01.29)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김승우 대한민국 대전 유성구
2 김병창 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이재갑 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 원빌딩**층 *T국제특허사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2002-0029310-23
2 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)
2002.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2002-5027053-86
3 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document
2002.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2002-5027052-30
4 대리인 변경 신고서
Agent change Notification
2003.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2003-0270926-69
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.01.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.02.12 수리 (Accepted) 9-1-2004-0005349-74
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
9 보정명령서
Request for Amendment
2004.05.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0175240-87
10 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items
2004.05.06 수리 (Accepted) 1-1-2004-0190998-15
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.08.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0323007-38
12 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.10.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0451344-87
13 의견서
Written Opinion
2004.10.05 수리 (Accepted) 1-1-2004-0451361-53
14 등록결정서
Decision to grant
2004.12.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0517276-42
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1

임의 형상물체의 표면형상을 계측하는 측정시스템에 있어서

상기 측정시스템은 광원부(500), 검출부(530), 중앙처리부(560)로 구성되고, 상기 광원부(500)는 두 개의 점광원이 가설된 다수개의 광프로브와, 상기 점광원에 빛을 공급하는 광원(501)과, 상기 광원으로부터 광분배기로 입력되는 광을 조절하는 광스위치(502)와, 상기 광스위치(502)로부터 입력된 광을 광프로브에 분배하는 광분배기와, 상기 광분배기로부터 분배된 두개의 광원중에 하나의 위상을 변화시키는 위상변환수단(506,507,508)으로 구성되며,

상기 검출부(530)는 상기 점광원을 측정대상 물체에 조사하여 상기 물체에 생성되는 간섭무늬를 획득하는 검출수단과, 상기 검출수단을 제어하는 검출수단제어부로 구성되고,

중앙처리부(560)는 측정결과를 연산하는 연산부(564), 측정결과를 디스플레이 하는 영상처리부(565), 상기 광스위치(502)를 제어하는 광스위치 제어부(562), 상기 위상변환수단(506,507,508)을 제어하는 위상변환제어부(561) 및 시스템을 관장하는 중앙제어부(563)와로 구성되어 임의 형상물체의 표면형상을 계측하는 것을 특징으로 하는 멀티레터레이션에 근거한 점회절 광원을 이용한 측정시스템


2 2

광원부(500), 검출부(530), 중앙처리부(560)로 구성되는 측정시스템에서 두 개의 점광원이 가설된 광프로브 3개를 사용하여 임의 형상물체의 표면형상을 계측하는데 있어서, 상기 중앙처리부의 연산부(564)에서 처리하는 과정은

3

중앙처리부(560), 광원부(500) 검출부(530)로 구성되는 측정시스템에서 두 개의 점광원이 가설된 광프로브 6개를 사용하여 임의 형상물체의 표면형상을 계측하는데 있어서, 상기 중앙처리부의 연산부(564)에서 처리하는 과정은

4

중앙처리부(560), 광원부(500) 검출부(530)로 구성되는 측정시스템에서 두 개의 점광원이 가설된 다수의 광프로브를 사용하여 임의 형상물체의 표면형상을 계측하는데 있어서,

측정기에 광프로브를 설치한 점광원의 좌표값과 초기위상차를 결정하는 1단계;

첫 번째 광프로브에서 임의 형상을 갖는 측정대상물체에 빛을 조사하여 간섭무늬를 생성하는 제2단계;

공지의 위상천이알고리즘을 사용하여 첫 번째 광프로브를 구성하는 두 점광원과 측정점의 광경로차를 산출하는 제3단계;

상기 제2단계와 제3단계를 모든 광프로브에 대해 수행하는 제4단계;

상기 산출된 거리를 연산하여 측정점(x, y, z)의 공간좌표를 결정하는 제5단계;

모든 측정점에 대해 상기 제2단계 내지 제5단계의 과정을 수행하여 모든 측정점의 공간좌표를 결정하는 제6단계;

로 구성되어 임의 형상물체의 표면형상을 계측하는 것을 특징으로 하는 멀티레터레이션에 근거한 점회절 광원을 이용한 형상 측정방법


5 5

청구항 제 1항에 있어서

상기 중앙처리부(560)는

광프로브에 설치한 점광원의 좌표값과 초기위상차를 결정하고, 첫 번째 광프로브에서 임의 형상을 갖는 측정대상물체에 빛을 조사하여 간섭무늬를 생성하며, 공지의 위상천이알고리즘을 사용하여 첫 번째 광프로브를 구성하는 두 점광원과 측정점의 광경로차를 산출하도록 상기 각 구성을 제어하고, 모든 광프로브에서 순차적으로 측정대상물체에 빛을 조사하여 간섭무늬를 생성하여, 공지의 위상천이알고리즘을 사용하여 각각의 광프로브를 구성하는 두 점광원과 측정점의 광경로차를 산출하도록 상기 각 구성을 제어한 후, 중앙처리부(560)의 연산부(564)에서 상기 산출된 거리를 연산하여 모든 측정점의 공간좌표를 결정함으로써 임의 형상물체의 표면형상을 계측하는 것을 특징으로 하는 멀티레터레이션에 근거한 점회절 광원을 이용한 형상 측정시스템

6 6

청구항1 또는 청구항5에 있어서

중앙처리부(560)의 연산부(564)에서 연산하는 과정은 청구항2 또는 청구항3에서 제시한 과정중의 하나를 적용함으로써 임의 형상물체의 표면형상을 계측하는 것을 특징으로 하는 멀티레터레이션에 근거한 점회절 광원을 이용한 형상 측정시스템


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1 WO03064971 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
2 WO03064971 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.