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미세섬유 정렬용 탄성 기판으로서, 상기 기판은 미세섬유 형성능이 있는 원료를 포함하거나 미세섬유를 포함하는 조성물을 로딩하는 마이크로채널; 및 상기 탄성 기판을 관통하는 하나 이상의 공동(void)을 포함하고, 상기 공동은 탄성 기판에 스트레인이 가해질 때 변형되는 것이며,상기 공동은 상기 마이크로채널과 분리된 것이고, 상기 공동은 상기 마이크로채널과 평행한 방향으로 배열되며, 상기 마이크로채널을 경계로 좌우 또는 상하에 대칭적 또는 비대칭적으로 형성된 것이고,상기 마이크로채널은 선형, 양 말단의 모양이 원형 또는 타원형인 선형, 또는 양 말단의 모양이 삼각형 이상의 다각형인 선형인, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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제1항에 있어서, 상기 공동은 원형, 타원형 및 삼각형 이상의 다각형 중 하나 이상인, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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제1항에 있어서, 상기 공동과 상기 마이크로채널은 오그제틱 구조(Auxetic structure)를 이루는 것인, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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제 1 항에 있어서, 상기 공동의 변형에 의해 상기 마이크로채널의 각 부분에 미치는 힘의 방향 또는 크기가 서로 다른, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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미세섬유 정렬용 탄성 기판으로서, 상기 기판은 미세섬유 형성능이 있는 원료를 포함하거나 미세섬유를 포함하는 조성물을 로딩하는 마이크로채널; 제1기판부; 및제1기판부와 탄성계수가 다른 제2기판부를 포함하고,상기 제1기판부 및 제2기판부는 서로 접촉되도록 배치된 것이고, 상기 마이크로채널은 상기 제1기판부 및 제2기판부에 걸쳐서 형성된 것인, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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제1항, 제4항 및 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 제1항, 제4항 및 제6항 중 어느 한 항의 상기 탄성 기판, 또는 제8항의 상기 제1기판부 또는 제2기판부의 재질은 탄성 고분자인, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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제9항에 있어서, 상기 탄성 고분자는 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane; PDMS), 폴리메틸메타클릴레이드(polymethylmethacrylate; PMMA), 폴리아크리레이트(polyacrylates), 폴리카보네이트(polycarbonates), 폴리실릭올레핀(polycyclic olefins), 폴리이미드(polyimides), 폴리스티렌(polystyrene), 셀룰로스아세테이트(cellulose acetate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(poly(ethyleneterephthalate; PETP), 천연 폴리이소프렌, 합성 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 클로로프렌 고무, 부틸고무, 스티렌-부타디엔 고무, 니트릴 고무, 에틸렌 프로필렌 고무, 에틸렌 프로필렌 다이엔 고무, 에피클로로하이드린 고무, 폴리아크릴 고무, 실리콘 고무, 플루오로실리콘 고무, 플루오로 탄성중합체, 폴리에테르 블록 아미드, 클로로술폰화 폴리에틸렌, 에틸렌-비닐 아세테이트 및 폴리우레탄으로 구성된 군에서 선택된 하나 이상인, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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제1항, 제4항 및 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마이크로채널은 접착제로 코팅된 것인, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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제11항에 있어서, 상기 접착제는 글루타르 알데히드, 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine), 폴리-L-라이신, 폴리-D-라이신, 및 폴리도파민으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인, 미세섬유 정렬용 탄성기판
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제1항, 제4항 및 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항의 미세섬유 정렬용 탄성기판 및 상기 탄성기판을 신장 또는 압축시키기 위한 장치를 포함하는, 미세섬유 정렬 장치
