맞춤기술찾기

이전대상기술

박막 트랜지스터

  • 기술번호 : KST2015143647
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본원은, 2차원 반도체 물질을 포함하는 채널층 및 2차원 물질인 그래핀을 포함하는 전극 및 2차원 절연물질을 포함할 수 있는 게이트 절연층을 포함하여 형성된 박막 트랜지스터에 관한 것이다.
Int. CL H01L 29/786 (2006.01) G02F 1/136 (2006.01)
CPC H01L 29/45(2013.01) H01L 29/45(2013.01) H01L 29/45(2013.01) H01L 29/45(2013.01)
출원번호/일자 1020110036008 (2011.04.19)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0118566 (2012.10.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 12

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이창구 대한민국 서울특별시 성동구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인엠에이피에스 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.04.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0288666-24
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090770-53
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.20 수리 (Accepted) 4-1-2012-5131828-19
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2012-5137236-29
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기재의 양 측면 상에 각각 형성된 그래핀 소스/드레인 전극;상기 그래핀 소스/드레인 전극과 전기적으로 연결되며, 2차원 반도체 물질을 포함하는 채널층;상기 채널층 상에 형성된 게이트 절연층; 및상기 게이트 절연층 상에 형성된 그래핀 게이트 전극:을 포함하는, 박막 트랜지스터
2 2
제 1 항에 있어서,상기 2차원 반도체 물질은 그래핀, 금속 디칼코게나이드(metal dichacogenide), BSCCO(bismuth strontium calcium copper oxide)의 반층(half-layer), CdTe의 단층, GaS, GaSe, GaS1-xSex, CdI2, PbI2, K2Al4(Si6Al2O28)(OH,F)4, Mg6(Si8O28)(OH)4 및 이들의 조합으로 이루진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
3 3
제 1 항에 있어서,상기 금속 디칼코게나이드는 몰리브덴디설파이드(MoS2), 몰리브덴디셀레나이드(MoSe2), 몰리브덴디텔루라이드(MoTe2), 텅스텐디설파이드(WS2), 텅스텐디셀레나이드(WSe2), 텅스텐디텔루라이드(WTe2), 니오븀디설파이드(NbS2), 니오븀디셀레나이드(NbSe2), 니오븀디텔루라이드(NbTe2), 탄탈륨디설파이드(TaS2), 탄탈륨디셀레나이드(TaSe2), 탄탈륨디텔루라이드(TaTe2), 하프늄디설파이드(HfS2), 하프늄디셀레나이드(HfSe2), 하프늄디텔루라이드(HfTe2), 티타늄디설파이드(TiS2), 티타늄디셀레나이드(TiSe2), 티타늄디텔루라이드(TiTe2) 및 이들의 조합으로 이루진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
4 4
제 1 항에 있어서,상기 기재는 플렉서블 기재 또는 경성 기재를 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
5 5
제 1 항에 있어서,상기 기재는 투명 플렉서블 기재 또는 투명 경성(rigid) 기재를 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
6 6
제 1 항에 있어서,상기 기재는 BN, Si, SiO2, Si3N4, SiON, SiOF, SiOC, HSQ(Hydrogensilsesquioxane), MSQ(methyl silsequioxane), 크세로겔(xerogel), 에어로겔(aerogel), 비정질 카본불화물(a-CF), 블랙 다이아몬드(black diamond), 플라스틱 기재, 및 이들의 조합으로 이루진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
7 7
제 1 항에 있어서,상기 기재로서 플렉서블 기재를 사용함으로써 상기 박막 트랜지스터가 유연성을 가지는 것인, 박막 트랜지스터
8 8
제 1 항에 있어서,상기 기재로서 투명 플렉서블 기재를 사용함으로써 상기 박막 트랜지스터가 투명성 및 유연성을 가지는 것인, 박막 트랜지스터
9 9
제 6 항에 있어서,상기 플라스틱 기재는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리실란(polysilane), 폴리실록산(polysiloxane), 폴리실라잔(polysilazane), 폴리카르보실란(polycarbosilane), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리메타크릴레이트(polymethacrylate), 폴리메틸아크릴레이트(polymethylacrylate), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리에틸아크릴레이트(polyethylacrylate), 폴리에틸메타크릴레이트 (polyethylmetacrylate), 사이클릭 올레핀 코폴리머(COC), 사이클릭 올레핀 폴리머(COP), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리이미드(PI), 폴리스타이렌(PS), 폴리아세탈(POM : Polyacetal PolyOxyMethylene), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에스테르설폰(PES), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리비닐리덴플로라이드(PVDF), 퍼플루오로알킬 고분자(PFA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 폴리머를 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
10 10
제 1 항에 있어서,상기 게이트 절연층은 2차원 절연성 물질을 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
11 11
제 10 항에 있어서,상기 2차원 절연성 물질은 h-BN을 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
12 12
제 1 항에 있어서,상기 게이트 절연층은 BN, AlN, TiN, HfN, ZrN, NbN, MoN, CrN, Si3N4, GaN, Al2O3, Bi2O3, CaO, CdO, CdS, CeO2, Cd2O3, In2O3, La2O3, MgF2, MgO, Nd2O3, Sb2O3, SiO2, SnO2, TiO2, ZnO, ZrO2, ZnS 및 이들의 조합으로 이루진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 박막 트랜지스터
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.