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가이드 패턴을 포함한 기재를 제공하는 단계; 상기 가이드 패턴을 포함한 기재 상에 블록 코폴리머 층을 형성하는 단계; 및상기 가이드 패턴에 따라 상기 블록 코폴리머의 조립을 유도하여, n/2개의 개별 영역(discrete domains)을 형성하는 단계를 포함하는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법으로서, 상기 가이드 패턴은, 90도 굴곡부(90-degree bending)를 가진 블록 코폴리머 패턴화 영역(patterning area)을 포함하고, 상기 90도 굴곡부의 외측 정점(outer apex)과 내측 정점(inner apex)은 각각 곡률 반경 r1 및 r2를 가지도록 둥글려지되(rounded), 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 폭(W)과 상기 곡률반경 r1 및 r2는 하기 부등식 1의 관계를 만족하는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법:[부등식 1]여기서, n은 상기 개별 영역들 간의 계면 개수(interfacial number)로서 짝수이고, W는 블록 코폴리머 패턴화 영역의 폭이고, r1은 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 외측 정점에서의 곡률 반경이고, r2는 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 내측 정점에서의 곡률 반경임
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제1항에 있어서,상기 n은 4 이상의 짝수이고, W는 하기 식을 만족하는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법:여기서, λo는 상기 블록 코폴리머의 벌크상에서 패턴 주기임
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제1항에 있어서,상기 가이드 패턴의 90도 굴곡부의 상기 내측 정점과 상기 외측 정점을 연결한 직선의 길이(Wd)는 상기 패턴화 영역의 폭(W)과 일치하는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 가이드 패턴은, 화학적 패터닝, 토포그래피 패터닝, 광학적 패터닝, 전기적 패터닝, 기계적 패터닝, 또는 이들의 조합에 의해 형성되는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 기재는 유기 단분자층 또는 폴리머 브러쉬 층을 포함하는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 개별 영역들은, 상기 기재에 수직하게 배향된 라멜라 구조물 또는 상기 기재에 수평하게 배향된 실린더 구조물을 포함하는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 개별 영역들의 일부를 선택적으로 제거하는 단계를 더 포함하는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 가이드 패턴은 서로 평행하게 배열된 2개 이상의 벤드 패턴 구성요소(bend pattern element), 서로 평행하게 배열된 조그 패턴 구성요소(jog pattern element), 또는 이들의 조합을 포함하는, 블록 코폴리머 층의 패턴 형성 방법
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기재 및 상기 기재 상에 하나 이상의 패턴으로 퇴적(deposit)된 폴리머를 포함하는 패턴화된 폴리머 구조물(patterned polymer structure)로서, 상기 퇴적된 폴리머의 패턴은 90도 굴곡부를 포함하고, 상기 퇴적된 폴리머의 패턴은, 상기 기재 상에서 가이드 패턴에 따라 블록 코폴리머의 자기 조립을 유도하여 n/2개의 개별 영역들을 형성하고 상기 개별 영역들 중 일부를 선택적으로 제거함에 의해 형성되며, 상기 가이드 패턴은 90도 굴곡부를 가진 블록 코폴리머 패턴화 영역을 포함하고, 상기 90도 굴곡부의 외측 정점과 내측 정점은 각각 곡률 반경 r1 및 r2를 가지도록 둥글려지되, 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 폭(W)과 상기 곡률 반경들(r1 및 r2)은 하기 부등식 1의 관계를 만족하는, 폴리머 구조물:[부등식 1]여기서, n은 상기 개별 영역들 간의 계면 개수로서, 짝수이고, W는 블록 코폴리머 패턴화 영역의 폭이고, r1은 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 외측 정점에서의 곡률 반경이고, r2는 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 내측 정점에서의 곡률 반경임
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제9항에 있어서,상기 n은 4 이상의 짝수이고, W는 하기 식을 만족하는 폴리머 구조물:여기서, λo는 상기 블록 코폴리머의 벌크 상에서 패턴 주기임
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제9항에 있어서,상기 개별 영역들은, 상기 기재에 수직하게 배향된 라멜라 구조물 또는 상기 기재에 수평하게 배향된 실린더 구조물을 포함하는, 폴리머 구조물
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제9항에 있어서,상기 기재는, 유기 단분자층 또는 폴리머 브러쉬 층을 포함하는, 폴리머 구조물
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제9항에 있어서,상기 퇴적된 폴리머의 패턴은 벤드 단위 패턴(bend unit pattern), 조그 단위 패턴(jog unit pattern), 또는 이들의 조합을 포함하는, 폴리머 구조물
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제9항에 있어서,상기 기재는, 폴리머, 금속, 금속 산화물, 금속 질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 폴리머 구조물
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90도 굴곡부를 가진 트랜치-패턴화 구조물로서, 상기 구조물은 폴리머, 금속, 금속 산화물, 금속 질화물, 또는 이들의 조합을 포함하고, 상기 구조물은 90도 굴곡부를 포함하는 나노 크기의 패턴(nano-sized pattern)을 가지고,상기 나노 크기의 패턴은, 기재 상에서 가이드 패턴에 따라 블록 코폴리머의 자기 조립을 유도하여(directing) n/2개의 개별 영역들을 형성하고 이들 중 일부를 선택적으로 제거하여 수득한 블록 코폴리머 패턴으로부터 전사(transfer)된 것이며, 상기 가이드 패턴은 90도 굴곡부를 가진 블록 코폴리머 패턴화 영역을 포함하고, 상기 90도 굴곡부의 외측 정점과 내측 정점은 각각 곡률 반경 r1 및 r2를 가지도록 둥글려지되, 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 폭(W)과 상기 곡률 반경들 (r1 및 r2)은 하기 부등식 1의 관계를 만족하는, 트랜치 패턴화 구조물:[부등식 1]여기서, n은 상기 개별 영역들 간의 계면 개수(interfacial number)로서, 짝수이고, W는 블록 코폴리머 패턴화 영역의 폭이고, r1은 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 외측 정점에서의 곡률 반경이고, r2는 상기 블록 코폴리머 패턴화 영역의 내측 정점에서의 곡률 반경임
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제15항에서,상기 n은 4 이상의 짝수이고, W는 하기 식을 만족하는, 90도 굴곡부를 가진 트랜치 패턴화 구조물:여기서, λo는 상기 블록 코폴리머의 벌크상에서 패턴 주기임
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제15항에 있어서,상기 나노 크기 패턴은 벤드 단위 패턴, 조그 단위 패턴, 또는 이들의 조합인, 90도 굴곡부를 가진 트랜치 패턴화 구조물
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제15항에 있어서,상기 구조물은, 실리콘, 구리, 크롬, 철, 알루미늄, 하프늄, 및 갈륨으로부터 선택된 금속, 이들 금속의 산화물, 이들 금속의 질화물, 유리, 절연성 폴리머 및 전도성 폴리머로부터 선택된 1종 이상의 재료를 포함하는, 90도 굴곡부를 가진 트랜치 패턴화 구조물
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제15항에 있어서,상기 나노 크기 패턴은, 선폭이 50nm 이하인 90도 굴곡부를 가진 트랜치 패턴화 구조물
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