맞춤기술찾기

이전대상기술

유기발광소자 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015117973
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유기발광소자 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유기발광소자를 구성하는 정공수송층을 용액공정으로 제조하며, 유기발광소자의 수명을 증대시키는 유기발광소자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면 암모늄염으로 정공주입층을 형성하여 용액공정으로 형성되는 낮은 일함수의 전이금속 산화물층을 정공수송층으로 사용할 수 있게 하며, 진공증착으로 전이금속산화물을 형성하는 공정에 비하여 공정에 소비되는 비용이 감소될 수 있다. 또한, 기존의 전이금속 산화물층을 용액공정으로 형성하기 위해 사용된 물질인 고비용의 PEDOT:PSS를 대체하여 사용될 수 있으며, 구조상 접촉되는 다른 물질에 악영향을 주는 성분이 포함되어 있지 않으므로, 제조된 유기발광소자의 수명을 더욱 증대시킬 수 있다.
Int. CL H01L 51/56 (2006.01) H01L 51/50 (2006.01)
CPC H01L 51/5056(2013.01) H01L 51/5056(2013.01)
출원번호/일자 1020140052361 (2014.04.30)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1562558-0000 (2015.10.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20151026) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.04.30)
심사청구항수 13

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 양민양 대한민국 대전광역시 유성구
2 이재학 대한민국 대전광역시 유성구
3 김건우 대한민국 대전광역시 유성구
4 석재영 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.04.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0415263-99
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.12.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0097272-82
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.12.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0898082-17
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-0196125-15
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.02.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0196126-50
10 등록결정서
Decision to grant
2015.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0513739-77
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 형성된 양극;상기 양극 상에 전이금속산화물로 형성된 정공수송층;상기 정공수송층상에 형성된 정공주입층;상기 정공주입층 상에 형성된 발광층;상기 발광층 상에 형성된 전자수송층; 및상기 전자수송층 상에 형성된 음극;을 포함하며,상기 정공주입층은, 암모늄염 및 고분자 전해질을 포함하고,상기 암모늄염은, 테트라메틸 암모늄 테트라플로보레이트 (Tetramethylammonium Tetrafluoroborate, TMABF4), 테트라에틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetraethylammonium Tetrafluoroborate, TEABF4), 테트라부틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetrabutylammonium Tetrafluoroborate, TBABF4) 중 어느 하나이고,상기 고분자 전해질은,고분자 중합체인 PEO(polyethylene oxide), PEG(polyethylene glycol) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자
2 2
기판 상에 형성된 음극;상기 음극 상에 형성된 전자수송층;상기 전자수송층 상에 형성된 발광층;상기 발광층 상에 형성된 정공주입층;상기 정공주입층상에 전이금속산화물로 형성된 정공수송층; 및상기 정공수송층상에 형성된 양극;을 포함하며, 상기 정공주입층은, 암모늄염 및 고분자 전해질을 포함하고,상기 암모늄염은, 테트라메틸 암모늄 테트라플로보레이트 (Tetramethylammonium Tetrafluoroborate, TMABF4), 테트라에틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetraethylammonium Tetrafluoroborate, TEABF4), 테트라부틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetrabutylammonium Tetrafluoroborate, TBABF4) 중 어느 하나이고,상기 고분자 전해질은,고분자 중합체인 PEO(polyethylene oxide), PEG(polyethylene glycol) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자
3 3
기판 상에 형성된 양극;상기 양극 상에 형성되고, 전이금속산화물, 암모늄염이 포함된 유기화합물 및 고분자 전해질을 포함하는 정공주입수송층;상기 정공주입수송층 상에 형성된 발광층;상기 발광층 상에 형성된 전자수송층; 및상기 전자수송층 상에 형성된 음극;을 포함하고,상기 암모늄염은, 테트라메틸 암모늄 테트라플로보레이트 (Tetramethylammonium Tetrafluoroborate, TMABF4), 테트라에틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetraethylammonium Tetrafluoroborate, TEABF4), 테트라부틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetrabutylammonium Tetrafluoroborate, TBABF4) 중 어느 하나이고,상기 고분자 전해질은,고분자 중합체인 PEO(polyethylene oxide), PEG(polyethylene glycol) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자
4 4
