요약 | 본 발명은 3mm ~ 0.8㎛의 파장을 가지는 중간적외선 및 테라헤르츠 주파수 영역에서 동작하는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 및 그 제조방법에 관한 것으로, 종래, 해당 영역의 빔(beam)을 집속하기 위해 사용되는 파라볼릭 미러(parabolic mirror)는 광경로가 복잡해지고 소형화된 광학시스템을 구현하는데 불리하다는 단점이 있으며, 실리콘 렌즈(silicon lens)는 제작이 어려워 단가가 비싸다는 단점이 있고, 기존의 가시광 영역에서 사용되는 폴리머 렌즈(polymer lens)의 경우는 대부분의 폴리머들이 중간적외선 및 테라헤르츠 주파수 영역에서 흡수 피크(absorption peak)를 가지므로 특정 대역폭이 손실되었던 단점을 해결하기 위해, 본 발명에 따르면, 유효매체이론(effective medium theorem)에 기반하여, 중간적외선 및 테라헤르츠 파장보다 작은 구조물을 통해 유효굴절률을 조절하고, 반경(radial) 방향 및 축(axial) 방향으로 굴절률에 경사(gradient)를 줄 수 있으며, 이를 통해 중간적외선 및 테라헤르츠 주파수 영역의 빔을 집속시킬 수 있는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈(gradient index lens) 및 그 제조방법이 제공된다. |
---|---|
Int. CL | G02B 3/00 (2006.01) B29D 11/00 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020120006899 (2012.01.20) |
출원인 | 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-1340951-0000 (2013.12.06) |
공개번호/일자 | 10-2013-0085814 (2013.07.30) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20131213) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2012.01.20) |
심사청구항수 | 12 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 정기훈 | 대한민국 | 대전 유성구 |
2 | 박상길 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이원희 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2012.01.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0057041-93 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2013.01.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
4 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2013.02.05 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0006060-64 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2013.03.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0215604-31 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2013.05.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0473351-12 |
7 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2013.05.28 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0473354-59 |
8 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.09.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0672265-08 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 굴절률 분포형 렌즈(gradient index lens)에 있어서,기판; 및상기 기판의 유효굴절률을 조절하기 위해 상기 기판에 형성되는 복수의 미세구조물;을 포함하고, 상기 기판 내에서 빛이 휘어져 중간적외선 및 테라헤르츠 주파수 영역의 파를 집속시키기 위한 유효굴절률의 차이를 가지는 형태로 상기 미세구조물들이 형성되는 것을 특징으로 하는 굴절률 분포형 렌즈 |
2 |
2 제 1항에 있어서, 상기 미세구조물은, 중간적외선 및 테라헤르츠 파의 파장 이하의 직경을 가지는 기둥 또는 구멍이 상기 기판상에 배열되어 형성되는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 |
3 |
3 제 2항에 있어서, 상기 중간적외선 및 테라헤르츠 파의 파장 이하의 직경은 3mm ~ 0 |
4 |
4 제 2항에 있어서, 상기 미세구조물은, 원형, 다각형 또는 복합 형상을 가지는 구멍이 상기 기판상에 배열되어 이루어지는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 |
5 |
5 제 2항에 있어서, 상기 미세구조물은, 원형, 다각형 또는 복합 형상을 가지며 그 수직 방향의 단면이 삼각형, 사각형, 반원, 반타원 중 하나의 형상을 가지는 기둥 형태의 구조가 상기 기판상에 배열되어 이루어지는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 |
6 |
6 제 1항에 있어서, 상기 기판의 굴절률의 분포는, 표면방향 및 깊이 방향으로 포물선 방정식, 다차방정식, 다차방정식의 제곱근, 구 분포 중 하나의 분포를 따르는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 |
7 |
7 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 제조방법에 있어서,기판에 마스크층을 형성하는 단계; 중간적외선 및 테라헤르츠 파를 집속시키기 위해 상기 기판 내에서 빛이 휘어지도록 상기 기판의 굴절률을 조절하기 위해 상기 마스크층에 중간적외선 및 테라헤르츠 파의 파장 이하의 직경을 가지는 미세구조물의 패턴을 형성하는 단계;상기 중간적외선 및 테라헤르츠 파의 파장 이하의 직경을 가지는 상기 미세구조물의 패턴에 따라 상기 기판을 식각하는 단계 및 상기 식각하는 단계 후 남아 있는 마스크층을 제거하는 단계를 포함하는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 제조방법 |
8 |
8 제 7항에 있어서, 상기 미세구조물의 패턴을 형성하는 단계는, 원형, 다각형 또는 복합 형상을 가지는 구멍이 상기 기판상에 배열되도록 상기 패턴이 형성되는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 제조방법 |
9 |
9 제 7항에 있어서, 상기 미세구조물의 패턴을 형성하는 단계는, 원형, 다각형 또는 복합 형상을 가지며 그 수직 방향의 단면이 삼각형, 사각형, 반원, 반타원 중 하나의 형상을 가지는 기둥 형태의 구조가 상기 기판상에 배열되도록 상기 패턴이 형성되는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 제조방법 |
10 |
10 제 7항에 있어서, 상기 중간적외선 및 테라헤르츠 파의 파장 이하의 직경은 3mm ~ 0 |
11 |
