요약 | 본 발명은 전자 사이크로트론 공명(Electro Cyclotron Resonance, ECR) 유기화학 증착법에 의하여, 광투과율이 우수하고, 계면과의 접착력 및 전도도가 우수한 투명도전 아연주석복합산화박막 ZnxSnyOz의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 제조방법에 의해 안정된 아연주석복합산화박막에서 물리적증착법에서 얻어질 수 있는 ZnSnO3, Zn2SnO4 보다 전자사이크로트론 화학증착법에서 훨씬 전기적 전도도가 우수한 아연주석복합산화박막의 화합물을 합성할 수 있어, 투명발열체를 비롯한 각종 전기 제품의 소자로 광범위하게 응용될 수 있을 것으로 기대된다. 아연주석, 플라즈마 화학 증착법, 투명박막, 이온 보호, 투명발열체 |
---|---|
Int. CL | H01B 1/02 (2006.01) B01J 19/08 (2006.01) C01G 19/00 (2006.01) C01G 9/00 (2006.01) |
CPC | H01B 1/08(2013.01) H01B 1/08(2013.01) H01B 1/08(2013.01) H01B 1/08(2013.01) H01B 1/08(2013.01) H01B 1/08(2013.01) H01B 1/08(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020090062238 (2009.07.08) |
출원인 | 한국과학기술연구원 |
등록번호/일자 | 10-1152621-0000 (2012.05.29) |
공개번호/일자 | 10-2010-0035092 (2010.04.02) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20120605) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 |
대한민국 | 1020080094223 | 2008.09.25
|
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2009.07.08) |
심사청구항수 | 6 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술연구원 | 대한민국 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이중기 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 |
2 | 조병원 | 대한민국 | 서울특별시 은평구 |
3 | 장원영 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 |
4 | 우주만 | 대한민국 | 서울특별시 노원구 |
5 | 박지훈 | 대한민국 | 경상남도 밀양시 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한라특허법인(유한) | 대한민국 | 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술연구원 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.07.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0416609-09 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2009.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5247056-16 |
3 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.09.01 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.10.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0063666-88 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.04.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0212303-10 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.06.10 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0439571-94 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.06.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0439573-85 |
8 | 최후의견제출통지서 Notification of reason for final refusal |
2011.12.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0752365-40 |
9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.12.29 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2011-1051316-03 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.12.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-1051315-57 |
11 | 등록결정서 Decision to grant |
2012.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0299952-16 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.02.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5022002-69 |
13 | 대리인선임신고서 Report on Appointment of Agent |
2015.12.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-5033520-42 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 투명도전 아연주석복합산화박막 ZnxSnyOz 의 제조 방법에 있어서,전자 사이크로트론 공명에 의해 대면적 범위에서 고밀도 플라즈마 이온을 형성하는 단계;상기 플라즈마 이온이 형성된 하단에 금속 전구체를 공급하여 과응축 금속이온을 형성하는 단계; 및이온 보호 덮개와 측면판으로 이루어진 이온 보호 금속 실드(IPMS: Ion Protection Metal Shield)가 부착된 반응기내에서 상기 플라즈마 이온과 상기 과응축 금속이온이 고분자 기질 표면에 화학 결합되어 증착되는 단계 를 포함하며 상기 x는 0 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 제 1 항에 있어서, 상기 금속 전구체는 주석(Sn) 및 아연(Zn) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 금속이 함유된 유기금속 화합물 또는 금속 산화물인 것을 특징으로 하는 투명도전 아연주석복합산화박막 ZnxSnyOz의 제조방법 |
4 |
4 제 1 항에 있어서, 25 ~ 400℃에서 반응이 진행되는 것을 특징으로 하는 투명도전 아연주석복합산화박막 ZnxSnyOz의 제조방법 |
5 |
5 제 1 항에 있어서, 상기 투명도전 아연주석복합산화박막은 전기전도도가 50 ~ 500 [Ω |
6 |
6 마이크로파발생기(Microwave generator)(1), 석영판(quartz plate)(2) 및 전자석 전류 제어장치(magnetic current control system)(3)로 구성된 전자사이크로트론 공명 플라즈마(Electron Cyclotron Resonance Plasma) 영역; 아연화합물 전구체가 담겨있는 항온조(7), 주석화합물 전구체가 담겨있는 항온조(8) 및 전구체 운반 기체(9)로 구성된 전구체 공급 장치; 롤러(4), 이온 보호 덮개(5A)와 측면판(5B)으로 이루어진 이온 보호 금속 실드(IPMS: Ion Protection Metal Shield)(5), 기판 하단 구조물(6) 및 샤우어링(Shower Ring)(12)으로 구성된 반응증착영역;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명도전 아연주석복합산화박막 ZnxSnyOz(x는 0 |
