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플루오르고분자 박막 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 배열 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015115902
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 렌즈 제작 시 플루오르고분자 박막을 코팅하여 소수성 막을 형성시킴으로써 렌즈 배열의 충진률(Fill- Factor)를 향상시킬 수 있는 플루오르고분자 박막 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 배열 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 플루오르고분자(fluoropolymer) 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 제조방법은 기판에 적어도 하나의 원통의 실린더 형상 패턴을 형성하는 단계; 상기 원통의 실린더 형상 패턴의 상부 및 상기 기판의 표면에 플루오르 고분자 박막을 코팅하는 단계; 및 상기 플루오르 고분자 박막이 코팅된 상기 패턴에 대해 열처리 공정을 수행하여 미세 렌즈를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G02B 3/00 (2006.01) B81B 1/00 (2006.01)
CPC G02B 3/0018(2013.01) G02B 3/0018(2013.01) G02B 3/0018(2013.01) G02B 3/0018(2013.01) G02B 3/0018(2013.01)
출원번호/일자 1020120053628 (2012.05.21)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1397553-0000 (2014.05.14)
공개번호/일자 10-2013-0129605 (2013.11.29) 문서열기
공고번호/일자 (20140520) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.05.21)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기훈 대한민국 대전 유성구
2 정혁진 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.05.21 수리 (Accepted) 1-1-2012-0403778-95
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.02.25 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.04.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0027269-35
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.06.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0445808-21
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.08.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0780007-44
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0880004-20
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.10.28 무효 (Invalidation) 1-1-2013-0975039-12
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0975166-13
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0975016-73
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.10.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0975172-87
12 보정요구서
Request for Amendment		 2013.11.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0137069-42
13 [지정기간단축]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Reduction of Designated Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2013.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2013-1017325-96
14 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation		 2013.11.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0143410-16
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.03.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0170451-98
16 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.04.10 수리 (Accepted) 1-1-2014-0342686-08
17 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2014.04.10 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0342687-43
18 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2014.05.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0319249-76
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
유리, 포토 레지스트(photo resist), 폴리머(polymer), 실리콘(silicon) 또는 Ⅲ-Ⅴ 반도체 재질 중 어느 하나로 이루어진 기판에 적어도 하나의 원통의 실린더 형상 패턴을 형성하되, 실린더 형상의 직경 대 높이의 비로 정의되는 종횡비가 0
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,상기 실린더 형상 패턴의 수평방향의 단면은 원, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형 중 하나의 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 플루오르고분자 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 플루오르 고분자 박막은,C3F8, C4F8, CHF3, 비닐플루오르화물(Vinyl fluoride), 불화비닐리덴(Vinylidene fluoride), 테트라플루오로에틸렌(Tetrafluoroethylene), 퍼플루오르프로필비닐에테르(Perfluoropropylvinylether), 퍼플루오르메틸비닐에테르(Perfluoromethylvinylether), 클로로트리플루오로에틸렌(Chlorotrifluoroethylene)의 그룹으로부터 선택되는 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플루오르고분자 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 플루오르고분자 박막이 코팅된 상기 실린더 형상 패턴의 상부 및 상기 기판의 물 접촉각은 100° 내지 120°인 것을 특징으로 하는 플루오르고분자 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 제조방법
6 6
삭제
7 7
제 1 항에 있어서,상기 실린더 형상 패턴에 대한 상기 열적 리플로우 공정은 전도 또는 대류를 이용하는 것을 특징으로 하는 플루오르고분자 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 제조방법
8 8
제 1 항에 있어서,상기 열적 리플로우 공정을 수행하여 형성되는 상기 미세 렌즈는 구면 또는 비구면 형태인 것을 특징으로 하는 플루오르고분자 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 제조방법
9 9
제 1 항에 있어서,상기 원통의 실린더 형상 패턴은 포토레지스트 또는 폴리머(polymer) 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플루오르고분자 코팅을 이용한 고충진률 렌즈 제조방법
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국과학기술원 중견연구자지원사업 자연 포토닉구조의 나노공학기반 영감기술
2 교육과학기술부 한국과학기술원 나노소재기술개발사업 메타렌즈어레이기반 대면적 고속 나노리소그래피 플렛폼 개발