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구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법

  • 기술번호 : KST2015160446
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 구리배선을 형성함에 있어서, 구리 무전해 도금을 통한 초등각 전착 시, 패턴 크기에 따른 전착량의 편차를 줄이기 위한 단차평탄화 (Leveling) 방법에 관한 것이다. 구리 무전해 도금에서 3-mercapto-1-propanesulfonate(MPSA), bis-(3-sulfopropyl)-disulfide(SPS), 3-N,N-Dimethylaminodithiocarbamoyl-1-propanesulfonic acid (DPS) 등과 같이 농도에 따라 가속 또는 감속의 특성을 보이는 첨가제를 사용하여, 다단계로 전착을 수행함으로써 패턴 크기에 따른 전착량의 편차를 줄여 패턴 크기와 상관없이 동시에 평탄하게 구리 채움을 수행할 수 있는 효과가 있다.구리 무전해 도금, 반도체 배선, 가속제, 초등각 전착, 단차평탄화 (Leveling), 다단계 전착
Int. CL H01L 21/208 (2006.01) H01L 21/288 (2006.01)
CPC H01L 21/7684(2013.01) H01L 21/7684(2013.01) H01L 21/7684(2013.01)
출원번호/일자 1020060091238 (2006.09.20)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0788279-0000 (2007.12.17)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080102) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.09.20)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김재정 대한민국 서울 관악구
2 이창화 대한민국 서울 강동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허진석 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로***, **,**층(역삼동, 동희빌딩)(특허법인아주김장리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2006-0679528-30
2 선행기술조사의뢰서(내부)
Request for Prior Art Search (Inside)		 2007.06.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.06.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2007-0032737-84
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0349145-32
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2007.06.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0473158-10
6 의견서
Written Opinion		 2007.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2007-0473145-16
7 등록결정서
Decision to grant		 2007.09.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0492153-18
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다양한 크기의 패턴영역들을 가지는 기판에서 구리 무전해 도금에 의해 상기 패턴영역이 평탄한 단차를 갖도록 채우는 방법에 있어서,(a) 고농도의 가속제를 포함하는 구리 무전해 도금 용액을 사용하여 상기 기판에 초등각 전착(superconformal deposition)을 수행하는 단계와;(b) 상기 가속제를 제거하는 단계와;(c) 상기 고농도의 가속제보다 낮은 농도의 가속제를 포함하는 구리 무전해 도금 용액을 사용하여 추가적으로 초등각 전착을 수행하는 단계;를 구비하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 (a) 및 (c) 단계에서의 구리 무전해 도금 용액에, 황산구리, 에틸렌디아민사아세트산(EDTA), 포름알데히드(HCHO), pH 조절제로서 수산화칼슘 및 2,2'-디피리딜이 포함되는 것을 특징으로 하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 가속제가 3-mercapto-1-propanesulfonate(MPSA), bis-(3-sulfopropyl)-disulfide(SPS), 3-N,N-Dimethylaminodithiocarbamoyl-1-propanesulfonic acid (DPS)로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서의 가속제의 농도가 1
5 5
제1항에 있어서, 상기 (c) 단계에서 가속제의 농도가 0
6 6
제2항에 있어서, 상기 (a) 및 (c) 단계들에서의 상기 2,2'-디피리딜의 농도가 0
7 7
제1항에 있어서, 상기 (a) 및 (c) 단계들에서의 상기 구리 무전해 도금 용액의 온도가 15 내지 80℃인 것을 특징으로 하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 가속제를 제거하는 (b) 단계가, 15 내지 100℃의 이온 제거수에서 10초 내지 10분 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 가속제를 제거하는 (b) 단계가, 희석된 암모니아수나 과산화수소가 포함된 암모니아수, 또는 시트르산 계열의 용액을 단독 또는 과산화수소와 함께 사용하여 10 초 내지 10분 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 다양한 크기의 패턴영역들을 가지는 기판이, Ta, TaN, Ti, TiN 및 Ru로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나의 막이 확산 방지막으로서 형성되어 있는 다양한 크기의 트랜치(trench), 비아(via), 및 다마신 구조를 갖는 것임을 특징으로 하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
11 11
제1항에 있어서, 상기 (a) 내지 (c) 단계를 적어도 2회 이상 반복하는 것을 특징으로 하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
12 12
제2항에 있어서, 구리 무전해 도금 용액에 상기 황산구리가 5 내지 8 g/L, 에틸렌디아민사아세트산(EDTA)가 14 내지 18 g/L, 포름알데히드(HCHO)가 2 내지 3
13 13
제12항에 있어서, 상기 구리 무전해 도금 용액의 pH가 12 내지 14인 것을 특징으로 하는 구리 무전해 도금에서의 단차평탄화 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.