7 |
7 삭제 |
8 |
8 삭제 |
9 |
9 삭제 |
10 |
10 제 1항 및 제 3항 내지 제 5항 중에서 선택된 어느 한 항의 방법으로 제조된 투명도전 아연주석복합산화박막이 고분자 표면에 증착된 것을 특징으로 하는 발열체 |
지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US20100075177 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2010075177 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 교육과학부 | 한국과학기술연구원 | 핵심역량심화과제 | ECR 화학증착법을 이용한 차세대전지용 핵심소재 원천기술개발 |
특허 등록번호 | 10-1152621-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20090708 출원 번호 : 1020090062238 공고 연월일 : 20120605 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20120523 청구범위의 항수 : 6 유별 : H01B 1/02 발명의 명칭 : 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학증착법에 의해 제조된 투명도전 아연주석복합산화박막 및 이의 제조방법과 이의 투명발열체 존속기간(예정)만료일 : 20170530 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 139,500 원 | 2012년 05월 30일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 120,400 원 | 2015년 04월 30일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 120,400 원 | 2016년 04월 29일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.07.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0416609-09 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2009.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5247056-16 |
3 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.09.01 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 | 2010.10.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0063666-88 |
5 | 의견제출통지서 | 2011.04.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0212303-10 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.06.10 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0439571-94 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.06.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0439573-85 |
8 | 최후의견제출통지서 | 2011.12.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0752365-40 |
9 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.12.29 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2011-1051316-03 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.12.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-1051315-57 |
11 | 등록결정서 | 2012.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0299952-16 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.02.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5022002-69 |
13 | 대리인선임신고서 | 2015.12.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-5033520-42 |
기술번호 | KST2014049302 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 한국과학기술연구원 |
기술명 | 전자싸이크로트론 플라즈마 화학증착법에 의해 제조된 산화아연주석복합계 투명도전 복합막의 제조방법 |
기술개요 |
본 발명은 전자 사이크로트론 공명(Electro Cyclotron Resonance, ECR) 유기화학 증착법에 의하여, 광투과율이 우수하고, 계면과의 접착력 및 전도도가 우수한 투명도전 아연주석복합산화박막 ZnxSnyOz의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 제조방법에 의해 안정된 아연주석복합산화박막에서 물리적증착법에서 얻어질 수 있는 ZnSnO3, Zn2SnO4 보다 전자사이크로트론 화학증착법에서 훨씬 전기적 전도도가 우수한 아연주석복합산화박막의 화합물을 합성할 수 있어, 투명발열체를 비롯한 각종 전기 제품의 소자로 광범위하게 응용될 수 있을 것으로 기대된다. 아연주석, 플라즈마 화학 증착법, 투명박막, 이온 보호, 투명발열체 |
개발상태 | 특허만신청(등록) |
기술의 우수성 | |
응용분야 | |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 라이선스 |
사업화적용실적 | 없음 |
도입시고려사항 | 없음 |
과제고유번호 | 1345097790 |
---|---|
세부과제번호 | 2E21260 |
연구과제명 | 2009년도핵심역량심화과제 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 기초기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국과학기술연구원 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200501~201012 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기타 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345097790 |
---|---|
세부과제번호 | 2E21260 |
연구과제명 | 2009년도핵심역량심화과제 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 기초기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국과학기술연구원 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200501~201012 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기타 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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