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대면적의 전이금속 산화물 박막, 이의 제조 방법 및 이의 제조 장치

  • 기술번호 : KST2019034243
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 대면적의 전이금속 산화물 박막, 이의 제조 방법 및 이의 제조 장치에 관한 것으로, 상기 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 방법은 몰리브데넘(Mo) 박막의 소스 층을 포함하는 소스 기판을 준비하는 단계, 상기 소스 기판의 몰리브데넘 박막에 대향하여 이격 배치되며, 반데르발스 결합력을 갖는 2차원 물질의 기저 층을 포함하는 타깃 기판을 준비하는 단계, 상기 소스 기판의 몰리브데넘 박막으로부터 몰리브데넘 금속 원소를 증발시켜 상기 대향하는 기저 층을 향해 몰리브데늄 가스가 생성되도록, 상기 소스 기판을 가열하는 단계, 상기 소스 기판과 상기 타깃 기판 사이에 형성된 기체 통로를 통해 공급되는 산소 가스를 공급하는 단계, 상기 몰리브데넘 가스와 상기 산소 가스와 반응하여, α-MoO3을 생성하는 단계 및 상기 2차원 물질이 갖는 반데르발스 결합력을 이용하여, 상기 생성된 α-MoO3을 상기 기저 층의 피처리 표면 상에 성장시키는 단계를 포함한다.
Int. CL H01L 21/285 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01) H01L 21/28568(2013.01)
출원번호/일자 1020180087732 (2018.07.27)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2058293-0000 (2019.12.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20191220) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.07.27)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이관형 서울특별시 서대문구
2 김종훈 서울특별시 서대문구
3 대쉬재티스쿠마 인도, 암라바티,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김권석 대한민국 서울특별시 서초구 논현로**, B동 *층(양재동, 삼호물산빌딩)(아이피맥스특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2018-0744665-16
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.04.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.06.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0091055-96
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0617587-88
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2019-1070432-78
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.10.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-1070469-56
7 등록결정서
Decision to grant
2019.12.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0868798-24
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번호 청구항
1 1
몰리브데넘(Mo) 박막의 소스 층을 포함하는 소스 기판을 준비하는 단계; 상기 소스 기판의 몰리브데넘 박막에 대향하여 이격 배치되며, 반데르발스 결합력을 갖는 2차원 물질의 기저 층을 포함하는 타깃 기판을 준비하는 단계; 상기 소스 기판의 몰리브데넘 박막으로부터 몰리브데넘 금속 원소를 증발시켜 상기 대향하는 기저 층을 향해 몰리브데늄 가스가 생성되도록, 상기 소스 기판을 가열하는 단계; 상기 소스 기판과 상기 타깃 기판 사이에 형성된 기체 통로를 통해 공급되는 산소 가스를 공급하는 단계; 상기 몰리브데넘 가스와 상기 산소 가스와 반응하여, α-MoO3을 생성하는 단계; 및상기 2차원 물질이 갖는 반데르발스 결합력을 이용하여, 상기 생성된 α-MoO3을 상기 기저 층의 피처리 표면 상에 성장시키는 단계를 포함하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 반데르발스 결합력을 갖는 2차원 층상물질은 그래핀(graphene), 실리센(silicene), 흑린(black phosphorus), 