기판 상에 형성된 음극;상기 음극 상에 형성된 전자수송층;상기 전자수송층 상에 형성된 발광층;상기 발광층 상에 형성되고, 전이금속산화물, 암모늄염이 포함된 유기화합물 및 고분자 전해질을 포함하는 정공주입수송층; 및상기 정공주입수송층상에 형성된 양극;을 포함하고,상기 암모늄염은, 테트라메틸 암모늄 테트라플로보레이트 (Tetramethylammonium Tetrafluoroborate, TMABF4), 테트라에틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetraethylammonium Tetrafluoroborate, TEABF4), 테트라부틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetrabutylammonium Tetrafluoroborate, TBABF4) 중 어느 하나이고,상기 고분자 전해질은,고분자 중합체인 PEO(polyethylene oxide), PEG(polyethylene glycol) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자
5 5
기판상에 양극을 형성하는 단계(단계 1);상기 양극상에 전이금속이 포함된 용액을 코팅하여 전이금속산화물로 형성된 정공수송층을 형성하는 단계(단계 2);상기 정공수송층상에 정공주입층을 형성하는 단계(단계 3);상기 정공주입층 상에 발광층을 형성하는 단계(단계 4);상기 발광층 상에 전자수송층을 형성하는 단계(단계 5); 및상기 전자수송층 상에 음극을 형성하는 단계(단계 6);를 포함하며,상기 단계 3의 정공주입층은 암모늄염 및 고분자 전해질의 혼합용액을 코팅하여 형성되고,상기 암모늄염은, 테트라메틸 암모늄 테트라플로보레이트 (Tetramethylammonium Tetrafluoroborate, TMABF4), 테트라에틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetraethylammonium Tetrafluoroborate, TEABF4), 테트라부틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetrabutylammonium Tetrafluoroborate, TBABF4) 중 어느 하나이고,상기 고분자 전해질은,고분자 중합체인 PEO(polyethylene oxide), PEG(polyethylene glycol) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법
6 6
기판상에 음극을 형성하는 단계(단계 a);상기 음극상에 전자수송층을 형성하는 단계(단계 b);상기 전자수송층 상에 발광층을 형성하는 단계(단계 c);상기 발광층 상에 정공주입층을 형성하는 단계(단계 d);상기 정공주입층 상에 전이금속이 포함된 용액을 코팅하여 전이금속산화물로 형성된 정공수송층을 형성하는 단계(단계 e); 및상기 정공수송층 상에 양극을 형성하는 단계(단계 f);를 포함하며,상기 단계 d의 정공주입층은 암모늄염 및 고분자 전해질의 혼합용액을 코팅하여 형성되고,상기 암모늄염은, 테트라메틸 암모늄 테트라플로보레이트 (Tetramethylammonium Tetrafluoroborate, TMABF4), 테트라에틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetraethylammonium Tetrafluoroborate, TEABF4), 테트라부틸 암모늄 테트라플로보레이트(Tetrabutylammonium Tetrafluoroborate, TBABF4) 중 어느 하나이고,상기 고분자 전해질은,고분자 중합체인 PEO(polyethylene oxide), PEG(polyethylene glycol) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법
7 7
제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 전이금속 산화물은,텅스텐(W) 산화물, 몰리브덴(Mo) 산화물 및 바나듐(V) 산화물 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법
8 8
제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 발광층은,PPV(poly(p-phenylenevinylene)), PPP(poly(p-phenylene)), PT (polythiophene), PF(polyfluorene), PFO(poly(9
9 9
제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 음극은, 금속이 이온화된 형태, 또는 금속이 액체 속에서 콜로이드화된 형태인 금속잉크 및 금속나노 성분을 포함한 금속나노잉크를 이용하여 진공에서 증착공정을 통해 형성되고,상기 금속은 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 칼슘(Ca), 마그네슘(Mg), 리튬(Li) 및 세슘(Cs) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법
10 10
제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 음극은, ITO(Indium Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide), AZO(Aluminum doped Zinc Oxide) 및 IZO(Indium Zinc Oxide) 중 어느 하나를 포함하는 투명 금속산화물을 이용하여 증착공정 또는 액상공정을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법
11 11
제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 기판은,PET(polyethylene terephthalate), PES(polyester), PT(polythiophene) 또는 PI(polyimide) 중 어느 하나인 플라스틱으로 형성되거나, 알루미늄 포일 또는 스테인레스 스틸 포일로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법
12 12
제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 전자수송층은, ZnO 나노파티클과 ZnO:Cs, ZnO:Li, ZnO:Mg, ZnO:Al, ZnO:Ca, ZnO:Na 및 ZnO:Ba 중 어느 하나의 화합물을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 정공수송층을 형성하는 단계는,전이금속 산화물이온과 알칼리 금속이온 또는 전이금속 산화물이온과 알칼리 토금속이온을 포함하는 수용액을 양이온 교환 수지에 통과시켜 양이온을 수소이온으로 치환시키는 단계;상기 치환시킨 수용액을 코팅하며, 코팅 후 가열을 통해 물을 증발시켜 전이금속 산화물층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육부 한국과학기술원 이공분야기초연구사업-도약(도전) 나노재료의 광열화학반응을 이용한 차세대 박막소자 제조 시스템 개발 및 응용