| 1 |
1
펄스 레이저를 출사하는 광원부;상기 광원부에서 출사되는 광을 분할하는 광분할기;상기 광분할기에서 분할된 하나의 광에서 기준광과 측정광을 생성하기 위한 기준 미러와 타겟;기준광과 측정광 생성을 위해 광을 전달하는 광학부;상기 기준 미러와 타겟에서 반사되는 기준광과 측정광이 간섭되어 입사되는 광검출기;상기 기준 미러와 타겟에서 반사되는 기준광과 측정광의 펄스가 중첩되어 간섭을 일으키도록 상기 광원부에서 출사되는 펄스 레이저의 반복률을 주사할 수 있는 반복률 주사 구동부;주파수 측정 기준이 되는 시간/주파수 표준부;반복률을 상기 시간/주파수 표준부에 소급된 주파수 측정기로 측정하여 제어하는 제어부; 및검출된 광신호를 저장 및 분석하는 처리부;를 포함하며,상기 반복률 주사 구동부는 전기-광학변조기(electro-optic modulator, EOM)와 같은 전기광학소자 또는 음향-광학 변조기(acousto-optic modulator, AOM)와 같은 음향광학소자로 구성되며, 이로부터 광 공진 길이를 조절함으로써 반복률을 고속으로 주사하는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서, 상기 시간/주파수 표준부는,원자시계로 구성되는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서, 상기 광검출기는,CCD, CMOS, PD(photodiode), Photo-dectector, PMT 중 하나 인 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서, 상기 제어부는,시간 주파수 표준에 소급된 주파수 측정기와 위상 제어기를 통해 제어되는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 5 |
5
삭제
|
| 6 |
6
제 1항에 있어서, 상기 반복률 주사 구동부는,압전소자(PZT), 모터 스테이지(motorized stage)를 제어하여 반복률의 주사 범위를 크게 향상시키는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 7 |
7
제 1항에 있어서, 상기 기준미러와 타겟의 거리차는,수학식 을 통해 산출되는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 8 |
8
제 1항에 있어서, 상기 반복률의 주사에 따른 거리 주사는,수학식 을 통해 산출되는 것을 특징으로 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 9 |
9
제 1항에 있어서, 상기 광원부는,광섬유 펄스 레이저 공진기 또는 광결정 펄스 레이저 공진기 중 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 10 |
10
제 9항에 있어서, 상기 광섬유 펄스 레이저 공진기는,광섬유 펄스 레이저 공진기의 경우 ring resonator type과 linear resonator type, figure-of-eight resonator type으로 구비되는 것을 특징으로 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 11 |
11
제 9항에 있어서, 상기 광섬유 펄스 레이저 공진기는,발진한 펄스를 광주파수 변조 없이 그대로 사용하기 위해 별도의 주파수 변조장치를 두지 않거나, 체배된 광주파수를 가지는 펄스를 적용하기 위해 비선형 광결정(nonlinear crystal)을 적용하거나, 가시광 영역 혹은 근적외선 영역의 광주파수로 주파수 천이를 시키기 위하여 HNLF(highly non-linear fiber) 혹은 PCF(photonic crystal fiber)를 적용함으로써, 이로부터 다양한 광공진기 구성에서도 원하는 주파수 대역으로 광주파수를 변조 및 천이할 수 있는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 12 |
12
제 1항에 있어서, 상기 간섭계는,펄스 레이저의 주기성과 높은 가간섭성을 통해, 측정면과 기준면을 비대칭(non-symmetric), 비동일 광경로(unequal-path) 형태로 구성하는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 13 |
13
펄스 반복률 주사 방식의 펄스 레이저 광원부를 마이켈슨 간섭계(Michelson interferometry), 트와이만-그린 간섭계(Twyman-Green interferometry), 미라우 간섭계(Mirau interferometry), 리닉 간섭계(Linnik interferometry), 마하젠다 간섭계(Mach-Zehnder interferometry), 피조 간섭계(Fizeau interferometry), 점회절 간섭계(Point-diffraction interferometry) 중 하나에 적용하며,상기 광원부에서 출사되는 펄스 레이저의 반복률을 주사할 수 있는 반복률 주사 구동부;주파수 측정 기준이 되는 시간/주파수 표준부;반복률을 상기 시간/주파수 표준부에 소급된 주파수 측정기로 측정하여 제어하는 제어부; 및검출된 광신호를 저장 및 분석하는 처리부;를 포함하고,상기 반복률 주사 구동부는 전기-광학변조기(electro-optic modulator, EOM)와 같은 전기광학소자 또는 음향-광학 변조기(acousto-optic modulator, AOM)와 같은 음향광학소자로 구성되며, 이로부터 광 공진 길이를 조절함으로써 반복률을 고속으로 주사하는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저 반복률 주사 기반 고속 고정밀 표면형상 측정 간섭계
|
| 14 |
14
삭제
|
