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원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법에 있어서, 탐침과 기판 사이의 분위기 온도를 30 ∼ 100 ℃로 유지시킨 접촉형 또는 반-접촉형 원자력 힘 현미경을 사용하여 상기 기판의 표면에 산화물을 패터닝하는 것을 특징으로 하는, 원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법
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원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법에 있어서, 탐침과 기판 사이에 실효치가 1 ∼ 20 V인 교류 바이어스 전압이 인가된 반-접촉형 원자력 힘 현미경을 이용하여 상기 기판의 표면에 산화물을 패터닝하는 것을 특징으로 하는, 원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법
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제 2 항에 있어서, 상기 교류 바이어스 전압은 실효치가 1 ∼ 10 V인 것을 특징으로 하는 원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 기판은 실리콘 기판 또는 금속 박막 기판인 것을 특징으로 하는 원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 기판은 레지스트 물질이 증착된 기판인 것을 특징으로 하며, 레지스트 물질은 테트라티아풀바렌(tetrathiafulvalene, TTF), 테트라시아노퀴노디메탄(tetracyanoquinodimethane, TCNQ), 포토 산 제너레이터(photo acid generator, PAG(술폰산염 트리플레이트계)) 또는 옥타데실-트리-클로로실란(octadecyl-tri-chlorosilane, OTS)인 것을 특징으로 하는 원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 원자력 힘 현미경의 리소그래피 속도를 100 ∼ 500 ㎛/s로 설정하는 것을 특징으로 하는 원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 원자력 힘 현미경의 리소그래피 속도를 100 ∼ 500 ㎛/s로 설정하는 것을 특징으로 하는 원자력 힘 현미경 리소그래피를 이용한 나노 구조물의 제조 방법
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