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미소 렌즈의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015118579
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 물질층 패턴의 리플로우(reflow)를 이용하여 구(hyperhemisphere) 모양의 미소 렌즈를 제조하는 방법에 관해 개시하고 있다. 본 발명의 미소 렌즈 제조방법은: 기판 상에 희생층을 형성하는 단계와; 가열에 따른 표면장력에 의해 그 단면이 구형으로 변형되는 물질층 패턴을 상기 희생층 상에 형성하는 단계와; 상기 물질층 패턴을 이용하여 상기 희생층을 측면 식각(lateral etching)하는 단계와; 상기 물질층 패턴을 가열하여 리플로우시키는 단계를 구비하여 단면의 적어도 일부가 구형을 갖는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 기존의 반구 모양의 미소 렌즈보다 광학계의 응용에 있어서 더욱 큰 성능 향상을 가져올 수 있다.미소 렌즈, 리플로우, 희생층, 감광막, 언더 컷, 구형, 반구형, 패턴
Int. CL G02B 3/00 (2006.01)
CPC G02B 3/0018(2013.01) G02B 3/0018(2013.01) G02B 3/0018(2013.01)
출원번호/일자 1020010012605 (2001.03.12)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2002-0072659 (2002.09.18) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.03.12)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한철희 대한민국 대전광역시유성구
2 이춘섭 대한민국 대구광역시동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허진석 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로***, **,**층(역삼동, 동희빌딩)(특허법인아주김장리)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2001.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2001-0053339-19
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.10.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.11.14 수리 (Accepted) 9-1-2002-0028101-73
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2003.01.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0022334-92
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2003.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2003-0101598-67
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2003.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0207393-14
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

기판 상에 희생층을 형성하는 단계와;

가열에 따른 표면장력에 의해 그 단면이 구형으로 변형되는 물질층 패턴을 상기 희생층 상에 형성하는 단계와;

상기 물질층 패턴을 이용하여 언더 컷이 발생하도록 상기 희생층을 측면 식각하는 단계와;

상기 물질층 패턴을 가열하여 리플로우시키는 단계;

를 구비하여 단면의 적어도 일부가 구형을 갖는 미소 렌즈의 제조방법

2 2

제1항에 있어서, 상기 미소 렌즈의 형태가 상기 희생층의 언더 컷 정도에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 미소 렌즈의 제조방법

3 3

제1항에 있어서, 상기 물질층이 노광에 의해 현상이 가능한 감광막인 것을 특징으로 하는 미소 렌즈의 제조방법

4 4

제1항에 있어서, 상기 희생층이 리플로우 온도에서 충분히 견딜 수 있는 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막인 것을 특징으로 하는 미소 렌즈의 제조방법

5 5

제1항에 있어서, 상기 기판이 실리콘 기판 또는 유리 기판인 것을 특징으로 하는 미소 렌즈의 제조방법

6 6

제1항에 있어서, 상기 물질층 패턴이 선형이며, 상기 미소 렌즈가 원통형인 것을 특징으로 하는 미소 렌즈의 제조방법

7 7

제1항에 있어서, 상기 물질층 패턴을 가열하여 리플로우시키는 단계가 마이크로 렌즈로 이용하는 물질에 따라 다르지만 180 ~ 300 ℃ 내의 온도에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 미소 렌즈의 제조방법

8 8

제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 물질층 패턴을 상기 희생층 상에 2차원 배열형으로 다수 형성하여, 그 각각의 단면의 적어도 일부가 구형을 갖는 2차원 배열형을 갖는 미소 렌즈의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.