요약 | 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법은, (a) 기판 위에 제1 전극을 형성하는 단계와, (b) 제1 전극 위에, 나노 구조를 가지고 다수의 구멍들을 포함하는 무기물 층을 형성하는 단계와, (c) 무기물 층 위에 유기물 층을 형성하는 단계와, (d) 유기물 층 위에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 무기물 층의 구멍들은 비주기적으로 형성되고, 무기물 층은 금속 마스크를 이용하는 습식 식각 공정에 의해 형성된다. 유기물 층은 무기물 층의 구멍들에 삽입되는 물결 형태의 나노 구조를 포함하고, 제2 전극은 유기물 층의 물결 형태의 나노 구조에 삽입되는 물결 형태의 나노 구조를 포함한다. |
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Int. CL | H01L 51/56 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020120074917 (2012.07.10) |
출원인 | 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-1458181-0000 (2014.10.29) |
공개번호/일자 | 10-2014-0008028 (2014.01.21) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20141105) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2012.07.10) |
심사청구항수 | 9 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 최경철 | 대한민국 | 대전 유성구 |
2 | 김진영 | 대한민국 | 대전 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인충정 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2012.07.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0549856-37 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
3 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2013.09.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0609600-34 |
4 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2013.11.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0994252-21 |
5 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2013.12.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-1098627-01 |
6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2014.01.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0002270-33 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2014.01.02 | 불수리 (Non-acceptance) | 1-1-2014-0002240-74 |
8 | 서류반려이유통지서 Notice of Reason for Return of Document |
2014.01.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2014-0004579-75 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.01.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0097952-67 |
10 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2014.01.29 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0097954-58 |
11 | 서류반려통지서 Notice for Return of Document |
2014.02.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2014-0017564-95 |
12 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2014.05.13 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0322691-15 |
13 | [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration) |
2014.06.12 | 수리 (Accepted) | 7-1-2014-0021800-17 |
14 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.07.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0645678-16 |
15 | [명세서등 보정]보정서(재심사) Amendment to Description, etc(Reexamination) |
2014.07.09 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2014-0645679-51 |
16 | 등록결정서 Decision to Grant Registration |
2014.07.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0512261-42 |
17 | [일부 청구항 포기]취하(포기)서 [Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment) |
2014.10.29 | 수리 (Accepted) | 2-1-2014-0596758-11 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
20 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
23 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법에 있어서,(a) 기판 위에 평평한 형태의 제1 전극을 형성하는 단계;(b) 상기 제1 전극 위에 나노 구조를 가지고 다수의 구멍들을 포함하는 무기물 층을 형성하는 단계;(c) 상기 무기물 층 위에 유기물 층을 형성하는 단계; 및(d) 상기 유기물 층 위에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하며,상기 무기물 층의 구멍들은 비주기적으로 형성되고, 상기 무기물 층은 금속 마스크를 이용하는 습식 식각 공정에 의해 형성되며,상기 유기물 층은 상기 무기물 층의 구멍들에 삽입되는 물결 형태의 나노 구조를 포함하고, 상기 제2 전극은 상기 유기물 층의 물결 형태의 나노 구조에 삽입되는 물결 형태의 나노 구조를 포함하며,상기 무기물 층의 물질은 정공 주입 특성이 양호한 MoO3 및 V2O5 중 어느 하나이며,상기 금속 마스크의 물질은, Ag 또는 Cu를 포함하는 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 제1항에 있어서,상기 금속 마스크는 200(℃) 이상이고 400(℃) 이하의 온도로 Ag 또는 Cu를 포함하는 금속 층을 열처리하는 것에 의해 형성되는 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 |
4 |
4 제3항에 있어서,상기 금속 층은 상기 구멍들이 형성되지 않은 무기물 층 위에 열 증착법에 의해 증착되는 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 |
5 |
5 청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
6 |
6 제1항에 있어서,상기 제1 전극은 투명 전극이고, 상기 제2 전극은 메탈 전극인 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 |
7 |
7 제1항에 있어서,상기 제1 전극은 메탈 전극이고, 상기 제2 전극은 투명 전극인 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 |
8 |
8 제1항에 있어서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 각각 투명 전극인 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 |
9 |
9 제1항에 있어서,상기 무기물 층의 두께는 10(nm) 이상이고 200(nm) 이하인 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 |
10 |
10 제1항에 있어서,상기 구멍들 사이의 간격은 0(nm)을 초과하고 800(nm) 이하인 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | WO2014010800 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | WO2014010800 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-1458181-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20120710 출원 번호 : 1020120074917 공고 연월일 : 20141105 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20140728 청구범위의 항수 : 8 유별 : H01L 51/56 발명의 명칭 : 구멍이 형성된 무기물 층을 포함하는 유기 발광 다이오드 소자의 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : 20191030 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 178,500 원 | 2014년 10월 30일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2017년 09월 28일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 108,000 원 | 2018년 10월 02일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2012.07.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0549856-37 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
3 | 의견제출통지서 | 2013.09.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0609600-34 |
4 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2013.11.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0994252-21 |
5 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2013.12.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-1098627-01 |
6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2014.01.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0002270-33 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2014.01.02 | 불수리 (Non-acceptance) | 1-1-2014-0002240-74 |
8 | 서류반려이유통지서 | 2014.01.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2014-0004579-75 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.01.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0097952-67 |
10 | [명세서등 보정]보정서 | 2014.01.29 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0097954-58 |
11 | 서류반려통지서 | 2014.02.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2014-0017564-95 |
12 | 거절결정서 | 2014.05.13 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0322691-15 |
13 | [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2014.06.12 | 수리 (Accepted) | 7-1-2014-0021800-17 |
14 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.07.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0645678-16 |
15 | [명세서등 보정]보정서(재심사) | 2014.07.09 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2014-0645679-51 |
16 | 등록결정서 | 2014.07.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0512261-42 |
17 | [일부 청구항 포기]취하(포기)서 | 2014.10.29 | 수리 (Accepted) | 2-1-2014-0596758-11 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
20 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
23 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345177069 |
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세부과제번호 | 2010-0009890 |
연구과제명 | 플렉시블 디스플레이 소자의 신뢰성 및 투명도 향상 기술 연구 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 200709~201602 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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