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금속 시드;상기 금속 시드의 일 부분에만 부착된, 도파민으로 개질화된 자극반응성 공중합체로 구성되는 나노갭; 및상기 나노갭을 둘러싸는 금속 쉘;을 포함하여 이루어지는 자극반응성을 가지는 이중금속 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 금속 시드 및 금속 쉘에서, 상기 시드 및 쉘 금속은, 각각, 금, 은, 구리 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 상기 코어 금속과 쉘 금속은 서로 동일하지 않은 것인, 이중금속 나노구조체
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제1항에 있어서,상기 자극반응성 공중합체는 친수성 고분자 블록 및 자극반응성 고분자 블록으로 구성된 이중블록 공중합체인 이중금속 나노구조체
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제3항에 있어서, 상기 친수성 고분자 블록은 폴리아크릴릭 액시드[poly(acrylic acid)], 폴리메타크릴릭 액시드[poly (metacrylic acid)], 폴리이타코닉 액시드[poly (itaconic acid)], 폴리말레익 액시드[poly (maleic acid)] 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고;상기 자극반응성 고분자는 폴리(N-이소프로필아크릴아마이드)[poly(N-isopropylacrylamide): polyNIPAM], 폴리(N-디에틸 아크릴아마이드)[poly (N,N'-diethyl acrylamide): polyDEAAm], 폴리(디메틸아미노 에틸 메타크릴레이트)[poly (dimethylamino ethyl methacrylate): polyDMAEMA], 폴리(N-하이드록시메틸 프로필 메타아크릴아마이드)[poly (N-(L)-(1-hydroxymethyl) propyl methacrylamide)], 폴리[올리고(에틸렌글리콜)메틸에테르메타크릴레이트][Poly[oligo(ethylene glycol) methyl ether methacrylate]: POEGMA], 폴리(2-비닐 피리딘)[poly(2-vinyl pyridine): P2VP], 폴리(4-비닐 피리딘) [poly(4-vinyl pyridine) : P4VP] 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인, 이중금속 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 자극반응성 공중합체의 하한 임계용액 온도 미만에서 상기 나노갭의 크기가 증가하고 상기 자극반응성 고분자의 하한 임계용액 온도 이상에서 상기 나노갭의 크기가 감소함으로써, 상기 나노갭의 크기가 온도에 의해 조절되는 것인, 이중금속 나노구조체
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제1항에 있어서,상기 나노갭에 라만 염료를 더 포함하여 구성되는 것인, 이중금속 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 이중금속 나노구조체는 편심 형태 또는 헤테로다이머 형태인, 이중금속 나노구조체
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제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 이중금속 나노구조체가 응집된 이중금속 나노클러스터 구조체
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제6항의 이중금속 나노구조체를 이용한 표면-증강 라만 산란(SERS) 기반 표적 물질 검출용 금속 나노프로브
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i) 시드 금속을 준비하고;ⅱ) 상기 시드 금속에 소분자 리간드 및 티올 말단기를 가지는 자극반응성 공중합체를 폴리머성 리간드로 첨가하여 상기 금속 시드에 첨가하고;iii) 상기 소분자 리간드와 폴리머성 리간드가 상기 금속 시드 상에 경쟁적 배위결합을 하고, 상기 시드 금속과 상기 티올기가 결합하여 상기 자극반응성 공중합체가 상기 금속 시드의 일부에만 증착되어 나노갭을 형성하고;iv) 상기 iii)의 나노갭이 형성된 시드 금속 혼합물에 도파민을 첨가하여 상기 자극반응성 공중합체에 카테콜기를 도입하고; 그리고v) 상기 시드 금속-도파민으로 개질화된 자극반응성 공중합체에 금속 전구체를 첨가하여, 환원제 없이, 카테콜-매개 레독스 반응에 의해 카테콜이 산화되고 금속 전구체 이온을 환원시켜서 금속 쉘을 형성함으로써, 금속 시드-나노갭-금속 쉘로 이루어지는 이중금속 나노구조체를 얻는;단계를 포함하는, 자극반응성을 가지는 이중금속 나노구조체의 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 ii) 단계에서, 상기 소분자 리간드와 폴리머성 리간드의 첨가 비율을 조절함으로써 편심 또는 헤테로다이머 형태의 이중금속 나노구조체를 제조하는 것인, 이중금속 나노구조체의 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 소분자 리간드는 디에틸아민(diethylamine), ATP(4-aminothiophenol), BDT(1,4-benzenedithiol), MBA(4-mercaptobenzoic acid), MBIA(2 -mercaptobenzoimidazole-5-carboxylic acid)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고,상기 폴리머성 리간드인 자극반응성 공중합체는 친수성 고분자 블록 및 자극반응성 고분자 블록으로 구성된 이중블록 공중합체인, 이중금속 나노구조체의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 친수성 고분자 블록은 폴리아크릴릭 액시드 [poly(acrylic acid)], 폴리메타크릴릭 액시드[poly (metacrylic acid)], 폴리이타코닉 액시드[poly (itaconic acid)], 폴리말레익 액시드[poly (maleic acid)] 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고;상기 자극반응성 고분자는 폴리(N-이소프로필아크릴아마이드)[poly(N-isopropylacrylamide): polyNIPAM], 폴리(N-디에틸 아크릴아마이드)[poly (N,N'-diethyl acrylamide): polyDEAAm], 폴리(디메틸아미노 에틸 메타크릴레이트)[poly (dimethylamino ethyl methacrylate): polyDMAEMA], 폴리(N-하이드록시메틸 프로필 메타아크릴아마이드)[poly (N-(L)-(1-hydroxymethyl) propyl methacrylamide)], 폴리[올리고(에틸렌글리콜)메틸에테르메타크릴레이트][Poly[oligo(ethylene glycol) methyl ether methacrylate]: POEGMA], 폴리(2-비닐 피리딘)[poly(2-vinyl pyridine): P2VP], 폴리(4-비닐 피리딘) [poly(4-vinyl pyridine) : P4VP] 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인, 이중금속 나노구조체의 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 v) 단계 이후에, 온도를 조절하여 상기 나노갭의 크기를 조절하는 단계를 더 포함하는, 이중금속 나노구조체의 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 v) 단계에서, 라만 염료를 더 첨가하여 금속 시드-라만 염료가 결합된 나노갭-금속쉘로 이루어지는 이중금속 나노구조체를 얻는 것인, 이중금속 나노구조체의 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 금속 시드 및 금속 쉘에서, 상기 시드 및 쉘 금속은, 각각, 금, 은, 구리 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 상기 코어 금속과 쉘 금속은 서로 동일하지 않은 것인 이중금속 나노구조체의 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 v) 단계 이후에, 염 용액을 첨가하여 염-유도 반응에 의해 이중금속 나노구조체를 응집시켜서 이중금속 나노클러스터를 형성하는 단계를 더 포함하는, 이중금속 나노구조체의 제조 방법
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