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폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법으로서,(a) 하부 폴리머 기질에 미세 구조를 형성하는 단계;(b) TiO2를 기질에 코팅시켜 TiO2 패턴화하는 단계;(c) 상부 폴리머 기질을 하부 폴리머 기질과 본딩(bonding)하는 단계; 및(d) UV를 조사하여 TiO2가 코팅된 지역을 친수성으로 전환시키는 단계를 포함하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 폴리머는 시클로올레핀코폴리머(Cyclo olefin copolymer:COC), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate:PMMA), 폴리카보네이트(polycarbonate:PC), 시클로올레핀폴리머(cyclo olefin polymer:COP), 액체 결정 폴리머(liquid Crystalline Polymers:LCP), 폴리아미드(polyamide:PA), 폴리에틸렌(polyethylene:PE), 폴리이미드(polyimide:PI), 폴리프로필렌(polypropylene:PP), 폴리페닐렌에테르(polyphenylene ether:PPE), (polystyrene:PS), 폴리옥시메틸렌(polyoxymethylene:POM), 폴리에테르에테르케톤(polyetheretherketone:PEEK), 폴리에테르술폰(polyethersulfone:PES), 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylenephthalate:PET), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene:PTFE), 폴리비닐클로라이드(polyvinylchloride:PVC), 폴리비닐리덴플루오라이드(polyvinylidene fluoride:PVDF), 폴리부틸렌테레프탈레이트(polybutyleneterephthalate:PBT), 플루오르화에틸렌프로필렌(fluorinated ethylenepropylene:FEP) 및 퍼플루오르알콕시알칸(perfluoralkoxyalkane:PFA)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계의 TiO2의 코팅은 액상 침적(Liquid phase deposition: LPD), 증발, 스퍼터링(sputtering) 및 화학증기 증착(chemicla vapor deposition: CVD) 방법으로 이루어진 군에서 선택되는 방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 TiO2의 LPD는 70~90℃에서 실시하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제1항에 있어서,(b)단계 이전에 하부 폴리머 기질에 Ti 또는 TiO2를 박막으로 코팅하여 시드층(seed layer)을 만드는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 코팅 방법은 스퍼터링(sputtering) 방법인 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 코팅된 Ti 또는 TiO2 박막은 10~100nm인 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계의 상부 폴리머 기질은 유체를 로딩시킬 입구 홀(inlet hole) 및 출구 홀(outlet hole)을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계의 본딩은 100~180℃에서 열 본딩하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 폴리머 기반의 미세유체 장치
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