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포토레지스트용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015158130
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트용 스트리퍼 조성물은 불소계 용매 및 가용화제로 헥사메틸디실라잔과 알콕시실란을 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G03F 7/42 (2006.01.01) C09D 9/00 (2006.01.01) C08F 220/18 (2006.01.01) C11D 11/00 (2006.01.01) G03F 7/039 (2006.01.01) H01L 51/56 (2006.01.01)
CPC G03F 7/425(2013.01) G03F 7/425(2013.01) G03F 7/425(2013.01) G03F 7/425(2013.01) G03F 7/425(2013.01) G03F 7/425(2013.01) G03F 7/425(2013.01)
출원번호/일자 1020130147549 (2013.11.29)
출원인 엘지디스플레이 주식회사, 서울시립대학교 산학협력단, 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2113738-0000 (2020.05.15)
공개번호/일자 10-2015-0062665 (2015.06.08) 문서열기
공고번호/일자 (20200521) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.10.11)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
2 서울시립대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동대문구
3 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정병준 대한민국 경기 남양주시
2 김영미 대한민국 인천 남동구
3 허준영 대한민국 서울 마포구
4 이연경 대한민국 서울 강서구
5 박용민 대한민국 서울 강동구
6 이진균 대한민국 인천 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
2 서울시립대학교 산학협력단 서울특별시 동대문구
3 인하대학교 산학협력단 인천광역시 미추홀구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-1095511-99
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000287-10
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2017-5009116-18
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
7 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2018.10.11 수리 (Accepted) 1-1-2018-1003236-31
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
9 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.04.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
10 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.06.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0129037-09
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5191631-69
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.11.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0844595-12
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.01.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0058735-15
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2020-0058734-69
15 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2020.02.28 수리 (Accepted) 1-1-2020-0212495-10
16 등록결정서
Decision to grant
2020.05.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0311211-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
불소계 용매; 헥사메틸디실라잔과 알콕시실란으로 구성되는 가용화제; 및트리에틸아민(triethylamine)으로 이루어지는 반응 촉진제를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 스트리퍼 조성물
2 2
제1 항에 있어서,상기 알콕시실란은 하기 화학식 1로 나타나는 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 스트리퍼 조성물
3 3
제2 항에 있어서,상기 알콕시실란은 메톡시트리메틸실란(methoxytrimethylsilane)인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 스트리퍼 조성물
4 4
삭제
5 5
제1 항에 있어서,상기 가용화제 및 상기 반응 촉진제 중 적어도 하나 이상은 상기 불소계 용매 대비 1 내지 10% 함량으로 포함되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 스트리퍼 조성물
6 6
기판 상에 불소계 포토레지스트를 도포하는 단계;상기 불소계 포토레지스트를 선택적으로 노광하여 노광된 제1 영역 및 노광되지 않은 제2 영역을 형성하는 단계;상기 불소계 포토레지스트를 현상하여 상기 노광된 제1 영역에 해당하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;상기 포토레지스트 패턴이 형성된 기판 상에 유기물을 형성하는 단계; 및청구항 1-3 및 5 중 어느 한 항 기재의 포토레지스트용 스트리퍼 조성물을 이용하여 상기 포토레지스트 패턴을 스트립하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
제1 항에 있어서,상기 헥사메틸디실라잔은 상기 알콕시실란보다 소량인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 스트리퍼 조성물
12 12
제6 항에 있어서,상기 헥사메틸디실라잔은 상기 알콕시실란보다 소량인 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.