11 제 7항에 있어서, 상기 기판의 굴절률의 분포는, 표면방향 및 깊이 방향으로 포물선 방정식, 다차방정식, 다차방정식의 제곱근, 구 분포 중 하나의 분포를 따르는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 제조방법 |
12 |
12 중간적외선 및 테라헤르츠 파를 집속시킬 수 있는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 제조방법에 있어서, 마스터 기판에 폴리머를 주입하는 단계; 주입된 상기 폴리머를 경화시키는 단계; 및 경화된 상기 폴리머를 상기 기판으로부터 분리시키는 단계를 포함하고, 상기 폴리머를 주입하는 단계는, 청구항 1항 내지 6항 중 어느 한 항에 기재된 굴절률 분포형 렌즈를 상기 마스터 기판으로서 사용하는 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 제조방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US09772476 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20150002927 | US | 미국 | FAMILY |
3 | WO2013108994 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2015002927 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US9772476 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
3 | WO2013108994 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 지식경제부 | 한국과학기술원 | 산업원천기술개발사업 | 주파수빗 기술 기반 Terahertz/NIR 복합 고속 분광 내시경 개발 |
2 | 교육과학기술부 | 한국과학기술원 | 나노소재기술개발사업 | 메타렌즈어레이기반 대면적 고속 나노리소그래피 플렛폼 개발 |
3 | 교육과학기술부 | 한국과학기술원 | KI 기관고유사업 | 테라헤르쯔파 물질의 설계, 소자 개발 및 정밀 측정 연구 |
특허 등록번호 | 10-1340951-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20120120 출원 번호 : 1020120006899 공고 연월일 : 20131213 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130928 청구범위의 항수 : 12 유별 : G02B 3/00 발명의 명칭 : 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 및 그 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 256,500 원 | 2013년 12월 09일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 212,800 원 | 2016년 11월 29일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 212,800 원 | 2017년 11월 24일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 152,000 원 | 2018년 12월 03일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 278,000 원 | 2019년 11월 26일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2012.01.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0057041-93 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2013.01.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
4 | 선행기술조사보고서 | 2013.02.05 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0006060-64 |
5 | 의견제출통지서 | 2013.03.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0215604-31 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2013.05.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0473351-12 |
7 | [명세서등 보정]보정서 | 2013.05.28 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0473354-59 |
8 | 등록결정서 | 2013.09.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0672265-08 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345176990 |
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세부과제번호 | 2011-0020186 |
연구과제명 | 메타렌즈어레이기반 대면적 고속 나노리소그래피 플렛폼 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 201106~201606 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345194351 |
---|---|
세부과제번호 | KIOST02 |
연구과제명 | 테라헤르쯔파 대역 물질과 소자개발 및 측정에 관한 응용연구 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 교육과학기술부 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 201101~201312 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415116367 |
---|---|
세부과제번호 | KI001889 |
연구과제명 | 주파수빗 기술 기반 Terahertz/NIR 복합 고속 분광 내시경 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200803~201302 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1345161110 |
---|---|
세부과제번호 | N10110041 |
연구과제명 | 테라헤르쯔파 물질의 설계, 소자 개발 및 정밀 측정 연구 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 교육과학기술부 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 201101~201312 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345204081 |
---|---|
세부과제번호 | 2011-0020186 |
연구과제명 | 메타렌즈어레이기반 대면적 고속 나노리소그래피 플렛폼 개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201106~201606 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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[KST2015117194][한국과학기술원] | 미세 유체 소자 내 채널 표면의 친수성 개질 방법 및 친수성 채널을 갖는 미세 유체 소자 | 새창보기 |
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