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(1) 제1항, 제4항 및 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항의 미세섬유 정렬용 탄성기판에 대하여 일정 방향의 스트레인을 가한 상태로 유지시키는 단계;(2) 미세섬유 형성능이 있는 원료를 포함하거나 미세섬유를 포함하는 조성물을 상기 탄성 기판 내의 마이크로채널에 로딩하는 단계; 및(3) 상기 스트레인을 배제하는 단계를 포함하는, 미세섬유 정렬 방법
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제14항에 있어서, 상기 (1) 단계의 상기 탄성 기판에 대하여 일정 방향의 스트레인을 가하는 것은, 상기 탄성 기판을 일정 길이 만큼 신장하거나 압축하는 것인, 미세섬유 정렬 방법
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제14항에 있어서, 상기 (1) 단계의 상기 탄성 기판에 대하여 일정 방향의 스트레인을 가하는 것은, 상기 탄성 기판 내의 공동의 모양, 배치 및 탄성 기판의 탄성계수 중 하나 이상에 따라 마이크로채널의 전부 또는 일부분에 대하여 일정한 방향의 스트레인을 가하는 것인, 미세섬유 정렬 방법
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제16항에 있어서, 상기 마이크로채널의 전부 또는 일부분에 대하여 일정한 방향의 스트레인을 가하는 것이, 상기 마이크로채널의 전부 또는 일부분에 신장(stretching)에 의한 스트레인을 일정한 방향으로 가하는 것일 경우, 상기 전부 또는 일부분에서는 스트레인의 방향과 수직이 되는 방향으로 미세섬유를 정렬 및 증식시키는 것인, 미세섬유 정렬 방법
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제16항에 있어서, 상기 마이크로채널의 전부 또는 일부분에 대하여 일정한 방향의 스트레인을 가하는 것이, 상기 마이크로채널의 전부 또는 일부분에 압축(compressing)에 의한 스트레인을 일정한 방향으로 가하는 것일 경우, 상기 전부 또는 일부분에서는 스트레인의 방향과 평행한 방향으로 미세섬유를 정렬 및 증식시키는 것인, 미세섬유 정렬 방법
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제14항에 있어서, 상기 (1) 단계의 스트레인은 상기 탄성기판의 폭 또는 길이에 대해, 스트레인을 가하기 전을 기준으로 5% 내지 80%까지 변형되도록 가하는 것인, 미세섬유 정렬 방법
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제14항에 있어서, 상기 (1) 단계의 스트레인은 △L/L의 절대값이 0
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제14항에 있어서, 상기 (2) 단계의 미세섬유 형성능이 있는 원료는 콜라겐, 라미닌(laminin), 파이브로넥틴(fibronectin), 엔탁틴(entactin), 히알루론산(hyaluronic acid), 나일론, 폴리아크릴산, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 폴리(에틸렌 비닐 아세테이트), 폴리스티렌, 폴리비닐알코올, 셀룰로오스 아세테이트, 폴리에틸렌 옥사이드, 엘라스틴, 젤라틴, 피브리노겐, 피브린, 알지네이트, 셀룰로오스, 실크 피브로인, 키토산, 및 액틴으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인, 미세섬유 정렬 방법
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제14항에 있어서 상기 (2) 단계 이후에 상기 조성물을 부분적으로 겔화(gelation)시키며 원료를 집적시켜 미세섬유 핵(nucleate) 또는 집적체(aggregate)를 형성시키는 단계를 더 포함하는, 미세섬유 정렬 방법
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제22항에 있어서 상기 미세섬유 핵(nucleate) 또는 집적체(aggregate)를 형성시키는 단계에서 형성 시간은 5분 내지 15분인, 미세섬유 정렬 방법
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제14항에 있어서, 상기 (3) 단계는 일정 방향의 스트레인을 배제함과 동시에 조성물을 완전히 겔로 경화시키는 단계인, 미세섬유 정렬 방법
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제24항에 있어서, 상기 경화에 소요되는 시간은 15분 내지 2시간인, 미세섬유 정렬 방법
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제14항의 미세섬유 정렬 방법에서 미세섬유 정렬용 탄성기판에 로딩되는 상기 조성물에 1종 이상의 세포 및 줄기세포 중 하나 이상을 더 포함시키고, 상기 조성물을 상기 탄성기판내의 마이크로채널에 로딩한 후 상기 1종 이상의 세포 및 줄기세포 중 하나 이상을 배양하는 단계를 포함하는, 세포 배양 방법
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제14항의 미세섬유 정렬 방법에 의하여 정렬된 미세섬유를 포함하는 탄성기판을 1종 이상의 세포 및 줄기세포 중 하나 이상이 포함된 세포 배양 배지 내에 배치하여 상기 세포 및 줄기세포 중 하나 이상을 배양하는 단계를 더 포함하는, 세포 배양 방법
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