보로펜(Borophene), 육방정계의 질화붕소(hexagonal boron nitride), 산화물, 전이금속칼코겐 또는 이들의 조합을 포함하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 소스 기판 및 상기 타깃 기판 중 적어도 하나는 실리콘, 유리, 석영, 사파이어, 그래파이트 및 그래핀으로 이루어진 군으로부터 선택된 단층 또는 2층 이상의 박막을 포함하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 가열 단계는, 400 ℃ 내지 600 ℃ 온도범위로 가열하는 단계 및 상기 가열을 일정 시간 동안 유지하는 어닐링 단계를 포함하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 산소 가스와 반응하여, 상기 몰리브데넘 박막의 표면 일부분 또는 전체에 몰리브데넘 산화물층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 몰리브데넘 가스는 상기 몰리브데넘 산화물층이 기화되면서 발생하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 산소 가스는 캐리어 가스와 함께 공급되고,상기 캐리어 가스는 헬륨, 질소, 아르곤 또는 이들의 조합을 포함하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 방법
7 7
제 1 항의 기재된 제조 방법에 의해 형성된 α-MoO3 결정상을 갖는 대면적 전이금속 산화물 박막을 반응 챔버 내에 준비하는 단계; 상기 반응 챔버 내에 황(S) 함유 가스를 공급하는 단계; 및 상기 α-MoO3 결정상에 포함된 산소 원자가 황 원자로 치환되도록 상기 α-MoO3 결정상을 갖는 대면적 전이금속 산화물 박막을 가열하여, MoS2 결정상을 형성하는 단계를 포함하는 MoS2 박막의 제조 방법
8 8
제 7 항에 있어서,상기 가열 온도는 600 ℃ 내지 800 ℃ 범위를 갖는 MoS2 박막의 제조 방법
9 9
제 7 항에 있어서,상기 황(S) 함유 가스는 황화수소(H2S), 이산화황(SO2) 및 육불화황(SF6)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함하는 MoS2 박막의 제조 방법
10 10
외부의 가스 공급 장치와 연결되어 있는 반응 챔버; 상기 반응 챔버를 가열하도록 구성되는 가열 부재; 및상기 반응 챔버 내부에 배치되는 박막 형성 유닛을 포함하며, 상기 박막 형성 유닛은,몰리브데넘(Mo) 박막의 소스 층을 포함하는 소스 기판;상기 소스 기판의 몰리브데넘 박막에 대향하여 이격 배치되며, 반데르발스 결합력을 갖는 2차원 물질의 기저 층을 포함하는 타깃 기판; 및상기 소스 기판과 상기 타깃 기판을 연결하는 연결 부재;를 포함하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 장치
11 11
제 10 항에 있어서,상기 소스 기판의 몰리브데넘 박막으로부터 몰리브데넘 금속 원소를 증발시켜 상기 대향하는 기저 층을 향해 몰리브데늄 가스가 생성되도록, 상기 소스 기판을 가열하고, 상기 소스 기판과 상기 타깃 기판 사이에 형성된 기체 통로를 통해 공급되는 산소 가스를 공급하고,상기 몰리브데넘 가스와 상기 산소 가스와 반응하여, α-MoO3을 생성하고,상기 2차원 물질이 갖는 반데르발스 결합력을 이용하여, 상기 생성된 α-MoO3을 상기 기저 층의 피처리 표면 상에 성장시키도록 제어하는 제어 유닛을 더 포함하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 장치
12 12
제 10 항에 있어서,상기 연결 부재는 제 1 서브 연결부와 제 2 서브 연결부를 포함하며,상기 제 1 서브 연결부와 상기 제 2 서브 연결부는 상기 소스 기판과 상기 타깃 기판 사이에 기체가 흐르는 통로를 형성하도록, 상기 소스 기판 상에 이격되어 배치되고, 상기 타깃 기판을 지지하는 대면적 전이금속 산화물 박막의 제조 장치
13 13
반데르발스 결합력을 갖는 2차원 물질의 기저 층을 포함하는 기판; 및 상기 2차원 물질이 갖는 반데르발스 결합력에 의해 성장된 α-MoO3 결정상을 갖는 박막을 포함하는 대면적 전이금속 산화물 박막
14 14
제 13 항에 있어서,상기 α-MoO3 결정상을 갖는 박막은 순도 90 % 내지 95 %의 고순도를 가지고, 단결정을 가지며, 90 % 내지 99
15 15
제 13 항에 있어서,상기 대면적 전이금속 산화물 박막은 전계효과 트랜지스터의 절연층 또는 유전층, 축전지의 충전 물질, 배터리의 음극물질, 다이오드, 태양 전지 또는 발광 다이오드의 정공-주입층, 도펀트의 레저보어, 센서 및 촉매 중 어느 하나로 사용되는 대면적 전이금속 산화물 박막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.