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일면이 평평한 웨이퍼; 및상기 웨이퍼의 일면으로 돌출되어 형성되되, 일정 간격으로 병렬 배열된 복수의 렌즈를 포함하되, 상기 복수의 렌즈는 동일 직경을 가지되, 서로 다른 두께와 곡률을 가져, 서로 다른 초점거리를 형성하는 것을 특징으로 하는 다초점 마이크로렌즈
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제 1 항에 있어서, 상기 복수의 렌즈는 렌즈의 직경이 10㎛ 내지 500㎛ 범위 내이고, 렌즈의 F값(F=초점거리/직경)이 0
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제 1 항에 있어서, 상기 복수의 렌즈는 렌즈의 두께가 0
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S10) 웨이퍼의 일면에 제1포토레지스트가 도포되어 코팅되고, 상기 제1포토레지스트가 소부처리(Soft bake)되어, 상기 웨이퍼 상에 싱글층(single layer)이 형성되는 단계; S20) 제1패턴을 가진 제1포토마스크를 통과한 UV광에 의해, 상기 싱글층이 상기 제1패턴으로 노광처리되어, 상기 제1패턴에 의한 마이크로포스트 어레이가 상기 싱글층에 형성되는 단계;S30) 상기 싱글층으로 제2포토레지스트가 도포되어 코팅되고, 상기 제2포토레지스트가 소부처리(Soft bake)되어 더블층(double layer)이 형성되는 단계;S40) 제2패턴을 가진 제2포토마스크를 통과한 UV광에 의해, 상기 더블층이 상기 제1패턴 중 일부와 중첩되는 패턴인 상기 제2패턴으로 노광처리되어, 상기 제2패턴에 의한 마이크로포스트 어레이가 상기 더블층에 형성되는 단계;S50) 상기 웨이퍼의 일면으로 현상액이 도포되고, 상기 현상액에 의해 상기 제1패턴과 상기 제2패턴을 제외한 부분에서 상기 제1포토레지스트와 상기 제2포토레지스트가 제거되면서, 상기 더블층의 두께만큼 단차지게 서로 다른 두께를 가진 복수의 마이크로포스트가 상기 웨이퍼의 일면에 마련되는 단계; 및S60) 상기 복수의 마이크로포스트에 대한 열적 리플로우(thermal reflow)을 통해, 상기 복수의 마이크로포스트가 서로 다른 두께와 곡률을 가진 복수의 렌즈로 형성되는 단계를 포함하여, 상기 S50단계에서, 상기 복수의 마이크로포스트는 상기 제1패턴에 의한 마이크로포스트 어레이와 상기 제2패턴에 의한 마이크로포스트 어레이를 형성하고, 상기 S60단계에서, 상기 복수의 렌즈는 동일 직경을 가지되, 서로 다른 두께와 곡률로, 서로 다른 초점거리를 가진 렌즈 어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 다초점 마이크로렌즈의 제조방법
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제 4 항에 있어서, 상기 S50 단계 전에, S40-1) 상기 제2포토레지스트 상으로, 포토레지스트가 도포되어 코팅되고, 상기 포토레지스트가 소부처리(Soft bake)되어, 상기 웨이퍼 상에 N번째 층(N layer)이 형성되는 단계; 및S40-2) N패턴을 가진 포토마스크를 통과한 UV광에 의해, 상기 N번째 층이 상기 N패턴으로 노광처리되는 단계를 더 포함하고, 상기 N패턴은 상기 포토레지스트에 의해 상기 N번째 층에 마이크포스트어레이를 형성하기 위한 패턴인 것을 특징으로 하는 다초점 마이크로렌즈의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 S40-1단계와 상기 S40-2단계의 반복 진행 횟수에 따라, 상기 복수의 마이크로포스트는 상기 싱글층의 두께, 상기 더블층의 두께 내지 상기 N번째층의 두께만큼 다단으로 단차지게 마련되고, 상기 S60단계의 열적 리플로우를 통해 서로 다른 두께 및 곡률를 가진 복수의 렌즈로 제작되고, 상기 복수의 렌즈는 N개의 서로 다른 초점거리를 가지는 렌즈어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 다초점 마이크로렌즈의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 복수의 렌즈는 상기 렌즈의 두께가 0
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제 5 항에 있어서, 상기 복수의 렌즈는 렌즈의 직경이 10㎛ 내지 500㎛ 범위 내이고, 렌즈의 F값(F=초점거리/직경)이 0
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제 4 항에 있어서, 상기 S60 단계에서, 상기 열적 리플로우는 100℃ 내지 150 ℃ 사이에서 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 다초점 마이크로렌즈의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 제1포토레지스트, 상기 제2포토레지스트 및 상기 N번째 층에 도포되는 포토레지스트는, 상기 S60단계에서 열적 리플로우를 통해 렌즈 성형이 가능한 열가소성(thermoplastic)을 가진 것을 특징으로 하는 다초점 마이크로렌즈의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 제1포토레지스트, 상기 제2포토레지스트 및 상기 N번째 층에 도포되는 포토레지스트는, 페놀포름알데히드(phenolformaldehyde), 폴리메틸메타크릴레이트(Polymethyl Methacrylate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리올레핀(polyolefine), 셀룰로오스아세테이트 부티레이트(Cellulose Acetate Butyrate) 또는 폴리스티렌(polystyrene) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다초점 마이크로렌즈의 제조방법
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